黃子迅,盧 磊,沈龍山,石祖強(qiáng),王震寰
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側(cè)副溝形態(tài)學(xué)及分叉點(diǎn)的立體定位研究
黃子迅1,盧磊2,沈龍山1,石祖強(qiáng)1,王震寰3,4
[摘要]目的:探討大腦側(cè)副溝在MRI橫斷面及冠狀面圖像上的形態(tài)學(xué)規(guī)律。方法:在eFilm2.1工作站中,選取40名正常成人志愿者頭顱連續(xù)MRI橫斷位及冠狀位掃描數(shù)據(jù),運(yùn)用結(jié)構(gòu)連續(xù)追蹤法和3D-Cursor技術(shù),對(duì)連續(xù)MRI橫斷面及冠狀面圖像上的側(cè)副溝進(jìn)行識(shí)別、觀測(cè),統(tǒng)計(jì)其形態(tài)學(xué)特征。結(jié)果:側(cè)副溝分為三部分,即鼻嗅溝、中段側(cè)副溝及枕部側(cè)副溝;側(cè)副溝在MRI冠狀面圖像上隨著層面向后移而溝上移;枕部側(cè)副溝在72.5%情況下出現(xiàn)分支,分為內(nèi)、外側(cè)支;側(cè)副溝在冠狀面映射長(zhǎng)度=橫斷面層數(shù)×2 mm,其在橫斷面映射長(zhǎng)度=冠狀面層數(shù)×2 mm。結(jié)論:大腦側(cè)副溝MRI橫斷面及冠狀面圖像上的形態(tài)學(xué)研究可為側(cè)副溝及相鄰腦區(qū)病變的識(shí)別和定位提供解剖學(xué)資料。
[關(guān)鍵詞]中樞神經(jīng)系統(tǒng);側(cè)副溝;斷層影像解剖;磁共振成像
[作者單位]1.蚌埠醫(yī)學(xué)院第二附屬醫(yī)院醫(yī)學(xué)影像科,安徽蚌埠233040; 2.江蘇省大豐市中醫(yī)院醫(yī)學(xué)影像科,224100;蚌埠醫(yī)學(xué)院3.臨床應(yīng)用解剖研究所人體解剖學(xué)教研室,4.組織移植安徽省重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,安徽蚌埠233030
側(cè)副溝是大腦顳葉內(nèi)側(cè)面相對(duì)恒定的腦溝之一,為海馬旁回與枕顳內(nèi)側(cè)回的分界,后方一直延伸至枕葉,將海馬旁回與梭狀回分開。顳葉癲癇、抑郁癥、阿爾茨海默病、精神分裂癥等疾病與側(cè)副溝的形態(tài)異常有著密切關(guān)系。側(cè)副溝是重要的解剖標(biāo)志,不僅描繪了與記憶功能相關(guān)的邊緣地區(qū),而且其后方的舌回參與視覺信息處理。快速準(zhǔn)確地識(shí)別側(cè)副溝是精確定位鄰近皮質(zhì)區(qū)的基礎(chǔ),對(duì)該區(qū)域病變的診斷和治療具有重要意義。本研究對(duì)40名正常成人志愿者活體大腦MRI進(jìn)行分析,探討成人側(cè)副溝在橫斷面及冠狀面上的形態(tài)特征及分布規(guī)律,以期為腦立體定向及側(cè)副溝區(qū)域形態(tài)及功能的聯(lián)系提供解剖學(xué)資料。
1.1一般資料40名成年志愿者,均對(duì)本研究知情同意,其中男20名,女20名;年齡21~58歲。臨床/門診體檢及MRI顱腦檢查均無神經(jīng)、精神病史,無家族史。同時(shí)獲取橫斷位、冠狀位及矢狀位T1加權(quán)圖像,以Dicom 3.0格式保存。
1.2主要儀器與設(shè)備Signal 1.5T型超導(dǎo)磁共振(1.5T MR Echospeed)掃描儀及頭顱正交線圈(General Electric Co.,USA) ;聯(lián)想計(jì)算機(jī)E5700(聯(lián)想公司)。
