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        納米金屬多層膜的強(qiáng)韌化及其尺寸效應(yīng)

        2016-07-02 05:33:01張金鈺
        中國材料進(jìn)展 2016年5期
        關(guān)鍵詞:塑性變形界面

        張金鈺,劉 剛,孫 軍

        (西安交通大學(xué)金屬材料強(qiáng)度國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,陜西 西安 710049)

        納米金屬多層膜的強(qiáng)韌化及其尺寸效應(yīng)

        張金鈺,劉剛,孫軍

        (西安交通大學(xué)金屬材料強(qiáng)度國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,陜西 西安 710049)

        孫 軍

        摘要:如何有效地協(xié)調(diào)和平衡材料強(qiáng)度與韌性之間的矛盾, 大幅度地提高結(jié)構(gòu)材料的損傷容限, 是非均質(zhì)金屬材料微觀結(jié)構(gòu)敏感性設(shè)計(jì)的巨大挑戰(zhàn)。納米金屬多層膜作為一類典型的非均質(zhì)金屬材料,由于不僅可以調(diào)整其組元幾何和微觀結(jié)構(gòu)尺度,而且可以引入具有不同本征性能的組元材料和不同結(jié)構(gòu)的層間異質(zhì)界面,因此在獲得高強(qiáng)高韌金屬結(jié)構(gòu)材料方面具有潛在的能力。結(jié)合當(dāng)前國內(nèi)外有關(guān)金屬多層膜塑性變形強(qiáng)韌化機(jī)制及其尺寸與界面效應(yīng)研究的最新進(jìn)展, 分別闡述了晶體/晶體Cu/X(X=Cr, Nb, Zr)與晶體/非晶Cu/Cu-Zr金屬多層膜/微柱微觀結(jié)構(gòu)-尺寸約束-服役性能三者之間的關(guān)聯(lián)性, 并對(duì)納米金屬多層膜研究的發(fā)展趨勢(shì)進(jìn)行了展望。

        關(guān)鍵詞:納米金屬多層膜;界面;塑性變形;斷裂行為;強(qiáng)韌化機(jī)制;尺寸效應(yīng)

        1前言

        強(qiáng)度和韌性是金屬結(jié)構(gòu)材料的兩個(gè)最重要的力學(xué)性能指標(biāo),日益苛刻的應(yīng)用條件和環(huán)境對(duì)金屬材料的強(qiáng)度和韌性指標(biāo)提出了更高的要求。傳統(tǒng)的金屬材料強(qiáng)化的基本策略是通過持續(xù)地減小材料內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)尺度(如第二相粒子及其間距、晶粒或組織尺度等),以達(dá)到阻礙位錯(cuò)運(yùn)動(dòng)的目的?,F(xiàn)已普遍認(rèn)識(shí)到,僅僅依靠單一調(diào)整材料微結(jié)構(gòu)尺度的設(shè)計(jì)思想和強(qiáng)化方法往往會(huì)導(dǎo)致材料的強(qiáng)韌性失調(diào),即在獲得超高強(qiáng)度的同時(shí)嚴(yán)重?fù)p失了其韌性。因此,如何有效地協(xié)調(diào)和平衡材料強(qiáng)度與韌性之間的矛盾,在提高強(qiáng)度的同時(shí)保持甚至增加材料的韌性,已成為人們探索金屬結(jié)構(gòu)材料強(qiáng)韌化設(shè)計(jì)的關(guān)鍵科學(xué)問題之一。

