趙 娜 王 博

一、引言

技術創(chuàng)新是一個國家進步與發(fā)展的動力，而知識產權保護制度是技術創(chuàng)新的基石。在2014年11月9日的亞太經合組織工商領導人峰會上，中國國家主席習近平指出 “唯改革者進，唯創(chuàng)新者強，唯改革創(chuàng)新者勝”，第一次將創(chuàng)新與改革提升至同一戰(zhàn)略高度。隨后，在2014年12月10日和2015年3月23日，我國又先后發(fā)布了 《深入實施國家知識產權戰(zhàn)略行動計劃（2014—2020年）》 和 《中共中央國務院關于深化體制機制改革加快實施創(chuàng)新驅動發(fā)展戰(zhàn)略的若干意見》，首次正式提出建設知識產權強國，并將科技創(chuàng)新擺在了國家發(fā)展全局的核心位置。

自1985年首部專利法正式實施以來，我國已經在專利領域取得了矚目成果。據 《2014世界知識產權指數》報告顯示，2013年中國的專利申請為82萬多項，占全球總量的32.1%，居世界首位，與美國同時期的57萬項相比，超出約43.9%。從中國連續(xù)多年保持兩位數增長態(tài)勢和專利申請總量來看，中國已成為當之無愧的創(chuàng)新大國。然而，我國的創(chuàng)新層次還處于較低水平。在被授權的專利中，發(fā)明專利不足1／6，外觀設計超過30%，而同時期日本的發(fā)明專利授權量占總量的比重超過3／4，外觀設計所占比重不到14%。美國康奈爾大學、歐洲工商管理學院和世界知識產權組織聯合公布的 《2014年全球創(chuàng)新指數報告》表明，中國僅排名第29位?？梢?，我國與世界一流的技術創(chuàng)新型國家仍然存在著一定差距，雖然位列 “創(chuàng)新大國”，卻遠遠達不到 “創(chuàng)新強國”的水平?；谀壳拔覈夹g創(chuàng)新領域的現狀，如何調整我國知識產權政策，使創(chuàng)新成為 “新常態(tài)”經濟下引領和推動我國轉型發(fā)展的強大引擎，是當下亟需解決的關鍵問題。

關于知識產權保護制度與技術創(chuàng)新的關系，國內外學者們進行了廣泛而深入的研究。目前，學術界主要存在以下三種觀點：一種觀點認為提高知識產權保護將促進技術轉移使利潤增加，會導致更多的資源用于技術創(chuàng)新，從而促進技術創(chuàng)新（Diwan和Rodrik，1991［1］； Yang和Maskus， 2001［2］； Lin 等， 2010［3］）。而另一種觀點則持反對意見，即認為加強知識產權保護會強化知識產權所有者的壟斷權力、減少自由競爭和研發(fā)的利潤激勵，因而不利于技術創(chuàng)新（Helpman， 1993［4］； Horii 和 Iwaisako， 2007［5］）。 還有一種觀點則指出，知識產權保護和技術創(chuàng)新之間并不是嚴格的線性關系，存在著最優(yōu)的知識產權保護程度（O'Donoghue 和 Zweimüller， 2004［6］； Lorenczik 和 Newiak， 2012［7］； 劉小魯， 2011［8］）。 也有一些學者針對具體國家或行業(yè)進行研究， Falvey等（2004）［9］通過對80個國家數據的分析認為知識產權的促進作用與國家收入水平有關。Allred和Park（2007）［10］對29個國家706家制造業(yè)公司進行實證分析，結果發(fā)現，知識產權保護對科學儀器及化學工業(yè)的技術創(chuàng)新影響作用最大。王華（2011）［11］則進一步認為發(fā)達國家的最優(yōu)知識產權保護程度要高于發(fā)展中國家。董雪兵等（2012）［12］研究了近年來中國的技術創(chuàng)新數據，認為對于轉型期的中國，短期內較弱的知識產權保護程度有利于經濟增長，而長期內較強的知識產權保護則會促進經濟增長。郭春野和莊子銀（2012）［13］認為知識產權保護與技術創(chuàng)新的關系受南北地區(qū)發(fā)展水平和產品創(chuàng)新形式的影響，對于南方地區(qū)存在一個最優(yōu)知識產權保護形式。蔡曉珊和陳和（2016）［14］基于我國287個城市的樣本數據，分析指出知識產權制度是我國知識型企業(yè)創(chuàng)業(yè)的關鍵環(huán)境要素，健全知識產權制度既能夠保護企業(yè)的創(chuàng)業(yè)成果，還能夠激發(fā)全社會知識型企業(yè)的創(chuàng)新積極性。通過上述文獻可以看出，加強知識產權保護有利于激勵高科技企業(yè)增加科研投入以保障其在相關領域內的壟斷地位，但是相對寬松的知識產權保護制度卻能夠充分利用技術擴散效應促使更多企業(yè)進入相關領域。知識產權制度對技術創(chuàng)新的影響與國家經濟發(fā)展水平、行業(yè)技術密集水平等諸多因素都有著密切關系，因而針對不同的國家或地區(qū)、不同的歷史時期，以及不同的行業(yè)狀況等應該采取不同程度的知識產權保護政策。

