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        液相沉積法制備W摻雜ZnO薄膜電極性能的研究

        2017-09-09 07:19:21樊明明
        科技創(chuàng)新導(dǎo)報(bào) 2017年18期
        關(guān)鍵詞:光電催化

        樊明明

        摘 要:通過(guò)液相沉積法(LPD)在鈦片基底上制備了W摻雜氧化鋅(W-ZnO)薄膜。并對(duì)該薄膜進(jìn)行了場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡(FESEM)、和紫外-可見(jiàn)(UV-vis)光譜測(cè)定,說(shuō)明該膜為一層致密薄膜,W的引入使得薄膜的最大吸收波長(zhǎng)發(fā)生了紅移。交流阻抗(EIS)、循環(huán)伏安(CV)、光電流響應(yīng)(CA)等的分析測(cè)定結(jié)果表明,W-ZnO在紫外光照射下,表現(xiàn)出極強(qiáng)的光電催化性能。

        關(guān)鍵詞:W-ZnO/Ti 光電催化 PNP

        中圖分類(lèi)號(hào):TU991 文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼:A 文章編號(hào):1674-098X(2017)06(c)-0028-02

        1 材料與方法

        1.1 試劑

        氧化鋅、PNP、鎢酸鈉,分析純,國(guó)藥集團(tuán)化學(xué)試劑有限公司;濃鹽酸、硝酸,分析純,開(kāi)封東大化工有限公司;雙氧水,分析純,天津凱通化工有限公司;氫氟酸,分析純,天津天力化學(xué)試劑有限公司。實(shí)驗(yàn)用水為二次蒸餾水。

        1.2 W-ZnO薄膜的制備

        本實(shí)驗(yàn)中用LPD法制備了ZnO/Ti薄膜電極。制備前,首先用洗液(HF∶硝酸∶水=1∶3∶6,v/v/v)清洗鈦片,然后分別在乙醇和水中超聲10 min,最后用氮?dú)獯蹈蓚溆?。沉積液的制備:首先,將過(guò)量的ZnO粉溶入50 mL HCl(2.25 mol·L-1)中,在25 ℃下恒溫?cái)嚢?h;然后過(guò)濾,濾液盛放在聚四氟乙烯燒杯中,加入8 mL Na2WO4(8.488×10-3 mol·L-1)溶液,將之前準(zhǔn)備好的鈦片垂直掛入聚四氟乙烯燒杯中;最后,在40 ℃水浴鍋中預(yù)熱3~5 min后,向上述溶液中加入1mLH2O2(1 mol·L-1),形成沉積液。上述體系在40 ℃水浴鍋中沉積2 h后,取出鈦片,用蒸餾水清洗后吹干,于450 ℃退火煅燒2 h。

        1.3 實(shí)驗(yàn)儀器與操作

        X射線衍射儀(PANalytical B.V,荷蘭);場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡(Sirion200,荷蘭);紫外-可見(jiàn)分光光度計(jì)(UV-2000,尤尼柯(上海)儀器有限公司)。

        2 結(jié)果與討論

        2.1 W-ZnO薄膜的表面特性分析

        從圖1中可以看出,純ZnO電極的表面為寬1.2 μm,長(zhǎng)3.8 μm的圓柱形棒狀結(jié)構(gòu),而W-ZnO電極的表面為一層致密的薄膜,說(shuō)明W的引入改變了ZnO的表面形貌??赡苁怯捎赪6+的引入,導(dǎo)致晶粒表面的價(jià)態(tài)發(fā)生變化從而使得晶格尺寸變小,薄膜表面更加均勻[1],從表觀上看,形成了一層致密薄膜。這種均勻的小顆粒有利于對(duì)光及污染物分子的吸收。