        由兩種或兩種以上的組元材料,以相同或不同的單層厚度交替疊加組成的微納尺度金屬多層膜,其強(qiáng)度可以達(dá)到理論強(qiáng)度的三分之一,同時(shí)也比按混合法則得到金屬材料的強(qiáng)度高2~3倍[1]。由于這種層狀金屬材料不僅可以調(diào)整其組元尺度(幾何和微觀結(jié)構(gòu)尺度),而且可以引入具有不同本征性能的組元材料和不同結(jié)構(gòu)的層間異質(zhì)界面,因此在獲得高強(qiáng)高韌金屬結(jié)構(gòu)材料方面具有潛在的能力。此外,納米金屬多層膜由于其可調(diào)節(jié)、可控制的微觀結(jié)構(gòu)特征,如組元材料晶體結(jié)構(gòu)、調(diào)制結(jié)構(gòu)參數(shù)(調(diào)制周期λ,即相鄰兩組元層厚度之和,與調(diào)制比η,即相鄰兩組元層厚度之比)、界面屬性(晶體/晶體界面與晶體/非晶體界面)以及界面結(jié)構(gòu)/特性(界面失配度與取向關(guān)系),而成為研究微納尺度組元材料塑性形變行為的理想模型材料[2]。

        本文以作者課題組近期的研究結(jié)果為基礎(chǔ), 以銅基納米金屬多層膜為模型材料, 分別介紹了多層膜/微柱的硬度/強(qiáng)度與拉伸延性等相關(guān)結(jié)果的最新進(jìn)展,討論了室溫納米金屬多層膜力學(xué)性能的尺度效應(yīng)及其內(nèi)在的物理機(jī)制,加深對(duì)非均質(zhì)層狀金屬材料形變行為的理解,并進(jìn)一步拓展金屬結(jié)構(gòu)材料研究的尺度范疇。

        2金屬多層膜/微柱的硬度/強(qiáng)度及其位錯(cuò)強(qiáng)化機(jī)制

        2.1硬度/壓縮強(qiáng)度及其尺寸效應(yīng)

        自1970年Koehler[1]在其經(jīng)典論文AttempttoDesignaStrongSolid中率先提出:如果組元層厚度h減小到位錯(cuò)不能在界面塞積的尺度,即使是兩個(gè)低強(qiáng)度組元匹配也能組成具有高強(qiáng)度的多層結(jié)構(gòu)材料(如Cu/Al、Cu/Ni)。隨著制備技術(shù)與表征手段快速發(fā)展以及對(duì)材料服役性能要求的日益提高,越來越多的研究開始關(guān)注于不同體系(FCC/BCC:Cu/Cr[3-4]、Cu/Nb[3,5]、Cu/W[6]、Cu/Fe[7]、Cu/V[8]、Ag/V[9], FCC/FCC:Cu/Ni[3,10-11]、Cu/Nb[12]、Cu/Co[13]、Cu/Ag[14-15]、Ag/Ni[16-17], FCC/HCP:Cu/Zr[18]、Cu/Co[13]、Ag/Co[19]晶體/晶體以及Cu/Cu-Zr晶體/非晶[18,20])的納米金屬多層膜,并通過納米壓痕實(shí)驗(yàn)進(jìn)行了大量卓有成效的性能研究工作。相關(guān)結(jié)果表明,多層膜的硬度具有強(qiáng)烈的尺寸效應(yīng),隨多層膜內(nèi)部特征尺寸層厚h的不斷減小,多種約束行為的交互作用影響層內(nèi)位錯(cuò)的產(chǎn)生、運(yùn)動(dòng)和湮滅,進(jìn)而引起塑性行為的變異。通過總結(jié)文獻(xiàn)中報(bào)道的一些金屬多層膜硬度H與層厚h的關(guān)系不難發(fā)現(xiàn),硬度隨特征尺寸的減小非單調(diào)增加,可劃分為3個(gè)區(qū)域并對(duì)應(yīng)不同的變形機(jī)制(圖1)。區(qū)域I:當(dāng)層厚h在亞微米級(jí)以上尺度時(shí),位錯(cuò)首先在剪切模量較小的組元層中開動(dòng),由于界面對(duì)位錯(cuò)的阻礙作用,位錯(cuò)在界面處塞積并且通過相互協(xié)同作用克服界面阻礙導(dǎo)致多層膜屈服,多層膜的硬度和層厚之間符合經(jīng)典的H-P關(guān)系,即H∝h-0.5[5];區(qū)域II:當(dāng)層厚h減小到某一臨界尺寸時(shí)(幾納米到幾十納米),組元層內(nèi)不能形成位錯(cuò)塞積,只有被界面釘扎的單根位錯(cuò)在軟相層內(nèi)的滑移面上弓出滑移,多層膜的硬度盡管隨h的減小單調(diào)增加,但是明顯偏離了H-P關(guān)系曲線,此時(shí)硬度遵循約束層滑移(Confined Layer Slip,CLS)模型[5], 即H∝(μb/h)ln(h/b), (b, μ分別是軟相材料的Burgers矢量的模和剪切模量);區(qū)域III:當(dāng)層厚h進(jìn)一步減小時(shí),位錯(cuò)源很難開動(dòng)時(shí),即位錯(cuò)弓出所需的應(yīng)力增大到和界面障礙強(qiáng)度相當(dāng)時(shí),界面將失去對(duì)位錯(cuò)運(yùn)動(dòng)的阻擋能力,此時(shí)多層膜硬度達(dá)到飽和甚至有所降低。因此, 多層膜的峰值/飽和強(qiáng)度取決于單根位錯(cuò)穿過界面所需的應(yīng)力。在此尺度范圍內(nèi),多層膜的硬度可以通過界面強(qiáng)度(Interface Barrier Strength, IBS)模型[5](主要包括模量失配效應(yīng)τk[1]、失配位錯(cuò)的貢獻(xiàn)τmis[21]以及層錯(cuò)能差異τsf[21])來定量描述,即H∝(τk+τmis+τsf)。需要說明的是,上述唯象強(qiáng)化模型主要針對(duì)等層厚(調(diào)制比η=1)多層膜的力學(xué)性能分析,作者[22]近來研究發(fā)現(xiàn)上述強(qiáng)化模型也能夠適用于描述于非等層厚(調(diào)制比η≠1)多層膜硬度的變化規(guī)律。此外,從圖1也可以看出, 同一多層膜(如Cu/Ni[10]、Cu/Co[13])體系的硬度受晶體取向的強(qiáng)烈影響;即使針對(duì)同一多層膜(如Ag/Ni)體系,由于不同研究者所采用的實(shí)驗(yàn)方法不同,以及材料微觀結(jié)構(gòu)和應(yīng)力狀態(tài)差異也可能導(dǎo)致強(qiáng)度數(shù)值差別較大[23]。