鑒于國內有關知識產權保護程度和企業(yè)科研投入的理論研究較少，而且大多數研究都忽視了企業(yè)創(chuàng)新動機的影響機制分析，本文嘗試構建一個多寡頭古諾博弈模型來分析知識產權保護對企業(yè)技術創(chuàng)新不同階段影響的理論機制，并利用我國高技術產業(yè)上市企業(yè)的研發(fā)數據和DEA-Malmquist指數模型進行實證檢驗，以期得到有關我國知識產權政策決策與調控效果的有益啟示。這對于調整我國知識產權政策，使之與國內現階段技術創(chuàng)新從 “量變”到 “質變”的轉型過渡時期相適應，促進科學技術進步和經濟社會可持續(xù)發(fā)展具有重要的理論價值和現實意義。

本文的結構安排如下：第二部分構建多寡頭古諾博弈模型進行理論分析，并提出研究假說；第三部分利用DEA-Malmquist指數模型對高技術產業(yè)企業(yè)研發(fā)過程的投入產出數據進行實證檢驗；第四部分為主要結論和政策建議。

二、理論機制分析

企業(yè)作為技術創(chuàng)新的微觀主體，其技術創(chuàng)新可分為自身研發(fā)投入帶來的原始創(chuàng)新，以及通過外購其他企業(yè)的研究成果并吸收轉化而進行的二次創(chuàng)新。知識產權制度對企業(yè)研發(fā)的影響，主要表現為技術壟斷影響效應和信息公開影響效應。前者能夠保護企業(yè)自身研發(fā)成果的獨有權、降低技術溢出、提高企業(yè)壟斷利潤，進而促使企業(yè)增加研發(fā)投入和科技創(chuàng)新；后者則要求企業(yè)在知識產權信息平臺上公開自身技術的部分信息，雖然這一方面提高了整個行業(yè)的基礎技術水平，并增加行業(yè)的總研發(fā)成果，但另一方面由于信息的公開為無差別影響因素，即其在降低自身企業(yè)重復研究投入的同時也降低了行業(yè)內其他企業(yè)重復研究所需的投入成本，所以相當于提高了其他企業(yè)的競爭能力，對于投入了大量資源進行原始創(chuàng)新的企業(yè)來講，這最終會抑制其增加研發(fā)投入的意愿?？梢姡R產權保護制度的兩種影響效應對企業(yè)技術創(chuàng)新帶來的作用相互制約，因此知識產權保護和技術創(chuàng)新之間的關系可能就不再是簡單的線性關系了。

為深入分析知識產權制度對技術創(chuàng)新的影響，本文通過構建一個多寡頭古諾博弈模型對企業(yè)技術創(chuàng)新過程的影響機制進行探討。假設在一個包含n個企業(yè)的多寡頭市場中，所有企業(yè)在初期都是相同的，即不考慮企業(yè)間差異。企業(yè)決策分為兩個階段，在第一階段進行技術研發(fā)，而在第二階段企業(yè)根據自身的研發(fā)成果選擇最優(yōu)產量進行生產。產品的反需求函數為P＝a-bQ。其中：a和b為常數；P為產品價格；產品的總產量Q由n個企業(yè)共同提供，Q＝q1＋q2＋…＋qi＋…＋qn。這里，qi表示第i個企業(yè)的產品產量。第i個企業(yè)的成本函數Ci＝（Ei＋F）qi。 其中：Ei為技術成本；F為基礎成本，且無固定生產成本投入。企業(yè)的技術創(chuàng)新通過降低產品生產成本對市場產生影響。與以往文獻不同的是，我們未將研發(fā)成果對企業(yè)成本的影響設為簡單線性函數形式，而是基于技術生命周期理論，設為非線性的指數函數形式Ei＝Ec-θxi。這里，c為常數；E為行業(yè)內單位產品的技術成本受研發(fā)成果的影響程度，且E＞1；θ為研發(fā)成果轉化率，表示企業(yè)將技術研發(fā)成果轉化為成本降低的能力，且θ∈（0，1）。θ越大，表明企業(yè)對實際研發(fā)成果的利用率越大。

