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        含羧基的席夫堿型聚硅氧烷液晶的合成及其液晶性能

        2016-08-17 03:04:05張立眉高建峰張立成
        合成化學(xué) 2016年6期
        關(guān)鍵詞:聚硅氧烷席夫堿偏光

        張立眉, 高建峰, 張立成, 王 赫

        (1. 中國(guó)鋁業(yè)公司,北京 100082; 2. 中北大學(xué) 理學(xué)院 化學(xué)系,山西 太原 030051;3. 中國(guó)航天科工集團(tuán)第四研究院,湖北 武漢 430040)

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        ·快遞論文·

        含羧基的席夫堿型聚硅氧烷液晶的合成及其液晶性能

        張立眉1*, 高建峰2, 張立成1, 王赫3

        (1. 中國(guó)鋁業(yè)公司,北京100082; 2. 中北大學(xué) 理學(xué)院 化學(xué)系,山西 太原030051;3. 中國(guó)航天科工集團(tuán)第四研究院,湖北 武漢430040)

        對(duì)羥基苯甲醛與對(duì)胺基苯甲酸縮合制得剛性基元(1);3-溴丙烯與對(duì)羥基苯甲酸經(jīng)取代反應(yīng)制得對(duì)烯丙氧基苯甲酸(2); 2經(jīng)加成和酰氯化后,與1經(jīng)酯化反應(yīng)合成了含羧基的席夫堿型聚硅氧烷液晶(5),其結(jié)構(gòu)經(jīng)IR確證。對(duì)5的液晶性能進(jìn)行了測(cè)試。結(jié)果表明:5屬于近晶型條帶織構(gòu); 5具有較高的熔點(diǎn)和清亮點(diǎn)溫度,液晶區(qū)間在180.34~251.11 ℃。

        聚硅氧烷; 席夫堿; 液晶; 條帶織構(gòu); 合成; 液晶性能

        席夫堿化合物通過(guò)活性羰基和胺縮合制備,其含C=N雙鍵,可用作螯合劑、穩(wěn)定劑、生物活性劑、光電導(dǎo)介質(zhì)等,已成為材料、化學(xué)、藥物、光學(xué)等領(lǐng)域的研究熱點(diǎn),在生物及材料學(xué)領(lǐng)域具有重要作用[1-6]。席夫堿基團(tuán)與芳環(huán)相連的化合物易出現(xiàn)液晶相[7-9],因?yàn)閬啺?CH=N)橋鍵上的碳氮雙鍵與芳環(huán)間連接電子易形成離域化共扼大π鍵,分子可極化性增大,分子間作用較強(qiáng),因而易于取向形成介晶相。席夫堿液晶基團(tuán)接枝于聚硅氧烷上,可發(fā)揮其功能性特點(diǎn),具有熱穩(wěn)定性好、光響應(yīng)性快等特點(diǎn),是一類(lèi)極具潛力的液晶材料[10-11]。

        Scheme 1

        本文根據(jù)逐步設(shè)計(jì)的思路,將羥基先引入液晶基元,然后再經(jīng)一系列反應(yīng)接枝到高分子鏈中,制備了端基為羧基的席夫堿型聚硅氧烷液晶。對(duì) 羥基苯甲醛與對(duì)胺基苯甲酸縮合合成剛性基元 4-(4-羥基苯亞甲基)氨基苯甲酸(1); 3-溴丙烯與對(duì)羥基苯甲酸經(jīng)取代反應(yīng)制得對(duì)烯丙氧基苯甲酸(2); 2與含氫硅油的Si—H在氯鉑酸鉀催化下經(jīng)加成反應(yīng)合成 3-(4-氯甲酰基苯氧基)丙基甲基聚硅氧烷(3); 3經(jīng)酰氯化后與1經(jīng)酯化反應(yīng)合成了3-{4-[4-(4-羧基苯亞胺基甲基)苯氧基甲?;鵠苯氧基}丙基甲基聚硅氧烷(5),其結(jié)構(gòu)經(jīng)IR確證。并考察了其DSC曲線及偏光織構(gòu)。