        圖1 不同晶體/晶體(FCC/BCC, FCC/FCC, FCC/HCP)與晶體/非晶體系中金屬多層膜硬度H與單層厚度h的關(guān)系Fig.1 Relationship between hardness H and the layer thickness h for different crystalline/crystalline (FCC/BCC, FCC/FCC, FCC/HCP) and crystalline/amorphous systems

        已有大量研究證明:除了材料內(nèi)部特征尺寸(如晶粒尺寸、組元層厚度、析出相間距等),外觀幾何尺寸也能夠顯著影響微納尺度材料的力學(xué)行為[24]。相應(yīng)地,材料科學(xué)與工程中傳統(tǒng)的微觀組織-性能關(guān)系的二維研究空間應(yīng)拓展為微觀組織-外觀尺寸-性能關(guān)系的三維研究空間。傳統(tǒng)的納米壓痕試驗(yàn)使得材料處于非均勻應(yīng)力狀態(tài)(應(yīng)力柔性系數(shù)>2)下,為了研究均勻應(yīng)力狀態(tài)下微小樣品的力學(xué)行為,通常采用微柱體壓縮法(應(yīng)力柔性系數(shù)=2),而且通過此方法能夠直觀獲取試樣的應(yīng)力-應(yīng)變曲線以及加工硬化/軟化性能等相關(guān)信息。作者[25-29]通過聚焦離子束(FIB)加工了不同層厚(h=5~150 nm)、系列直徑(φ=300~1 500 nm)的Cu/Cr與Cu/Zr晶體/晶體以及Cu/Cu-Zr晶體/非晶納米多層膜微柱體(調(diào)制比η=1.0即等層厚),通過微柱體壓縮試驗(yàn)系統(tǒng)深入研究了不同結(jié)構(gòu)多層膜/微柱系統(tǒng)的室溫壓縮塑性變形行為。研究發(fā)現(xiàn),對(duì)于上述兩類納米多層膜,隨h或φ的單一變化,微柱體的強(qiáng)度遵循普遍認(rèn)知的“越小越強(qiáng)”趨勢(shì);當(dāng)h>20 nm(層內(nèi)位錯(cuò)源產(chǎn)生位錯(cuò)),多層膜強(qiáng)度僅依賴于層厚,若h<20 nm(層間界面位錯(cuò)源產(chǎn)生位錯(cuò)),層厚和直徑對(duì)強(qiáng)度的影響相當(dāng),微柱體表現(xiàn)出由類似于宏觀塊體材料塑性到小尺度材料塑性的轉(zhuǎn)變。這與在等層厚Cu/Nb[30-31]多層膜微柱體中所發(fā)現(xiàn)的結(jié)果相一致,如圖2所示。然而,Wang等[32]在Cu/Fe多層膜微柱體中發(fā)現(xiàn)了“越小越弱”的趨勢(shì)。這主要是由于Cu/Fe多層膜微柱體中各組元層內(nèi)部極細(xì)小的晶粒均非貫穿層厚的柱狀晶,在外應(yīng)力作用下表面約束作用難以抑制晶界協(xié)調(diào)變形過程從而導(dǎo)致材料軟化[33-34]。這些結(jié)果充分說明,減小試樣的外觀幾何尺寸,表面效應(yīng)越發(fā)顯著,影響甚至改變材料的塑性變形機(jī)制。