在沒有知識產權保護制度時，技術創(chuàng)新成果在理想狀態(tài)下可以被完全溢出，導致第i個企業(yè)的實際研發(fā)成果xi＝xi＋xother＝xi＋（x1＋… ＋xi-1＋xi＋1＋…＋xn）。其中，xi為自身科研投入帶來的研發(fā)成果，即企業(yè)的原始創(chuàng)新，其對應的研發(fā)成本為但是， 由于知識產權保護制度的存在，其帶來的技術壟斷影響效應使得技術溢出受到阻礙，而信息公開影響效應又會降低所有企業(yè)科研創(chuàng)新的投入，所以本文引入了一個變量k來衡量知識產權保護水平的高低。為了便于模型求解，這里1／k增大表示知識產權保護水平提高，1／k減少則表示知識產權保護水平降低，且k∈（0，1）。那么，企業(yè)的實際研發(fā)成果可以進一步表示為xi＋kxother＝xi＋k（x1＋… ＋xi-1＋xi＋1＋… ＋xn）。 同時，xi對應的研發(fā)成本也修正為

基于上述假設，市場中的n個企業(yè)在第一階段同時進行技術創(chuàng)新的研發(fā)工作，并得到相應的研發(fā)成果xi。在第二階段，各企業(yè)利用研發(fā)成果xi降低生產成本進行產品生產并進行古諾競爭，則利潤函數為

從而得到古諾競爭的均衡解為

將式（2）和式（3）代入式（1）中， 可以得到第i個企業(yè)的最優(yōu)利潤πi為

根據梁萊歆和馬如飛（2009）［15］的研究， 連續(xù)科研投入更有利于企業(yè)創(chuàng)新，所以假設所有企業(yè)對市場的反應都比較快，那么各企業(yè)可以不斷調整研發(fā)投入計劃，所以每次博弈的時間間隔都很小。在極小的時間間隔下，xi變化較小，可以視為：且（E1＋E2＋ … ＋En）／n）。

首先，考察知識產權保護水平對企業(yè)利潤的影響。 用式（4）對k求偏導， 并令（n-1）， 可得

從式（5）可知，當k減少即知識產權保護水平提高時， 企業(yè)為獲取更多的利潤即?πi／?k＜0，就會改變自身的研發(fā)投入決策，使得xi＞且xi越 大，?πi／?K也越大，企業(yè)從知識產權保護水平提高中得到的利潤增加也就越大。反之，當k增加即知識產權保護水平降低時，企業(yè)傾向于選擇xi＜且xi越小，企業(yè)越能從知識產權保護水平中得到利益。這表明從企業(yè)角度來看，提高知識產權保護會使企業(yè)增大研發(fā)投入，促進技術創(chuàng)新，而降低知識產權保護水平則會減少企業(yè)研發(fā)投入、抑制技術創(chuàng)新，即知識產權保護水平與企業(yè)研發(fā)投入呈正相關關系。

其次，本文進一步分析其他企業(yè)研發(fā)投入對第i個企業(yè)利潤的影響：

這里，xj為第j個企業(yè)的原始創(chuàng)新，即自身科研投入帶來的研發(fā)成果，且i≠j。我們發(fā)現，如果第i個企業(yè)想通過 “搭便車”，模仿利用其他企業(yè)的研發(fā)成果來增加自己的利潤，就必須滿足?πi／?xj＞0，即k＞0.5，也就是說知識產權保護水平1／k＜2?？梢?，隨著知識產權保護水平的提高，其他企業(yè)研發(fā)投入會先增加企業(yè)利潤，但是當其提高一定程度后，再提高知識產權保護水平，其他企業(yè)研發(fā)投入就會減少本企業(yè)的利潤，而隨著企業(yè)利潤的減少，企業(yè)的科研投入也會相應減少。也就是說，知識產權保護水平對企業(yè)技術創(chuàng)新的影響除了式（5）分析得到的直接對企業(yè)研發(fā)投入的正相關影響外，還會通過其他企業(yè)研發(fā)投入這一方面間接對企業(yè)研發(fā)投入產生先增后減的影響。結合以上兩點可推出，知識產權保護水平對企業(yè)技術創(chuàng)新呈先促進后抑制的倒U型影響效應，即存在最優(yōu)的知識產權保護水平。