        1 實(shí)驗(yàn)部分

        1.1儀器與試劑

        FI-IR4800S型紅外光譜儀(KBr壓片);DT-40型差示掃描量熱儀(DSC)(氮?dú)獗Wo(hù),升降溫速率為10 ℃·min-1);KER3100-08S 型精密恒溫工作臺(tái)。

        1[11]和2[12]參考文獻(xiàn)方法合成;對(duì)胺基苯甲酸,北京化工廠;對(duì)羥基苯甲醛,上海恒遠(yuǎn)生物科技有限公司;硅油,北京化學(xué)試劑公司;對(duì)烯丙氧基苯甲酸,天津市化學(xué)試劑廠;氯化亞砜加亞磷酸三苯酯,回流5 h以上,收集76~78 ℃餾分;THF中加入CaH2回流5 h,收集61~70 ℃餾分;DMF 加 KOH 回流4 h,收集120~125 ℃餾分;其余所用試劑均為分析純,使用前均干燥除水。

        1.2合成

        (1) 3的合成

        在四口燒瓶中加入2 9 g(0.05 mol)和干燥甲苯100 mL,攪拌使其溶解;加入含氫硅油9.4 mL,和氯鉑酸鉀2 mg,氮?dú)獗Wo(hù)下于110 ℃回流反應(yīng)24 h。加入大量甲醇,析出沉淀,過(guò)濾,濾餅用二氯甲烷洗滌,于110 ℃真空干燥得灰色粉末3 9.45 g,產(chǎn)率45%; IRν: 3 400~2 500(COOH), 1 737 (C=O), 1 601~1 571 (Ar), 789(Si—C), 1 160~1 020 (Si—O—Si) cm-1。

        (2) 4的合成

        在三口燒瓶中加入3 14 g(80 mmol), DMF 數(shù)滴和氯化亞砜13 mL(166 mmol),回流冷凝管接稀NaOH溶液作氣體吸收裝置,氮?dú)獗Wo(hù),攪拌下于室溫反應(yīng)2.5 h;于60 ℃反應(yīng)3 h至無(wú)氣體逸出,得泛黃黏稠粗產(chǎn)物4,直接進(jìn)行下一步反應(yīng)。

        (3) 5的合成

        在三口燒瓶中加入1 3 g(0.01 mol), THF 20 mL和三乙胺0.5 mL,通氮?dú)獬?0 min,攪拌使其溶解;冰水浴冷卻<5 ℃,滴加4 5 g(0.01 mol)的THF(20 mL)溶液(體系渾濁,有大量氣體產(chǎn)生),于0~5 ℃反應(yīng)2 h;于36 ℃反應(yīng)20 h。加濃鹽酸酸化,抽濾,濾餅用二氯甲烷洗滌,于100 ℃真空干燥8 h得深黃色粉末5 4.59 g,產(chǎn)率72%。

        2 結(jié)果與討論

        2.1表征

        含氫硅油,1和5的IR譜圖見(jiàn)圖1。由圖1可見(jiàn), 1 603 cm-1, 1 556 cm-1和1 522 cm-1處的吸收峰為苯環(huán)的骨架振動(dòng)峰。含氫硅油的IR譜圖中,2 155 cm-1為Si—H伸縮振動(dòng)峰,1 090 cm-1和1 020 cm-1處吸收峰為Si—O—Si伸縮振動(dòng)吸收峰;1的IR譜圖中,3 600~3 351 cm-1處為O—H締合特征峰,1 711 cm-1處為C=O特征峰;5的IR譜圖中,2 155 cm-1處幾乎沒(méi)有吸收, 1的O—H締合特征峰也消失,在789 cm-1處出現(xiàn)Si—C的伸縮振動(dòng)吸收峰,其他特征峰依然存在,吸收峰位置也基本不變,說(shuō)明發(fā)生了加成反應(yīng),生成了5。