        圖2 晶體/晶體與晶體/非晶體系納米多層膜微柱體最大強(qiáng)度σmax對(duì)直徑φ的依賴關(guān)系Fig.2 Dependence of maximum strength σmax on diameter φ for two different crystalline/crystalline and crystalline/amorphous NMMs systems

        2.2屈服強(qiáng)度及其尺寸效應(yīng)

        不同的加載方式(如三向不等壓縮、單軸壓縮、單軸拉伸)及其所對(duì)應(yīng)的應(yīng)力狀態(tài)會(huì)引起晶體內(nèi)部位錯(cuò)行為的差異,導(dǎo)致微納尺度材料性能的壓-拉不對(duì)稱性[35-36],進(jìn)而影響其服役行為。因此,系統(tǒng)研究材料不同加載方式/應(yīng)力狀態(tài)下的服役行為,是深入理解材料的本征特性及其微觀機(jī)制的前提和基礎(chǔ)。然而,由于自由薄膜的拉伸延性低以及力學(xué)性能測試?yán)щy[37-38],限制了自由膜研究的廣泛開展,促使附著型薄膜,特別是柔性基體金屬多層膜得到更多的研究。作者[39-42]通過單軸拉伸試驗(yàn),分別研究了等層厚與非等層厚晶體/晶體Cu/X(X=Cr,Nb,Zr)納米金屬多層膜的拉伸強(qiáng)度。結(jié)果表明,等層厚(η= 1.0)Cu/X多層膜的屈服強(qiáng)度σ0.2隨層厚h的減小而快速增加;當(dāng)層厚h<12.5 nm時(shí),屈服強(qiáng)度變化不大(圖3a);非等層厚(λ= 25,50 nm)Cu/X多層膜的屈服強(qiáng)度σ0.2隨調(diào)制比η的增加(或延性相Cu體積分?jǐn)?shù)VCu的減少)而增加,當(dāng)調(diào)制比η>1.0時(shí),其強(qiáng)度緩慢增加,且兩個(gè)不同調(diào)制周期的Cu/X多層膜的強(qiáng)度幾乎相等(圖3b)。這是由于當(dāng)組元Cu層厚度hCu>15 nm時(shí),Cu層具有一定的變形能力,σ0.2可以通過CLS模型定量計(jì)算[39-42]??墒?,小尺度下Cu/X多層膜組元Cu(hCu<15 nm)中位錯(cuò)活動(dòng)受到強(qiáng)烈的抑制并被界面釘扎,晶界協(xié)調(diào)變形機(jī)制的啟動(dòng)導(dǎo)致Cu層脆化(與X層一樣)。拉應(yīng)力下微裂紋易于沿晶界萌生擴(kuò)展,這時(shí)Cu/X多層膜可以視為兩硬/脆相復(fù)合材料,其強(qiáng)度可以通過復(fù)合材料混合法則(Rule of Mixture,ROM)而非IBS模型計(jì)算[39-42]。Kim等[43]在16 nm/(17~301) nm Cu/Cu-Zr晶體/非晶自由膜的原位拉伸測試中,也證明了通過ROM定量描述其強(qiáng)度的尺寸依賴性;并且發(fā)現(xiàn)當(dāng)非晶層厚度ha~110 nm時(shí),晶體/非晶自由膜具有峰值拉伸強(qiáng)度,非晶層厚度大于此臨界值多層膜的強(qiáng)度幾乎與尺寸無關(guān),小于此臨界尺寸多層膜的強(qiáng)度急劇降低。這主要是由于亞微米級(jí)以上尺度的非晶層拉伸延性幾近于0,而納米尺度非晶層具有一定的塑性變形能力[43]。

