陳曉東 麥麗碧 許潔瑜 肖紅新
(廣東省工業(yè)分析檢測中心,廣州510650)
鈷鉻合金最早用于制作人工關(guān)節(jié),具有杰出的生物相容性,由于其不含對(duì)人體有害的鎳元素與鈹元素,安全可靠且價(jià)格合理,目前已廣泛用到口腔領(lǐng)域。鈷鉻烤瓷合金主要成分為鈷、鉻、鉬、鎢,其中鈷的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為55%~68%,鉻的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為25%~32%,鎢的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為6%~10%,鉬的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為4%~6%,合金中常含有少量的雜質(zhì)元素銅、鎳、硅、鎵、鋁、鉭、銠、錳、硼、碳等[1]。其中雜質(zhì)元素硅對(duì)鈷鉻烤瓷合金的晶粒成型、鑄造及耐腐蝕性能影響較大,所以應(yīng)嚴(yán)格控制合金中硅的含量。因此鈷鉻烤瓷合金中硅量的準(zhǔn)確測定就顯得十分重要。目前測定硅的常用方法有重量法[2-3]、滴定法[4-5]、X射線熒光光譜法[6]、電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法(ICP-AES)[7-10]、電 感 耦 合 等 離 子 體 質(zhì) 譜 法 (ICPMS)[11-12]和分光光度法[13-15]等。分光光度法因其操作簡單,所用儀器價(jià)格低而被廣泛應(yīng)用。
鈷鉻烤瓷合金具有較強(qiáng)的金屬穩(wěn)定性和耐腐蝕性,在王水和氫氟酸介質(zhì)中經(jīng)高溫高壓才能分解完全。本文采用高壓密閉消解法分解試樣,鉬藍(lán)分光光度法[16-17]測定鈷鉻烤瓷合金中的硅量。
Secura225D-1CN萬分之一電子分析天平(北京賽多利斯科學(xué)儀器有限公司);723可見光分光光度計(jì)(上海奧譜勒儀器有限公司)。
硝酸、氫氟酸、硫酸均為分析純,硼酸飽和溶液(儲(chǔ)存于塑料瓶中),氨水(1+3),硫酸(1+3),硫酸(1+11),高錳酸鉀溶液(30 g/L),鉬酸銨溶液(100 g/L,儲(chǔ)存于塑料瓶中),抗壞血酸(100 g/L,用時(shí)現(xiàn)配)。
稱取0.10 g(精確至0.000 1 g)試樣于聚四氟乙烯高壓消解罐中,加入10 m L鹽酸、3 m L硝酸和1.5 m L氫氟酸于預(yù)熱至150℃的烘箱中加熱溶解,冷卻后取出,移入100 m L聚四氟乙烯容量瓶中,加入50 m L硼酸飽和溶液,以水稀釋至刻度,混勻。移取5 m L溶液于100 m L容量瓶中(一式兩份,一份作顯色液,一份作參比液),在顯色液中加入3滴2,4-二硝基酚(1.0 g/L),滴加氨水(1+3)至溶液恰變成黃色,再滴加硫酸(1+11)至溶液黃色消失并過量4 m L。滴加高錳酸鉀(30 g/L)至溶液呈淡紅色,放置5 min,用水稀釋至30 m L。加入10 m L鉬酸銨溶液(100 g/L),混勻,在20~25℃水浴中放置20 min。再加入20 m L硫酸(1+3),混勻,放置10 min。加入1 m L抗壞血酸溶液(100 g/L),用水稀釋至刻度,混勻,放置30 min。隨同試料做空白實(shí)驗(yàn)。
將部分溶液移入1 cm比色皿中,以隨同試料的空白溶液為參比,于分光光度計(jì)波長810 nm處,測定其吸光度。從相應(yīng)的工作曲線計(jì)算硅的質(zhì)量。
工作曲線的繪制:準(zhǔn)確移取0.00、0.50、1.00、1.50、2.00 m L硅標(biāo)準(zhǔn)溶液(50μg/m L),分別置于5個(gè)100 m L容量瓶中,分別加入5 m L隨同試料的空白溶液,以下按實(shí)驗(yàn)方法(從加入3滴2,4-二硝基酚開始)進(jìn)行。移取部分試液于1 cm比色皿中,以硅質(zhì)量為“零”的溶液為參比,于分光光度計(jì)波長810 nm處,測定其吸光度。以硅的質(zhì)量為橫坐標(biāo),吸光度為縱坐標(biāo),繪制工作曲線。
鈷鉻烤瓷合金強(qiáng)度高、硬度大,具有良好的耐腐蝕性,溶解時(shí)一般需要在高溫高壓條件下于王水和氫氟酸介質(zhì)中進(jìn)行[18]。稱取0.10 g(精確至0.000 1 g)樣品于聚四氟乙烯燒杯中,加入鹽酸、硝酸和氫氟酸,于電熱板上加熱;另取0.10 g(精確至0.000 1 g)樣品于聚四氟乙烯高壓消解罐中,加入鹽酸、硝酸、氫氟酸,于預(yù)熱至150℃的烘箱中加熱溶解7 h。實(shí)驗(yàn)結(jié)果見表1。