那么，這個最優(yōu)知識產權保護水平的相對高低又與什么相關呢？Arrow（1962）［16］研究認為， 企業(yè)的創(chuàng)新動機對企業(yè)的技術創(chuàng)新活動會產生重要影響，壟斷利潤的吸引力和競爭對手的壓力均會促使企業(yè)進行研發(fā)活動。 文豪（2009）［17］認為 “壟斷驅動型” 企業(yè)為了獲取較高的壟斷利潤而實施技術創(chuàng)新活動，所以這類企業(yè)更希望通過加強知識產權保護來提高壟斷利潤，并不關心知識產權保護帶來的信息公開損失；而 “競爭驅動型”企業(yè)擔心由于競爭對手的模仿或創(chuàng)新會導致其喪失優(yōu)勢而進行技術創(chuàng)新，因此，最終導致企業(yè)對加強知識產權保護持保守態(tài)度。綜上可知，知識產權保護最優(yōu)水平與企業(yè)所處行業(yè)的創(chuàng)新動機有關：從 “壟斷驅動型”行業(yè)來看，由于知識產權保護會給其帶來較大的壟斷利潤，所以一般都具備較大的知識產權保護水平的提升空間。例如，醫(yī)藥制造類企業(yè)由于其產品較大的差異性和較長的研發(fā)周期，所以專利能夠保護企業(yè)在一定時間和范圍內獲取較高的壟斷利潤，而其他企業(yè)即使能夠獲取專利中披露的部分新藥信息，也很難對本企業(yè)研制的新藥產生較大影響。對于 “競爭驅動型”行業(yè)，知識產權制度要求的技術成果信息公開會促使其他企業(yè)的相對競爭力增強，從而降低其增加研發(fā)投入的積極性，所以該行業(yè)較易達到知識產權保護的 “天花板”。例如，電子通信設備制造類的企業(yè)，因為其產品具有很高的相似性且產品的更新換代周期較短，而專利中披露的相關產品技術信息又較易被其他企業(yè)學習利用，因而能夠減少其他企業(yè)重復性的科研投入，但導致本企業(yè)在技術創(chuàng)新上的優(yōu)勢不明顯，進而抑制了企業(yè)進行技術創(chuàng)新的積極性。通過上面的分析，可以得到：

命題1：知識產權保護程度的強弱和技術創(chuàng)新投入呈先促進后抑制的倒U型關系，并存在最優(yōu)知識產權保護水平，且該最優(yōu)知識產權保護水平與行業(yè)的創(chuàng)新動機有著密切關系。適度的知識產權保護可以增加企業(yè)的研發(fā)投入，并提高整個行業(yè)的原始創(chuàng)新成果和創(chuàng)新能力。但是，過高的知識產權保護水平不僅可能會造成企業(yè)大量的重復研發(fā)，不利于整個行業(yè)的科研發(fā)展，還會在一定程度上降低企業(yè)利潤，抑制企業(yè)的技術創(chuàng)新意愿。同時，和 “競爭驅動型”行業(yè)相比，“壟斷驅動型”行業(yè)存在著較高的最優(yōu)知識產權保護水平。

然后，考察企業(yè)自身研發(fā)投入對利潤的影響。這里用式（4）對xi求偏導可得

由上式可知，第i個企業(yè)投入資源進行原始創(chuàng)新的必要條件是?πi／?xi＞0， 即表明xi存在一個上限值。 這主要是因為雖然提高研發(fā)投入會降低產品成本增加產品產量而使企業(yè)利潤增加，但是企業(yè)研發(fā)成本也會增加產品成本，甚至過度的研發(fā)投入會導致企業(yè)的研發(fā)成本過高而降低企業(yè)利潤，這使得企業(yè)的研發(fā)投入可能會受到一定限制。如果提高知識產權保護水平（即降低k）、增加同一行業(yè)中的企業(yè)數量n以及提高企業(yè)的研發(fā)成果轉化率θ，都將有利于提高xi的上限值，這時因為企業(yè)在制定科研投入計劃時會有更大的選擇空間，也就相對地有機會可以投入更多資金在技術研發(fā)上，提高了企業(yè)的技術創(chuàng)新潛力。

此外，結合前面的式（6），可以得到

由式（8）可知，其他企業(yè)研發(fā)投入對企業(yè)利潤影響的敏感度主要取決于兩個因素：同一行業(yè)中的企業(yè)數量n以及企業(yè)研發(fā)成果轉化率θ。具體來說，如果企業(yè)數量n越小，研發(fā)成果轉化率θ越高，那么，在其他條件不變的情況下，改變其他企業(yè)研發(fā)投入會使該企業(yè)利潤的變化越大，而具體變化方向則取決于其他企業(yè)研發(fā)投入的大小，由此得到：

命題2：知識產權保護水平k、同一行業(yè)中的企業(yè)數量n，以及企業(yè)的研發(fā)成果轉化率θ都會對企業(yè)研發(fā)過程的決策產生重要影響。它們不僅能夠直接影響企業(yè)的原始創(chuàng)新決策，而且后兩者還會通過其他企業(yè)研發(fā)投入對企業(yè)利潤影響的敏感度來間接影響企業(yè)的研發(fā)決策。同一行業(yè)中的企業(yè)數量n增加，雖然會降低其他企業(yè)研發(fā)投入對企業(yè)利潤影響的敏感度，但卻能夠提高企業(yè)自身研發(fā)投入的潛力，表明合理控制企業(yè)數量會更有利于行業(yè)發(fā)展。而提高企業(yè)的研發(fā)成果轉化率θ，則會同時增加其他企業(yè)研發(fā)投入對企業(yè)利潤影響的敏感度，以及企業(yè)自身研發(fā)投入的潛力。

