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        氬-氫混合放電等離子體還原BCl3制備高純納米硼粉

        2017-03-06 01:12:34楊春輝張燕平冉唐春印永祥
        固體火箭技術 2017年1期
        關鍵詞:單質氬氣粉體

        楊春輝,張燕平,陳 攀,冉唐春,李 嬌,印永祥

        (四川大學 化工學院,成都 610065)

        氬-氫混合放電等離子體還原BCl3制備高純納米硼粉

        楊春輝,張燕平,陳 攀,冉唐春,李 嬌,印永祥

        (四川大學 化工學院,成都 610065)

        利用氬氣與氫氣電弧放電產生氬-氫混合等離子體還原三氯化硼,獲得還原產物納米硼粉。在等離子體放電功率19.2 kW,氬氣、氫氣進氣流率分別1.5 m3/h,BCl3進料量1 500 g/h實驗條件下,硼粉收率達到最大值58%。利用DSC-TG(熱重分析儀)、XRD(X射線衍射儀)、XPS(X射線光電子能譜儀)、SEM(掃描電子顯微鏡)分析了樣品起始氧化溫度、組成、物相及形貌。結果表明,所得硼粉粒徑在50~100 nm之間,其中84%為無定型硼;另外,存在六方晶胞和四方晶胞的2種晶體硼,該硼粉的起始氧化溫度約在200 ℃。排除納米硼粉表面的吸附氧,單質硼的純度大于98%。通過對硼粉的洗滌和烘烤證明,用簡單的去離子水洗滌可進一步提高硼粉純度,在80 ℃以下,納米硼粉在空氣中幾乎不被氧化。

        納米硼粉;熱等離子體;氣相還原;三氯化硼(BCl3)

        0 引言

        硼作為痕量元素廣泛分布于土壤、海水、地殼,主要以含氧化合物形式存在。單質硼是高熔點((2 450±20)K)、高沸點(3 931 K)、難揮發(fā)固體,其存在形態(tài)為晶體硼和無定型硼[1]。硼在高溫條件下,化學性質活潑,冶金上用作鐵、錳和其他金屬的合金劑、鋼和銅的脫氧添加劑,也用于煅鐵的熱處理,增加合金鋼高溫強固性。硼還可用于原子反應堆,棒狀和條狀的硼鋼在原子反應堆中廣泛用作控制棒。由于高純度單質硼具有很高的單位質量燃燒值(117 kJ/g),可用來制作高速飛行器固體燃料[2-3]。當用作固體燃料時,Pace等[4]研究了硼粒子尺寸和純度對含硼富燃料推進劑燃燒性能的影響。結果表明,含小顆粒(40~150 nm)的高純硼粉(≥99%)推進劑的燃速高于含大粒徑(800~1 000 nm)低純(95.5%~96.5%)硼粉推進劑的燃速。元素硼的粒徑越小其燃燒速度越快,有利于產生更大的推力。傳統(tǒng)單質硼的制備方法主要有:金屬熱還原法[5-6]、鹵化硼還原法[7]、熔鹽電解法[8-9]、硼烷裂解法[10]、自蔓延還原法[11]等。傳統(tǒng)方法制備單質硼不僅工藝條件苛刻,而且難以獲得理想的粒徑和純度。

        等離子體作為新興技術,在化學氣相沉積、先進氧化還原技術及化學合成等領域受到廣泛研究和應用。含氫熱等離子體具有溫度高、焓值密度高,還原性強等特點,能提供一個常規(guī)方法難以實現(xiàn)的超高溫反應環(huán)境,是實現(xiàn)還原反應的一項新興技術[12]。

        本文以氬氣-氫氣電弧放電產生溫度為數千開的熱等離子體,將BCl3蒸汽投入氬-氫等離子體射流,實現(xiàn)對BCl3的快速還原反應,制備了具有高純度的納米級單質硼,并結合XRD、XPS、SEM和DSC-TG等表征手段及多種實驗方法對所得硼粉的物化性能進行初步分析。結果表明,單質硼的粒徑在50~100 nm,無定型粉體占84%,其起始氧化溫度約為200 ℃;排除粉體表面的吸附氧,單質硼純度達到98%,用去離子水洗滌所得產品后純度進一步提高。該方法流程簡單、過程穩(wěn)定,目前正在進行日產10 kg的中試建設。

        1 實驗

        實驗原材料為H2(純度>99.99%)、BCl3(純度>98%)、Ar (純度>99.99%)、N2(純度>99.99%)。實驗裝置主要由等離子體直流電源、等離子體發(fā)生器、筒狀石墨反應器、粉體收集和原料饋給系統(tǒng)組成,如圖1所示。

        1-等離子體發(fā)生器;2-直流電源;3-石墨管式反應器;4-粉體收集罐;5-氬氣瓶;6-氫氣瓶;7-氮氣瓶;8-三氯化硼儲罐;9-加熱裝置;10-轉子流量計;11-尾氣處理