        3金屬多層膜的拉伸延性及其微觀斷裂機(jī)制

        3.1晶體/晶體納米金屬多層膜延性及其尺寸效應(yīng)

        金屬材料的強(qiáng)度與延性通常存在“此消彼長”的關(guān)系,即高強(qiáng)度伴隨著低延性[44]。出乎意料的是,作者[39,41,45]發(fā)現(xiàn)晶體/晶體Cu/X(X=Cr,Nb,Zr)納米多層膜(η=1.0即等層厚)的裂紋形核臨界應(yīng)變(延性指標(biāo)),隨層厚的減小均呈現(xiàn)非單調(diào)變化的趨勢(shì),即在臨界層厚hC=25 nm時(shí)多層膜的延性出現(xiàn)峰值,明顯不同于單質(zhì)/單相組元材料延性的單調(diào)變化趨勢(shì),如圖4a所示。層厚h>hC時(shí),多層膜的延性 隨著h的增加而減??;h

        圖3 Cu/X多層膜屈服強(qiáng)度(σ0.2)對(duì)調(diào)制周期λ(a)和調(diào)制比η(b)的依賴性Fig.3 The dependences of yield strength of Cu/X multilayers on modulation period λ(a) and modulation ratio η(b)

        圖4 調(diào)制比η=1.0的Cu/X多層膜延性εC對(duì)單層厚度及Cu,Cr薄膜延性對(duì)膜厚的依賴性(a);分別是調(diào)制周期為λ= 250,50,25 nm的Cu/Cr多層膜的截面FIB/SEM照片(b~d) [39,41,45]Fig.4 Dependence of ductility εC on the layer thickness for Cu/Cr multilayers and on the film thickness for Cu and Cr monolithic thin films (a). The cross-sectional FIB/SEM images for λ= 250 nm (b), λ= 50 nm (c) and λ= 25 nm (d) Cu/Cr multilayers [39,41,45]

        作者[39-40]進(jìn)一步研究發(fā)現(xiàn),在調(diào)制周期λ一定的情況下,非等層厚的Cu/X納米多層膜的延性均隨著調(diào)制比的減小(或隨著延性相含量的增加)而單調(diào)增加(圖5)。從圖5可以看出,當(dāng)調(diào)制比η小于某一臨界值ηC(Cu/Cr為0.33,Cu/Zr為1.0)時(shí),調(diào)制周期λ=25 nm的Cu/X多層膜的延性高于λ=50 nm的多層膜的延性;當(dāng)調(diào)制比η大于ηC時(shí),后者延性低于前者。多層膜的延性隨調(diào)制比的變化仍然表現(xiàn)出奇異性。

        圖5 Cu/Cr (a)和Cu/Zr (b)多層膜延性(εC)隨調(diào)制比η的變化規(guī)律[39-40]Fig.5 Dependence of ductility εC on the modulation ratio η for Cu/Cr (a) and Cu/Zr (b) multilayers[39-40]