三、實證檢驗分析

（一）模型說明

由于數據包絡分析（data envelopment analysis，DEA）方法不需要生產函數的具體形式，也不必預先估計參數，所以其在避免主觀因素、簡化算法，以及避免誤差等方面具有一定優(yōu)勢，同時還能在對決策單元有效性做出度量時，指出決策單元非有效的原因和程度。考慮到技術創(chuàng)新也是一種多投入多產出的復雜行為，且難以預先確定函數關系，因此本文借鑒宣燁和周紹東（2011）［18］的研究方法， 采用 DEAMalmquist指數模型，對我國高新技術上市企業(yè)的研發(fā)數據進行實證分析來檢驗前文提出的研究命題。

假設存在n個決策單元，每個決策單元在t期使用m種投入要素可以得到s種產出。令表示第j個決策單元在t期的投入要素集；表示第j個決策單元在t期的產出集，且投入和產出均為正值。Malmquist指數構造的基礎是距離函數Dt（xt，yt），其表示生產組合（xt，yt）相對于t期的生產前沿面效率。根據Lovell的理論，在規(guī)模報酬不變時的距離函數Dc和規(guī)模報酬可變時的距離函數Dv，分別為DEA方法中C2F模型和BC2模型效率值的倒數。當且僅當產出位于生產前沿面時，D＝1。

在t期的技術條件下，從t期到t＋1期的技術效率變化為

而在t＋1期的技術條件下，從t期到t＋1期的技術效率變化為

采用Malmquist指數的RD分解方法得到

并且，

其中：TEC為綜合技術效率變化指數，表示企業(yè)從t期到t＋1期的相對生產前沿面追趕程度，即企業(yè)的技術效率變動程度，反映企業(yè)管理決策是否合適。若TEC＞1，表示與最優(yōu)決策單元的距離減小，反之則表示與最優(yōu)決策單元的距離增大。SE為規(guī)模效率變化指數，表示同一生產前沿的規(guī)模效率變化，若SE＞1表示企業(yè)的規(guī)模生產效率增大，反之則表示企業(yè)的規(guī)模生產效率減小。TE為純技術效率變化指數。TC為技術進步指數，反映企業(yè)從t期到t＋1期的生產前沿面變化。

值得注意的是，企業(yè)在研發(fā)過程中進行原始創(chuàng)新的主要結果是形成技術前沿面的移動，所以TC往往被用來衡量企業(yè)的原始創(chuàng)新。但是，本文通過對其數學公式的分析，認為TC代表了不同的實際生產意義。TC表達式中的表示對于同樣的投入產出水平（xt，yt），在t和t＋1時期即兩個不同的技術狀態(tài)條件下的生產前沿面效率的變化。它描述了生產技術變化對于決策單元生產組合產生的影響，在生產活動中表示整體產業(yè)技術的進步，而不僅僅是企業(yè)自身技術的進步，因此，用TC表示企業(yè)的原始創(chuàng)新并不合適。企業(yè)的研發(fā)過程是在一定技術信息基礎上進行創(chuàng)新的過程，而整體產業(yè)技術是指產業(yè)內所有企業(yè)都能獲得的無差別技術信息。目前，由于我國的技術信息市場尚不發(fā)達，因此行業(yè)內企業(yè)獲取的無差別技術信息主要來源于知識產權檢索系統(tǒng)中公開發(fā)布的部分新技術信息。從前文的理論分析可知，知識產權保護程度越高、新技術信息公開就越多，整個行業(yè)所能獲得的技術信息也就越多，那么，技術進步指數TC就會增加。因此，本文用TC來反映知識產權保護制度的強弱。若TC＞1，表示行業(yè)知識產權的保護程度較強，反之則表示行業(yè)知識產權保護程度較弱。

（二）指標選取與數據來源

由于高技術產業(yè)最能夠代表我國技術創(chuàng)新的整體水平，所以本文參考已有文獻徐寧和徐向藝（2012）［19］、董曉慶等（2014）［20］選取我國高技術產業(yè)的上市企業(yè)作為研究對象。根據國家統(tǒng)計局發(fā)布的《高技術產業(yè)（制造業(yè)）分類（2013）》，高技術產業(yè)包括中醫(yī)藥制造類、航空航天器及設備制造類、電子及通信設備制造類、計算機及辦公設備制造類、醫(yī)療儀器設備及儀器儀表制造類，以及信息化學品制造業(yè)共六個行業(yè)，但上市企業(yè)中涉及航空、航天器及設備制造類的企業(yè)非常少，所以本文在進行實證分析時僅對其他五個行業(yè)進行分析。為了對技術創(chuàng)新過程進行效率分解，我們選取了上市企業(yè)的開發(fā)支出額和開發(fā)支出人員數作為投入指標，發(fā)明專利授權數和技術類無形資產增加額①由于無法獲取上市企業(yè)新產品銷售數據，所以本文采用技術類無形資產增加額來代替新產品銷售額。作為產出指標。同時，為全面衡量企業(yè)研發(fā)投入的變化情況，這里構建企業(yè)的科研年投入變化指數：St＝I1tI2t／I1t-1I2t-1。 其中，I1t和I2t分別表示某一上市公司t年的開發(fā)支出額和開發(fā)支出人員數?？紤]到數據連續(xù)性和避免經濟沖擊帶來的數據異常，本文選取2008—2014年我國高技術產業(yè)的106家上市企業(yè)作為研究樣本。全部數據來源于Wind資訊數據庫和國家知識產權局的專利檢索與服務系統(tǒng)。主要指標的描述性統(tǒng)計如表1所示。我們發(fā)現，整個高技術產業(yè)的投入產出指標的標準差較大，這主要是由于不同行業(yè)的發(fā)展水平與其技術創(chuàng)新程度不同有密切關系。