表1 用酸量實(shí)驗(yàn)Table 1 Acid consumption experient
從表1可以看出,使用聚四氟乙烯燒杯,在電熱板加熱條件下,用鹽酸、硝酸、氫氟酸混酸24 h不能完全溶解樣品,并且在此條件下硅和氫氟酸反應(yīng)生成的SiF4易揮發(fā)掉而使測定結(jié)果偏低,此溶解方法不可行;而將樣品置于聚四氟乙烯高壓消解罐中經(jīng)高溫高壓,樣品可完全溶解,溶液清亮。由實(shí)驗(yàn)可知,0.1 g鈷鉻烤瓷合金樣品在10 m L鹽酸、3 m L硝酸、1.0 m L氫氟酸介質(zhì)中經(jīng)150℃高溫,7 h加熱可以完全溶解。實(shí)驗(yàn)選擇10 m L鹽酸、3 m L硝酸、1.5 m L氫氟酸溶解樣品。
分別稱取0.10 g(精確至0.000 1 g)樣品(ωSi=1.49%、ωCr=27.52%、ωCo=61.38%、ωW=9.33%、ωMn=0.25%)于聚四氟乙烯高壓消解罐中,加入10 m L鹽酸、3 m L硝酸、1.5 m L氫氟酸,于預(yù)熱至150℃的烘箱中加熱不同的時(shí)間。實(shí)驗(yàn)結(jié)果如表2。
表2 消解時(shí)間實(shí)驗(yàn)Table 2 The time of dissolving experient
實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明0.10 g鈷鉻烤瓷合金樣品在聚四氟乙烯高壓消解罐中,加入10 m L鹽酸、3 m L硝酸、1.5 m L氫氟酸,于150℃的烘箱中加熱4 h以上可完全溶解。實(shí)驗(yàn)采用加熱時(shí)間為4 h。
鈷鉻烤瓷合金主要成分為鈷、鉻、鎢、鉬等,合金中少量的銅、鎳、鎵、鋁、鉭、銠、錳、硼、碳等不影響硅的測定[19]。因此,主要考慮鈷、鉻、鎢、鉬對(duì)硅測定的影響。
按鈷鉻烤瓷合金中的元素最高含量進(jìn)行實(shí)驗(yàn)。移取1.00 mg硅標(biāo)準(zhǔn)溶液置于聚四氟乙烯高壓消解罐中,分別加入鈷、鉻、鎢和鉬元素標(biāo)準(zhǔn)溶液,再加入10 m L鹽酸、3 m L硝酸、1.5 m L氫氟酸,于150℃的烘箱中加熱4 h,按照實(shí)驗(yàn)方法進(jìn)行測定。測定結(jié)果如表3。
表3 共存離子干擾試驗(yàn)Table 3 Instrument of the coexisting ions(n=5)
試驗(yàn)表明,上述共存元素對(duì)硅的測定無干擾。
對(duì)兩個(gè)已知成分的鈷鉻烤瓷合金(1號(hào)樣:ωSi=1.49%、ωCr=27.52%、ωCo=61.38%、ωW=9.33%、ωMn=0.25%;2號(hào)樣:ωSi=1.05%、ωCr=25.47%、ωCo=61.63%、ωW=5.56%、ωMo=5.12%、ωFe=0.63%、ωMn=0.17%)按照實(shí)驗(yàn)方法獨(dú)立地進(jìn)行11次測定,實(shí)驗(yàn)結(jié)果如表4。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明方法精密度高,穩(wěn)定性好。
表4 精密度實(shí)驗(yàn)Table 4 Precision test(n=11)
為了考察本方法的準(zhǔn)確度,在試樣(ωSi=1.49%、ωCr=27.52%、ωCo=61.38%、ωW=9.33%、ωMn=0.25%)中分別加入不同量的硅,進(jìn)行加標(biāo)回收實(shí)驗(yàn),測試過程與樣品分析過程一致,結(jié)果如表5。由表5可知,在擬定的實(shí)驗(yàn)條件下,硅加標(biāo)回收率在98.9%~101%,符合常量分析要求。
實(shí)驗(yàn)表明,該方法精密度高、準(zhǔn)確度及穩(wěn)定性好,能夠滿足鈷鉻烤瓷合金中硅含量測定的要求。
表5 加標(biāo)回收實(shí)驗(yàn)Table 5 Recovery test
[1]汪大林,江中明.牙科合金材料應(yīng)用研究現(xiàn)狀[J].特種鑄造及有色合金(Special-cast and Non-ferrous Alloys),2010(增刊2)::76-78.