        Cu/X納米多層膜延性的奇異性行為表明其微觀斷裂機(jī)制在某一臨界尺寸下發(fā)生了轉(zhuǎn)變。作者[39-42]認(rèn)為:對(duì)于晶粒尺寸非均勻分布的Cu/X多層膜而言,軟/延性相Cu層的晶粒尺寸較大,其變形主要是基于位錯(cuò)機(jī)制,而硬/脆性相X層的晶粒尺寸很小(d<20 nm),其變形主要是通過晶界協(xié)調(diào)變形機(jī)制。Cu/X多層膜變形過程中,由于組元Cu層與X層的性能差異,導(dǎo)致Cu層還處于塑性變形階段時(shí)X層已萌生微裂紋,甚至發(fā)生斷裂。微裂進(jìn)一步的擴(kuò)展受到軟性相Cu層的約束抑制,能否擴(kuò)展取決于兩個(gè)因素:①裂紋尖端應(yīng)力場強(qiáng)度(ISF),當(dāng)裂紋尺寸接近于X層厚度hX時(shí),ISF正比于hCu1/2[46]。增加hCu或者減小hX有利于抑制微裂紋的擴(kuò)展,從而提高延性;②Cu層的變形能力。當(dāng)Cu層厚度hCu非常小時(shí),Cu層失去塑性變形能力,因此減小hCu不利于延性的提高。這兩方面綜合作用的結(jié)果導(dǎo)致Cu/X多層膜的延性出現(xiàn)峰值。層厚大于hC~25 nm,Cu層變形不存在問題,ISF是斷裂的主要控制因素。減小hX能夠有效地約束抑制裂紋的擴(kuò)展,促進(jìn)延性的提高。只有在層厚較大的多層膜中,X層中的裂紋才能夠克服Cu層的約束而貫穿整個(gè)多層膜,如圖4b。層厚小于hC~25 nm,Cu層出現(xiàn)韌脆轉(zhuǎn)變失去變形能力,強(qiáng)烈地降低了其對(duì)裂紋的屏蔽效應(yīng)。盡管X層中的裂紋尺寸較小,也能夠很容易地克服Cu層的約束而擴(kuò)展貫穿整個(gè)多層膜,如圖4d。這導(dǎo)致Cu/X多層膜的延性隨著層厚h的減小而減小。對(duì)于調(diào)制周期λ恒定的Cu/X納米多層膜而言,調(diào)制比小于ηC時(shí),Cu層中存在可以運(yùn)動(dòng)的位錯(cuò),有一定的變形能力阻礙裂紋的擴(kuò)展。因此,脆性相越小(裂紋尺寸越小),裂紋擴(kuò)展越容易被Cu層抑制。由于λ=25 nm Cu/X多層膜中 只有λ=50 nm的一半,因此表現(xiàn)出較高的延性。調(diào)制比大于ηC時(shí),Cu/X納米多層膜近于兩種脆性材料組成的復(fù)合材料,大量的層間界面嚴(yán)重?fù)p害多層膜的變形能力,導(dǎo)致λ=25 nm Cu/X納米多層膜的延性低于λ=50 nm多層膜的延性。

        3.2晶體/非晶納米金屬多層膜延性及其尺寸效應(yīng)

        圖6 Cu/Cu-Zr多層膜延性(εC)隨調(diào)制比η的變化規(guī)律[20]Fig.6 Experimental measurements on the dependence of critical tensile strain (εC) on η of the Cu/Cu-Zr multilayers[20]