        從UV-vis光譜實(shí)驗(yàn)得出,純ZnO在490 nm處有一個(gè)很強(qiáng)的吸收峰,W的摻入改變了薄膜的紫外-可見(jiàn)吸收特性。最大吸收峰從490 nm紅移到535 nm,1.2‰W-ZnO電極吸收強(qiáng)度最大。主要是由于W的摻入,使得ZnO的禁帶寬度變窄。帶隙能量由下述公式?jīng)Q定[2]:

        Eg=1239.8/λ (1)

        其中λ表示激發(fā)光的波長(zhǎng)(nm),如表1所示。帶隙能量由純ZnO的2.53 eV降低到1.2‰W-ZnO的2.32 eV。表明摻雜W后,其電子特性影響了ZnO的帶隙,從而促進(jìn)了其對(duì)光量子的吸收,所以1.2‰W-ZnO光催化特性最好。

        2.2 光電化學(xué)表征

        2.2.1 EIS分析

        圖2為不同組分W摻雜氧化鋅薄膜的EIS圖譜,從圖中可以看出,當(dāng)摻雜濃度從0.3‰提高到1.2‰時(shí),阻抗半徑明顯減小,當(dāng)濃度繼續(xù)提高到1.2‰~1.8‰時(shí),阻抗半徑依次逐漸變大,1.2‰W-ZnO的阻抗半徑最小。通過(guò)計(jì)算各組分電極的界面電阻Rct,結(jié)果如表2所示。從表2中可以看出,1.2‰W-ZnO具有最好的界面電子傳遞能力,表明其具有較好的光電催化能力。

        2.2.2 光電效應(yīng)

        為了進(jìn)一步表征所制備薄膜電極的光電特性,對(duì)1.2 ‰ W-ZnO薄膜電極進(jìn)行了線性掃描伏安(LSV)曲線和光電流的檢測(cè),如圖3所示。

        從圖3中可以看出,在紫外光光照條件下,其電流-電壓曲線比無(wú)光照時(shí)明顯增大。同時(shí),較之純ZnO,由于金屬離子可以作為內(nèi)表面電荷傳送的媒介或者作為復(fù)合中心[2],摻雜后的ZnO的光電響應(yīng)發(fā)生了明顯的變化。W-ZnO電極的較之純ZnO電極的具有更高的光電響應(yīng)性能,從而具有更好的光電催化作用。光電流大小1.358 μmol L-1>2.037 μmol L-1>0.679 μmol L-1>0.340 μmol L-1>ZnO,表明隨著W的摻雜量的增大,光電響應(yīng)增強(qiáng),最優(yōu)摻雜量為1.358 μmol L-1(即1.2 ‰W-ZnO),光電流大約可以達(dá)到1 080 μA左右,且在光照開(kāi)始與結(jié)束瞬間電流都立刻發(fā)生了響應(yīng),如圖4所示。W-ZnO薄膜電極具有良好的光電響應(yīng)特性,可用于光電催化降解污染物。在這里W作為電子陷阱抑制電子-空穴對(duì)的結(jié)合率,提高表面電荷的傳遞速率。過(guò)高的W摻雜量使得電子-空穴對(duì)結(jié)合率反而增高[3]。

        綜上所述,1.2‰W-ZnO薄膜電極具有較好的光電催化特性。

        參考文獻(xiàn)

        [1] Moafi,H.F.,M.A.Zanjanchi and A.F.Shojaie,Tungsten-doped ZnO nanocomposite:Synthesis,characterization,and highly active photocatalyst toward dye photodegradation[J].MATERIALS CHEMISTRY AND PHYSICS,2013,139(2-3):856-864.

        [2] Cong,Y.,et al.,Preparation,photocatalytic activity,and mechanism of Nano-TiO2 co-doped with nitrogen and iron(III)[J].JOURNAL OF PHYSICAL CHEMISTRY C,2007,111(28):10618-10623.

        [3] Subash,B.,et al.,Highly active WO3-Ag–ZnO photocatalyst driven by day light illumination [J].Superlattices and Microstructures,2013(54):155-171.endprint

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