        ν/cm-1圖1 含氫硅油,1和5的IR譜圖Figure 1 IR spectra of PMHS, 1 and 5

        2.2結(jié)晶性能

        5的DSC曲線見(jiàn)圖2。從圖2可見(jiàn),有三個(gè)主要的比熱變化,135 ℃處曲線有一階躍,為高分子鏈的玻璃化溫度(Tg); 180.34 ℃有一個(gè)明顯的比熱變化,為5的熔點(diǎn),峰形尖銳,焓變較大,為晶態(tài)到介晶態(tài)的轉(zhuǎn)變溫度。這與偏光顯微鏡觀測(cè)到的轉(zhuǎn)變溫度(180 ℃)相近;在251.11 ℃有一較小的吸熱峰,對(duì)應(yīng)為介晶態(tài)到各向異性態(tài)的轉(zhuǎn)變溫度,即清亮點(diǎn)溫度(Ti);180.34~251.11 ℃為其液晶態(tài)區(qū)間。這與偏光顯微鏡所觀察到的液晶范圍相近,表明5具有液晶雙融峰的性質(zhì)。

        Temperature/℃圖2 5的DSC曲線Figure 2 DSC curve of 5

        5的偏光織構(gòu)圖見(jiàn)圖3??刂粕郎厮俾蕿?~5 ℃·min-1,放大倍數(shù)為200倍時(shí)進(jìn)行觀察,在158 ℃時(shí)視野變亮,可清楚看到大面積彩色紋影區(qū)域,具有流動(dòng)性,色彩很鮮艷[圖(3a)];溫度升高至240 ℃時(shí),織構(gòu)愈漸清晰,出現(xiàn)典型的近晶型條帶織構(gòu),條帶寬度相近,明暗相間,呈規(guī)則形狀排列[圖(3b)];繼續(xù)升溫至250 ℃,樣品開(kāi)始向各向同性液態(tài)轉(zhuǎn)變,視場(chǎng)開(kāi)始變暗,出現(xiàn)糊狀物,偏光證明其具有很好的液晶性,且為近晶型液晶。

        圖3 不同溫度下5的POM顯微圖*Figure 3 The POM micrographs of 5 at different temperature*放大倍數(shù)為200; (a)158 ℃; (b)240 ℃。

        針對(duì)傳統(tǒng)合成工藝[12]進(jìn)行了優(yōu)化,先將柔性間隔基與聚硅氧烷加成,再與剛性基團(tuán)接枝,從而避免了催化劑與C=N絡(luò)合對(duì)液晶穩(wěn)定性的影響,合成了性能穩(wěn)定的液晶化合物,其相變區(qū)間為180.34~251.11 ℃,為條帶織構(gòu),屬近晶A型液晶。此類(lèi)液晶高分子具有較高的熔點(diǎn)和清亮點(diǎn),熱穩(wěn)定性好,因此作為高溫場(chǎng)合顯示器件具有潛在的應(yīng)用前景。

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        Synthesis and Liquid Crystalline Properties of Carboxylic Schiff Base Polysiloxane Liquid Crystal

        ZHANG Li-mei1*,GAO Jian-feng2,ZHANG Li-cheng1,WANG He3

        (1. Aluminum Corporation of China, Beijing 100082, China; 2. Department of Chemistry, School of Science, North University of China, Taiyuan 030051, China; 3. The Fourth Academy of China Science & Industry Corp, Wuhan 430040, China)

        The gigid primitive(1) was prepared by coupling reaction ofp-hydroxy benzaldehyde with para-aminobenzoic acid. The substitution of 3-allyl bromide and para hydroxy benzoic acid resulted in 4-(allyloxy)benzoic acid(2), which was reacted by addition and acylating chlorination, and then esterificated with 1 to obtain Schiff base polysiloxane crystal(5). The structure was confirmed by IR. The liquid crystalline property was tested. DSC demonstrated that 5 belonged to sematic banded texture5and had high melting point and clear temperature. The liquid crystal interval was 180.34~251.11 ℃.

        polysiloxane; Schiff base; liquid crystal; banded texture; synthesis; liquid crystalline property

        10.15952/j.cnki.cjsc.1005-1511.2016.06.15328

        2015-06-23;

        2016-04-01

        張立眉(1983-),女,漢族,山西河津人,碩士研究生,工程師,主要從事氧化鋁制備工藝的研究。Tel. 010-82298596, E-mail:zlm830727@163.com

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