        對(duì)于晶體/非晶多層膜來說,由于非晶層的特殊性很可能導(dǎo)致其與晶體/晶體多層膜迥異的行為與性能。一方面,Pei等[47]研究發(fā)現(xiàn)在等層厚晶體納米多層膜中出現(xiàn)的峰值延性也存在于Cu/Zr-Cu非晶體/晶體多層膜之中。另一方面,Kim等[43]在非等層厚的16 nm/(17~301 nm)-Cu/Cu-Zr晶體/非晶體自由膜原位拉伸試驗(yàn)中發(fā)現(xiàn),當(dāng)層厚ha由301 nm逐漸減小至17 nm時(shí),晶體/非晶多層膜的斷裂應(yīng)變由3%增加至4%,并且由于非晶層變形機(jī)制由高度局域化的剪切變形,轉(zhuǎn)變?yōu)榫鶆蛩苄宰冃?,?dǎo)致晶體/非晶多層膜的延性在ha=112 nm處出現(xiàn)拐點(diǎn)[93]。最近,作者團(tuán)隊(duì)[20]發(fā)現(xiàn)調(diào)制周期λ=100 nm的非等層厚的晶體/非晶Cu/Cu-Zr納米多層膜的延性,隨著調(diào)制比的減小(或隨著延性相含量的增加)卻呈現(xiàn)出非單調(diào)的變化趨勢(shì),明顯不同于上述調(diào)制周期恒定的晶體金屬多層膜,如圖6所示。當(dāng)臨界調(diào)制比ηC=1時(shí),Cu/Cu-Zr多層膜的延性達(dá)到最小值~1.2%;調(diào)制比大于ηC時(shí),Cu/Cu-Zr納米多層膜的延性隨著η的增加而增加;調(diào)制比小于ηC時(shí),其延性隨著η的增加而減小。這些結(jié)果再次證明隨著延性相含量的增加以及組元材料間的相互約束作用增強(qiáng)將導(dǎo)致多層膜的延性增加。晶體/非晶多層膜的斷裂機(jī)制仍然可以通過上述機(jī)制來定性解釋。

        4金屬多層膜拉伸強(qiáng)度-延性匹配關(guān)系

        一般來說,材料的強(qiáng)化效果越明顯越容易造成局部應(yīng)力/應(yīng)變集中,使得材料更容易斷裂,因此強(qiáng)度的增加通常引起斷裂韌性的下降[2]。作者[39,41-42,45]通過單軸拉伸試驗(yàn)系統(tǒng)研究了調(diào)制結(jié)構(gòu)(調(diào)制周期λ與調(diào)制比η)對(duì)Cu/X(X=Cr、Nb、Zr)納米金屬多層膜斷裂韌性的影響。結(jié)果表明,等層厚(η=1.0)Cu/X納米金屬多層膜的斷裂韌性與延性的變化趨勢(shì)一致,即在臨界層厚hC=25 nm出現(xiàn)峰值[39,41-42,45]。斷裂韌性呈現(xiàn)最大值的現(xiàn)象同樣可以采用上述斷裂機(jī)制來解釋。微裂紋首先萌生于脆性X層中,其進(jìn)一步的擴(kuò)展被界面阻礙。增加外界載荷時(shí),鈍化的裂紋尖端處位錯(cuò)發(fā)射與Cu層解理斷裂相互競爭。當(dāng)裂紋尖端拉應(yīng)力達(dá)到材料的歸一化結(jié)合強(qiáng)度,延性Cu層(解理)斷裂,起始裂紋繼續(xù)擴(kuò)展導(dǎo)致張開型斷裂。微觀斷裂力學(xué)模型[48]計(jì)算表明,裂紋尖端發(fā)射的最大位錯(cuò)數(shù)目Nmax強(qiáng)烈依賴于hCu。當(dāng)hCu低于臨界值hC時(shí),Nmax急劇降低。這說明裂紋尖端少量位錯(cuò)發(fā)射導(dǎo)致Cu層脆化,嚴(yán)重?fù)p失其塑性變形能力。反之,合理選取hCu或稍大于hC,在維持高強(qiáng)度的同時(shí),脆性材料可以通過多層膜結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)韌化。