表1 主要指標的描述性統(tǒng)計

（三）實證結果與分析

采用DEAP 2.1軟件對我國五個高技術行業(yè)上市公司的技術創(chuàng)新數據進行Malmquist分解，具體結果如表2所示。

表2 我國高技術產業(yè)五類行業(yè)的Malmquist指數分解表

首先，本文對知識產權保護程度與技術創(chuàng)新之間的影響關系進行分析。由于企業(yè)通常是根據上一期的知識產權制度做出當期的研發(fā)投入決策，所以本文通過計算企業(yè)的技術進步指數TCt-1與科研年投入的變化指數St的相關系數來反映兩者關系（見表3）。從表3中可以看出，醫(yī)藥制造業(yè)、醫(yī)療儀器設備及儀器儀表制造業(yè)的相關系數為正，均大于0.83，而后者的相關系數甚至高達0.926。電子及通信設備制造業(yè)、計算機及辦公設備制造業(yè)和信息化學品制造業(yè)的相關系數均為負，且其絕對值也均大于0.63。這主要是因為醫(yī)藥、醫(yī)療儀器設備及儀器儀表制造業(yè)都屬于 “壟斷驅動型”行業(yè)，加強知識產權保護帶來的壟斷利潤起主導作用，存在較高的最優(yōu)知識產權保護水平，所以目前其尚未達到最優(yōu)的知識產權保護水平，若提高知識產權保護水平，會促使其增加研發(fā)投入，因而有利于技術創(chuàng)新。而電子及通信設備、計算機及辦公設備、信息化學品制造業(yè)都屬于 “競爭驅動型”行業(yè)，其最優(yōu)知識產權水平較低，從上面數據可知知識產權保護水平已經躍過最優(yōu)水平，其提高時會抑制技術創(chuàng)新，所以減弱知識產權保護能夠減少技術信息擴散從而更有利于維護其相對競爭優(yōu)勢，進而促進技術創(chuàng)新。由此可見，整個高技術產業(yè)的知識產權水平與其技術創(chuàng)新之間呈現倒U型的影響關系，且不同行業(yè)的最優(yōu)知識產權水平與其行業(yè)的創(chuàng)新動機有關。

表3 各行業(yè)科研年投入變化與技術進步指數的相關系數

此外，本文通過2010—2014年五個行業(yè)的Malmquist、TC、TEC、TE和SE指數的平均值來繪制整個高技術產業(yè)研發(fā)過程的變化趨勢圖。圖1繪制了高新技術產業(yè)不同分解指數的年份變化情況，可以看出，整個高技術產業(yè)的Malmquist指數呈現波浪狀起伏變化，尚未達到一個比較穩(wěn)定的狀態(tài)。其主要原因可能是由于我國高技術產業(yè)領域的科技水平與國外先進水平之間仍存在著一定的距離，而政府在科技方面投入了巨額資金予以支持，用于加快國內科技的更新換代、逐步縮小與世界前沿技術的差距，導致高技術產業(yè)研發(fā)過程的生產效率會在每代科技更新后呈現一段時間內的高效增長。但是，2010—2014年間技術進步指數TC的均值仍小于1，表明我國知識產權保護強度整體尚未達到最優(yōu)水平，高技術產業(yè)中的企業(yè)對新技術信息的獲取能力還是處于較低水平，應該發(fā)展我國的知識產權信息公開體系以減小企業(yè)間重復的研發(fā)投入，從而減少一定的技術投入損耗。圖2繪制了高技術產業(yè)各年不同分解指數的對比圖，我們發(fā)現，技術進步指數TC和純技術效率變化指數TE是制約我國高技術產業(yè)研發(fā)過程生產效率的關鍵因素。本文通過進一步分析發(fā)現，綜合技術效率變化指數TEC與規(guī)模效率變化指數SE的變化趨勢基本一致，并且SE幾乎都大于1，表明高技術產業(yè)的規(guī)模生產效率為遞增型，而且我國高技術產業(yè)具有很大的未來發(fā)展?jié)摿ΓF正處于發(fā)展的 “黃金時期”。由于TEC也受TE的影響，而TE除2013年外均小于1，說明在研發(fā)過程中，高技術企業(yè)對新技術的增長關注較多而對其自身內部管理水平關注較少，這會制約企業(yè)研發(fā)過程的生產效率，這與肖文和林高榜（2014）［21］對中國36個工業(yè)行業(yè)進行SAF分析后得到的結論一致。