[2]劉春,王丹,張翼明,等.高氯酸脫水-重量法結(jié)合電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法測定富鈮渣中二氧化硅[J].冶金分析(Metallurgical Analysis),2014,34(9):29-33.
[3]馬麗.動(dòng)物膠凝聚重量法測定磁鐵礦中二氧化硅[J].中國無機(jī)分析化學(xué)(Chinese Journal of Inorganic Analytical Chemistry),2013,3(3):91-92.
[4]董禮男,朱春要,張良芬,等.氟硅酸鉀沉淀-酸堿滴定法測定超低碳碳化稻殼中二氧化硅[J].中國測試(China Measurement&Testing Technology),2015,41(8):48-51.
[5]王娜,滕新華,王力強(qiáng),等.酸溶-氟硅酸鉀滴定法測定硅鉛鋅礦中二氧化硅[J].冶金分析(Metallurgical Analysis),2015,35(6):65-69.
[6]蘭福蔭,劉天一,李先和,等.粉末壓片-X射線熒光光譜法快速測定生石灰粉中氧化鈣和二氧化硅[J].中國無機(jī)分析化學(xué)(Chinese Journal of Inorganic Analytical Chemistry),2017,7(2):34-37.
[7]張世龍,黃啟華,胡小明,等.電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法測定鎢礦石中硅、鐵、鋁、鈦、鎢、錫和鉬的含量[J].理化檢驗(yàn):化學(xué)分冊(Physical Testing and Chemical Analysis:Part B Chemical Analysis),2016,55(10):1237-1240.
[8]龔靜,張文莉,邱德仁,等.電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法測定鋼鐵中微量硅[J].分析化學(xué)(Chinese Journal of Analytical Chemistry),2000,28(8):971-973.
[9]鐘國生.電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜(ICP-AES)法測定ADC12中硅[J].中國無機(jī)分析化學(xué)(Chinese Journal of Inorganic Analytical Chemistry),2017,7(1):63-65.
[10]杜米芳.微波消解-電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法測定鎳基合金中硅[J].冶金分析(Metall-urgical Analysis),2017,37(4):71-75.
[11]TAKAKU Y,MASUDA K,TAKAHASHI T.Determination of trace silicon in ultra-high-purity water by inductively coupled plasma mass spectrometry[J].Anal Chem,1994(9):1385-1387.
[12]石蕊,金獻(xiàn)忠.激光剝蝕電感耦合等離子體質(zhì)譜法測定純鋁及鋁絲中鐵、硅、銅、錳、鈦、鋅、鉻和鎳[J].理化檢驗(yàn):化 學(xué) 分 冊 (Physical Testing and Chemical Analysis:Part B Chemical Analysis),2015,51(6):837-841.
[13]毛端平,何西平,杜建俠,等.硅鉬藍(lán)分光光度法測定濕法磷酸中的二氧化硅[J].中國無機(jī)分析化學(xué)(Chinese Journal of Inorganic Analytical Chemistry),2017,7(3):72-74.
[14]于亞輝,張翼明,王東杰,等.硅鉬藍(lán)分光光度法測定鎂釹合金中硅[J].冶金分析(Metallur-gical Analysis),2016,36(5):49-52.
[15]段文靜,石林.硅鉬藍(lán)分光光度法測定硅肥中有效硅[J].分析科學(xué)學(xué)報(bào)(Journal of Analytical Science),2015,31(3):389-392.
[16]國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì).GB/T 4698.3—1996海綿鈦、鈦及鈦合金化學(xué)分析方法 鉬藍(lán)分光光度法測定硅量[S].北京:中國標(biāo)準(zhǔn)出版社,1997.
[17]曹海峰.鉬藍(lán)分光光度法測定鉛精礦中二氧化硅[J].中國無機(jī)分析化學(xué)(Chinese Journal of Inorganic Analytical Chemistry),2016,6(4):41-45.
[18]麥麗碧,許潔瑜,陳小蘭,等.碘量法測定鈷鉻烤瓷合金中的鈷[J].材料研究與應(yīng)用(Materials Research and Application),2016,10(3):229-232.
[19]曹國強(qiáng),李興利,鄭明星,等.硅鉬酸鹽光度法測定硅鐵中硅的含量[J].化學(xué)分析計(jì)量(Chemical Analysis and Meterage),2006,15(1):45-46.