        首先用氬氣和氮氣作為放電氣體啟動電弧放電,當放電穩(wěn)定后逐漸用氫氣置換氮氣,最終形成氬氣和氫氣為放電氣體的電弧等離子體。等離子體發(fā)生器直接連接一個石墨管作內襯的夾套水冷反應器,氣態(tài)BCl3與與氬-氫等離子體在反應器中快速混合,并完成還原反應,生成HCl和單質硼。反應器下端接粉體收集裝置,經硼粉收集裝置流出的尾氣進入處理系統(tǒng)。原料饋給系統(tǒng)由BCl3氣化和計量、保溫管道構成。

        實驗中,等離子體直流電源工作電壓120~125 V、電流120~160 A。反應結束,關閉等離子體電源,繼續(xù)通氬氣使粉體收集室冷卻至室溫。最后,收集樣品進行分析。

        2 實驗結果

        實驗過程中,H2、BCl3、Ar流量分別維持在1.5 m3/h、1.5 kg/h、1.5 m3/h。通過改變放電功率,考查單質硼收率。從粉體收集器中得到的硼粉用天平稱量,除以反應中消耗原料的硼質量,得到單質硼收率,結果見表1。

        表1 不同放電條件下單質硼收率

        在等離子體發(fā)生器中,氬氣-氫氣電弧放電形成等離子體,溫度可達數千開,發(fā)生器中發(fā)生以下的氫氣解離和電離反應:

        (1)

        (2)

        覃攀等[13]對熱等離子體的熱力學計算表明,如圖2所示,在氫氣放電等離子體中,氫氣的解離度α、電離度β將隨溫度升高而增加。

        利用電弧放電產生的氬-氫熱等離子體射流的平均溫度一般在4 000 K以上,參考圖2,約有45%的氫氣被解離成氫原子。當氣態(tài)BCl3進入反應器與氬-氫等離子體混合后,在反應器中將進行如下反應:

        3H+BCl3=B+3HCl

        (3)

        (4)

        一般地,氫原子的還原能力遠高于氫分子的能力。當工作氣體配比和流量不變,增加放電功率,等離子體溫度必然上升,氫氣解離度也隨之提高。較多的氫原子數目,有利于BCl3被還原,因此高功率下單質硼的收率更大一些。

        3 樣品的表征與分析結果

        3.1 樣品硼的XRD分析

        從粉體收集器中取出的硼粉直接進行XRD分析,其衍射圖如圖3所示。對照PWO標準衍射卡(JCPDS,31-0207,65-2859,06-0297),所得產品中存在B2O3衍射峰(JCPDS06-0297),說明初級產品有一些氧化硼。而單質硼的衍射峰表現(xiàn)為2種晶型,其中對應JCPDS31-0207卡片的為六方晶胞,對應JCPDS65-2859卡片的為四方晶胞。按照黃繼武介紹的方法對XRD圖全譜進行擬合[14],得到初級產品的結晶度。其中,無定型粉體約為84%,晶型硼約占16%。

        3.2 初級產品的元素分析

        為分析所得硼粉純度,產品被送到國家有色金屬研究院分析測試中心進行元素分析,所得結果如表2所示。其中,Mg、Al、Ca、Ti、Cr、Fe、Ni、Zn、Si等元素由感應耦合等離子體質譜(ICP-MS)給出;Cu元素由感應耦合等離子體原子輻射譜(ICP-AES)給出,C元素由高頻熔融紅外探測法分析,O、N元素由脈沖紅外熱導法檢測,B元素由減量法得到,帶*數據為B純度,它是用減量法所得,即除去所有雜相所含百分比所得。

        表2 初級硼粉的元素分析結果

        由O、N元素的檢測方法推測,如果樣品未做充分的除氣處理,脈沖紅外將同時解析出樣品中吸附態(tài)氣體和化合物氣體的O、N元素。因此,表2中的O、N元素可能是由于硼粉在取出和送檢時與空氣接觸吸附所致。下面的XPS分析給出進一步的證明。如果扣除吸附態(tài)O、N元素,則初級產品的純度可達98%以上。

        3.3 初級產品的XPS分析

        為進一步證明樣品中是否存在氧化硼,樣品被送往中科院成都有機所分析測試中心進行XPS表征,其結果如圖4所示。根據X射線光電子分光光譜手冊,結合能187 eV處應為單質B的B1s能譜峰[15],B—O鍵的B1s電子能譜應出現(xiàn)在結合能192.0 eV[16]、193.7 eV[17]附近。

        XRD中雖然有B2O3硼的衍射峰,但XPS中卻沒有檢測到代表氧化硼特征的B1s光電子能譜,這應判斷為樣品中氧化硼的含量極少所致。同時,這也佐證了元素分析中所得氧元素含量是吸附氧的推測。

        3.4 初級硼粉的SEM分析

        圖5是所得硼粉的SEM照片。首先,將樣品放入乙醇中用超聲波分散,然后進行SEM觀察。由圖5可看到,大多數硼顆粒的直徑在50~100 nm范圍,但顆粒間有一定的團聚。