圖1 高技術產業(yè)不同分解指數的年份變化

圖2 高技術產業(yè)不同年份的分解指數變化

接著，本文對高技術產業(yè)的五類行業(yè)進行具體分析。圖3和圖4分別繪制了不同分解指數在各行業(yè)間的差異，以及各行業(yè)內不同分解指數的對比情況?？梢悦黠@看到，醫(yī)療儀器設備及儀器儀表和信息化學品制造業(yè)的各項指數值基本接近或大于1，研發(fā)過程效率較高。而醫(yī)藥制造業(yè)、電子及通信設備制造業(yè)和計算機及辦公設備制造業(yè)的研發(fā)過程效率相對較差。

圖3 不同分解指數在各行業(yè)間的差異

圖4 各行業(yè)的不同分解指數對比

為進一步分析影響醫(yī)藥、電子及通信設備、計算機及辦公設備制造業(yè)間研發(fā)效率不同的因素，本文還分別繪制了三類行業(yè)各分解指數的時間變化圖，如圖5～圖7所示。從圖5中可以看出，醫(yī)藥制造業(yè)的技術進步指數TC呈現明顯的波動性，這是影響其科研效率的主要因素。其原因可能是因為醫(yī)藥制造業(yè)的信息相對封閉，例如，新上市的藥品信息對技術創(chuàng)新的發(fā)展方向會產生重大影響。而圖6和圖7也顯示了TC是影響電子及通信設備制造業(yè)和計算機及辦公設備制造業(yè)研發(fā)過程效率的重要因素，而且這兩個行業(yè)的TC均在2011年達到最大值。這可能與蘋果公司在2010年分別推出iPhone4和iPad1有關。這兩款產品的推出大大改變了通信和計算機產業(yè)的發(fā)展方向，從而帶動國內這兩個行業(yè)的公司在2011年調整技術創(chuàng)新策略，全力進入智能機和平板電腦領域，因此，“技術井噴”使得2011年的技術進步指數成為歷年的最高水平。同時，由于在2010年智能機除蘋果的

圖5 醫(yī)藥制造業(yè)

圖6 電子及通信設備制造業(yè)

圖7 計算機及辦公設備制造業(yè)

IOS系統(tǒng)外，還有Android、WP等其他系統(tǒng)，而平板電腦領域僅存在iPad一款產品，因此計算機及辦公設備行業(yè)的指數產生的波動大于電子及通信設備制造業(yè)。

四、結論與政策建議

本文基于企業(yè)微觀層面，通過構建多寡頭古諾博弈模型考察知識產權保護對企業(yè)技術創(chuàng)新的影響機制進行理論分析，結果表明：知識產權保護對企業(yè)技術創(chuàng)新呈先促進后抑制的倒U型影響效應，且影響程度與企業(yè)所處的行業(yè)特征有著密切關聯，不僅最優(yōu)知識產權保護水平與行業(yè)的創(chuàng)新動機有關，而且同一行業(yè)中的企業(yè)數量及其研發(fā)成果轉化率都會對企業(yè)研發(fā)決策產生重要影響。在理論分析的基礎上，本文采用DEA-Malmquist指數模型，對我國2008—2014年高新技術上市企業(yè)的研發(fā)數據進行實證檢驗，研究結果支持理論分析的結論，認為合理的知識產權保護制度、企業(yè)技術更新換代和其科研管理水平的提高都將對中國企業(yè)技術創(chuàng)新產生重要的影響，研究結論對改革和完善當前中國知識產權保護制度具有重要理論意義和參考價值。