        對(duì)于調(diào)制周期λ(λ=25,50 nm)恒定的Cu/X多層膜而言,其斷裂韌性變化趨勢(shì)與其延性的變化趨勢(shì)相同,并且其延性與強(qiáng)度之間此消彼長且存在一定的線性關(guān)系[40]。這說明恒定的調(diào)制周期或者相同的界面數(shù)量下,Cu/X多層膜的延性反比于其強(qiáng)度。可以采用塊體材料如鋁合金的宏觀斷裂臨界應(yīng)力模型[49]來描述此類斷裂行為。此外,材料中界面數(shù)量越多,界面對(duì)位錯(cuò)運(yùn)動(dòng)的強(qiáng)烈約束越強(qiáng),此線性關(guān)系的斜率也就越大。例如,λ=25 nm的Cu/Cr多層膜的線性斜率為-2.8×10-3MPa-1,約為λ=50 nm的Cu/Cr多層膜的兩倍。這說明由于位錯(cuò)活動(dòng)受到增加的界面強(qiáng)烈抑制,通過界面約束實(shí)現(xiàn)材料的強(qiáng)化將大幅損失其變形能力。

        5結(jié)語

        層狀結(jié)構(gòu)材料作為一種典型的非均質(zhì)材料,由于其靈活多變的組元種類與微觀結(jié)構(gòu)特征,成為了潛在的工程與微電子領(lǐng)域的高強(qiáng)高韌結(jié)構(gòu)材料。對(duì)于多層膜這類典型非均質(zhì)材料而言,其復(fù)合效應(yīng)的物理基礎(chǔ)正是源于組元材料的性能差異及其微觀結(jié)構(gòu)(尤其是界面結(jié)構(gòu)/特性)。 因此,將微觀結(jié)構(gòu)表征與機(jī)理研究相結(jié)合,在更深的層次上揭示材料微觀結(jié)構(gòu)特征與宏觀力學(xué)特性的內(nèi)在聯(lián)系,建立行之有效的材料組分與結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)準(zhǔn)則,進(jìn)而通過界面工程在原子尺度上調(diào)控層狀結(jié)構(gòu)材料的界面結(jié)構(gòu)/特性來調(diào)控其使役性能,將是未來研究的熱點(diǎn)與挑戰(zhàn)。

        參考文獻(xiàn)References

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        (本文為本刊約稿,編輯蓋少飛)

        Size Effects on the Strengthening/Toughening ofNanostructured Metallic Multilayers

        ZHANG Jinyu, LIU Gang, SUN Jun

        (State Key Laboratory for Mechanical Behavior of Materials, Xi’an Jiaotong University, Xi’an 710049, China)

        Abstract:How to defeat the conflict of strength vs toughness and achieve unprecedented levels of damage tolerance within structural materials is a grand challenge for their microstructure-sensitive design of heterogeneous metallic materials. Nanostructured metallic multilayers act as one class of typical heterogeneous materials and manifest great potential to obtain the structural materials with the combination of high strength and superior toughness, due to their tunable dimensional and microstructural length of the constituents as well the great advantage of tunable interfacial structures via introducing different constituents. The present authors had systematically investigated the size and interface effects on the mechanical properties, such as hardness/strength, tensile ductility, fracture toughness, and strengthening/toughening mechanisms of crystalline/crystalline Cu/X (X=Cr, Nb, Zr) and crystalline/amorphous Cu/Cu-Zr nanolayered films/micropillars. In this paper, based on these experimental results achieved by the present authors, as well as the progresses at home and abroad made in the plastic deformation behavior of NMMs, the correlation of microstructure-size constraint-mechanical performance in NMMs (and nanolayered micropillars) is reviewed. Finally, a brief prospect on the studies of NMMs in future is discussed.

        Key words:nanostructured metallic multilayer; interface; plastic deformation; fracture behavior; strengthening/toughening mechanism; size effect

        收稿日期:2015-09-09

        基金項(xiàng)目:國家自然科學(xué)基金資助項(xiàng)目(51321003, 51322104,51201123, 51571157); 科技部973計(jì)劃項(xiàng)目(2010CB631003)

        通信作者:孫軍,男,1959年生,教授,博士生導(dǎo)師,Email:junsun@mail.xjtu.edu.cn

        DOI:10.7502/j.issn.1674-3962.2016.05.07

        中圖分類號(hào):TG113

        文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼:A

        文章編號(hào):1674-3962(2016)05-0374-07

        第一作者:張金鈺,男,1982年生,副教授,碩士生導(dǎo)師

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