        3.5 初級產品的氧化試驗

        納米級粉體的氧化起始溫度是此類材料的重要物理特性之一,它表示對此類材料進行后續(xù)加工得難度,對納米級硼粉更是如此。通常,人們認為單質硼在空氣中會有所謂緩慢氧化,但其氧化速率和程度究竟怎樣一直未有定量描述。為此,對初級產品特地進行了空氣中的DSC-TG試驗。程序升溫速率為5 ℃/min,結果如圖6所示。

        圖6表明,在200 ℃之前,硼粉幾乎沒有氧化,200 ℃以后開始緩慢氧化,同時放出熱量,由于生成的氧化硼為非揮發(fā)性物質,所以樣品質量逐漸增加。隨溫度上升,氧化速率加快,在500 ℃后,快速氧化放出大量的熱,與此同時,樣品質量也伴隨迅速增加。據此可推斷,在200 ℃之前,即使納米硼粉被氧化也是進行得極其緩慢,在室溫下應該更是如此。因此,操作過程中,在取出硼粉前,充分地降低反應器內的溫度是避免硼粉被氧化的關鍵步驟。XRD檢測出現(xiàn)的微量氧化硼應是在反應過程中產生,畢竟實驗使用的氫氣和氬氣純度僅為99.99%,而且每次運行前,反應器內壁會殘留少量吸附空氣。由于納米硼粉在取出和送檢測,不可避免會暴露于空氣而產生吸附,這也許是元素分析中出現(xiàn)O元素的原因。

        3.6 對初級產品的進一步提純

        25 ℃時B2O3在純水中的溶解度為2.2 g/100 ml,并生成可溶性的硼酸。

        B2O3+3H2O=2H3BO3

        (5)

        稱量5 g的初級產品放入50 ℃的100 ml去離子水中洗滌、過濾,然后在80 ℃空氣烘箱中干燥24 h。對干燥產品進行XRD分析。其衍射譜圖如圖7所示。

        圖7中,B2O3的衍射峰完全消失,這不僅表明簡單用去離子水,就可進一步提高氬-氫混合放電等離子體制備的納米硼粉的純度,而且證明即使經過80 ℃的空氣烘箱烘烤24 h,納米硼粉也未被氧化。這一點間接與DSC-TG試驗結果吻合。所以,元素分析中的O元素應是吸附氧,只要進一步做好產品的收集,是可避免吸附氧的。

        4 結論

        (1)等離子體還原三氯化硼制備元素硼粉,其收率與放電功率正相關。適當使用功率和原料氣配比,單質硼質量收率可達58%或更高。

        (2)綜合XRD、XPS、DSC-TG、全譜元素分析,所得硼粉粒徑在50~100 nm范圍。其中,84%為無定型粉體,其余為六方晶體和四方晶體;在硼粉取出包裝過程中避免空氣吸附,原粉純度可達98%,甚至更高。

        (3)用去離子水對初級產品進行洗滌,可進一步提高粉體純度;盡管實驗所得硼粉粒徑在納米范圍,但DSC-TG實驗和洗滌后的干燥過程表明,該產品在常溫下幾乎不會有氧化。因此,納米級硼粉的后續(xù)改性并不需要特別改變已有的工藝。

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        (編輯:劉紅利)

        Preparation of boron nano-powder from BCl3reduced by argon-hydrogen plasma

        YANG Chun-hui,ZHANG Yan-ping,CHEN Pan,RAN Tang-chun,LI Jiao,YIN Yong-xiang

        (School of Chemical Engineering,Sichuan University,Chengdu 610065,China)

        The elemental boron nano-powder was prepared by reducing BCl3 with argon-hydrogen thermal plasma.The maximum yield of boron powders was about 58% under the operational conditions of H2and Ar feed flow-rate of 1.5 m3/h,respectively,BCl3of 1.5 kg/h,plasma power at 19.2 kW.DSC-TG,XRD,SEM and XPS were used to test the character of the boron powder.Results show that the size of the boron powder is distributed in 50~100 nm,its initial oxidation temperature is about 200 ℃;the powder is comprised of amorphous boron of 84% and hexagonal,tetragonal crystal structures.Getting rid of the adsorbed oxygen,the purity of the elemental boron is more than 98%,it could be further improved by deionized water washing.The boron powders could hardly be oxidized even in 80 ℃ baking oven and air ambience.

        ulter-fine elemental boron;thermal plasma;vapor phase reduction;BCl3

        2015-11-25;

        2016-03-03。

        國家自然科學基金(11375123)。

        楊春輝(1989—),男,碩士生,主要從事化學工程與工藝。E-mail:18428392113@163.com

        印永祥(1955—),男,博導,主要從事等離子化工、納米粉體制備、催化研究。E-mail:hyyx0675@sina.com

        V512

        A

        1006-2793(2017)01-0076-05

        10.7673/j.issn.1006-2793.2017.01.013

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