技術創(chuàng)新是我國經濟結構優(yōu)化升級的原動力，而知識產權保護則是中國構建創(chuàng)新型國家和實現自身經濟社會發(fā)展目標的需要。我國應加快科技進步和創(chuàng)新、強化知識產權保護、加快應用高新技術改造提升傳統(tǒng)產業(yè)，并大力培育戰(zhàn)略性高新技術產業(yè)。本文建議從以下幾個方面采取相應的知識產權保護策略，以更有利于我國技術創(chuàng)新能力的整體提升：首先，政府應逐步提高知識產權保護強度，并針對不同行業(yè)的特點建立相應的輔助制度，如為醫(yī)藥制造業(yè)和醫(yī)療儀器設備及儀器儀表制造業(yè)建立專門的知識產權信息平臺、適當提高這兩個領域內的技術信息公開程度，以及完善加強電子及通信設備制造業(yè)、計算機及辦公設備制造業(yè)和信息化學品制造業(yè)領域內的知識產權監(jiān)督制度，并出臺具體的規(guī)章制度以約束這三個產業(yè)內企業(yè)間的 “搭便車”行為；其次，政府應該推動公司法的修訂，完善知識產權歸屬、保護發(fā)明人的利益等相關內容，增加對國外優(yōu)秀的科研企業(yè)管理制度的研究項目，同時建立科研管理示范企業(yè)基地，適當引導企業(yè)提高自身管理水平。此外，在制定高新技術發(fā)展規(guī)劃時政府應該盡可能高屋建瓴，通過建立高層次的科技人才對話、咨詢制度，吸收更多企業(yè)參與到國家技術創(chuàng)新規(guī)劃中來，在引進技術以及確定行業(yè)標準和行業(yè)技術發(fā)展方向時減少因為不必要的技術換代造成的技術效率降低。

［1］Diwan I， Rodrik D.Patents， Appropriate Technology and North-South Trade［J］.Journal of International Economics， 1991， 30（1）： 27-47.

［2］Yang G， Maskus K E.Intellectual Property Rights， Licensing and Innovation in An Endogenous Product-cycle Model［J］.Journal of International Economics，2001，53（1）：169-187.

［3］Lin C， Lin P， Song F.Property Rights Protection and Corporate R＆D： Evidence from China［J］.Journal of Development Economics， 2010， 93（1）： 49-62.

［4］Helpman E.Innovation， Imitation and Intellectual Property Rights［J］.Econometrica， 1993， 61（6）： 1247-1280.

［5］Horii R， Iwaisako T.Economic Growth with Imperfect Protection of Intellectual Property Rights［J］.Journal of Economics， 2007， 90（1）：45-85.

［6］O'Donoghue T， Zweimüller J.Patents in A Model of Endogenous Growth［J］.Journal of Economic Growth， 2004，9（1）：81-123.

［7］Lorenczik C， Newiak M.Imitation and Innovation Driven Development Under Imperfect Intellectual Property Rights［J］.European Economic Review，2012，56（7）：1361-1375.

［8］劉小魯.知識產權保護、自主研發(fā)比重與后發(fā)國家的技術進步［J］.管理世界，2011（10）：10-19，187.

［9］Falvey R， Foster N， Greenaway D.Imports， Exports， Knowledge Spillovers and Growth［J］.Economics Letters， 2004， 85（2）： 209-213.

［10］Allred B B， Park W G.The Influence of Patent Protection on Firm Innovation Investment in Manufacturing Industries［J］.Journal of International Management， 2007， 13（2）： 91-109.

［11］王華.更嚴厲的知識產權保護制度有利于技術創(chuàng)新嗎？［J］.經濟研究，2011（2）：124-135.

［12］董雪兵，朱慧，康繼軍，宋順鋒.轉型期知識產權保護制度的增長效應研究［J］.經濟研究，2012（8）：4-17.

［13］郭春野，莊子銀.知識產權保護與 “南方”國家的自主創(chuàng)新激勵［J］.經濟研究，2012（9）：32-45.

［14］蔡曉珊，陳和.知識型企業(yè)創(chuàng)業(yè)的關鍵環(huán)境要素探討：基于SEM模型的實證研究［J］.中央財經大學學報，2016（1）：115-122.

［15］梁萊歆，馬如飛.R＆D資金管理與企業(yè)自主創(chuàng)新——基于我國信息技術類上市公司的實證分析［J］.財經研究，2009（8）：49-59.

［16］Arrow K.Economic Welfare and the Allocation of Resources for Invention［M］／／The Rate and Direction of Inventive Activity： Economic and Social Factors， Princeton University Press， 1962： 609-626.

［17］文豪.市場特征、知識產權與技術創(chuàng)新：基于產業(yè)差異的分析［J］.管理世界，2009（9）：172-173.

［18］宣燁，周紹東.技術創(chuàng)新、回報效應與中國工業(yè)行業(yè)的能源效率［J］.財貿經濟，2011（1）：116-121.

［19］徐寧，徐向藝.控制權激勵雙重性與技術創(chuàng)新動態(tài)能力——基于高科技上市公司面板數據的實證分析［J］.中國工業(yè)經濟，2012（10）：109-121.

［20］董曉慶，趙堅，袁朋偉.國有企業(yè)創(chuàng)新效率損失研究［J］.中國工業(yè)經濟，2014（2）：97-108.

［21］肖文，林高榜.政府支持、研發(fā)管理與技術創(chuàng)新效率——基于中國工業(yè)行業(yè)的實證分析［J］.管理世界，2014（4）：71-80.