1.3主要軟件系統(tǒng)Microsoft Windows XP Professional,2002 Service Pack3(微軟中國(guó)) ; eFilm Workstation,版本2.1.0 (Merge eMed Co.USA) ; Adobe Photoshop CS 5.0 (Adobe Systems Incorporated,USA) ; SPSS 17.0統(tǒng)計(jì)軟件。
1.4方法
1.4.1 MRI掃描方位及技術(shù)參數(shù)MRI掃描基線為前聯(lián)合后緣中點(diǎn)到后聯(lián)合前緣中點(diǎn)的連線,即AC-PC。掃描野25.0 cm×25.0 cm,分辨率512× 512,自旋回波序列,TR: 1 900~1 925 ms,TE: 21~22 ms。橫斷層圖像以AC-PC平面為零層面,層厚為2 mm,層間隔0 mm;冠狀面以垂直于AC-PC為基線掃描,層厚2 mm,層間隔0 mm;矢狀面以頭顱正中矢狀面為零層面,層厚2 mm,層間隔0 mm。掃描過程中嚴(yán)格保持頭顱固定。
1.4.2頭顱MRI數(shù)據(jù)的讀取由于掃描野為大小不變的正方形,頭顱斷層影像域相對(duì)于正方形的4個(gè)頂位置固定,圖像配準(zhǔn)通過正方形4個(gè)頂點(diǎn)自動(dòng)完成,亦即圖像的大小,配準(zhǔn)信息包含于Dicom3.0格式的信息中,無需人工干預(yù)。40份頭顱連續(xù)MRI斷層掃描數(shù)據(jù),在微型計(jì)算機(jī)上以Dicom3.0格式導(dǎo)入eFilm2.1工作站。通過eFlim2.1工作站中所具備的“基于連續(xù)斷層的結(jié)構(gòu)追蹤法”(連續(xù)追蹤法)[1]和“三維定位法”(3D-Cursor)[2]功能,以橫斷面上易識(shí)別的側(cè)副溝為依據(jù),識(shí)別冠狀面上的側(cè)副溝(見圖1)。在eFilm2.1工作站中選取所需序列(本研究中所用序列為冠狀面T1MRI圖像)導(dǎo)出,保存為JPEG格式。
1.4.3笛卡爾坐標(biāo)系建立在Photoshop中打開eFilm轉(zhuǎn)換過的JPEG格式圖像,選擇“圖像”-“圖像大小”,打開“圖像大小”對(duì)話框,將“文檔大小”的寬度和高度調(diào)整為240 mm,分辨率調(diào)為21.333 333,使其與圖像實(shí)際大小相符。在eFilm2.1工作站中,用連續(xù)追蹤法和3D-Cursor功能在橫斷層圖像上找出前、后連合相對(duì)應(yīng)的冠狀面層面,若前、后連合之間的層面為奇數(shù),坐標(biāo)Y值的原點(diǎn)落在距離前、后連合相等的層面;若前、后連合之間的層面為偶數(shù),坐標(biāo)Y值的原點(diǎn)不會(huì)落在所掃描的冠狀層面上,這時(shí),將坐標(biāo)系Y軸向后平移1 mm,使坐標(biāo)Y值的原點(diǎn)能落在所掃描的冠狀層面上,Y軸的零層面為(前連合所在的層面數(shù)+后連合所在的層面數(shù)-1) /2。在冠狀面上測(cè)出前連合的坐標(biāo)值(X1,Z1)和后連合的坐標(biāo)值(X2,Z2),由于冠狀面掃描基線是垂直于AC-PC線,所以X1= X2,Y1= Y2,即計(jì)算出大腦原點(diǎn)的坐標(biāo)值(X0,Z0)即(X0= X1= X2,Z0= Z1= Z2),然后以該坐標(biāo)為原點(diǎn)建立X-Z二維坐標(biāo)系,將Photoshop中默認(rèn)的參考線拖至與新參考線重合。每個(gè)冠狀層上自側(cè)副溝最外緣開始,向上沿Z軸每個(gè)2 mm取一個(gè)取樣點(diǎn)。至此,我們可以利用Potoshop軟件坐標(biāo)值的直接讀取功能讀出并記錄每個(gè)冠狀面上側(cè)副溝取樣點(diǎn)的坐標(biāo)值(X,Z) (見圖2),其Y值為所在層面與零層面的層距距離與層厚(2 mm)的乘積。
1.4.4側(cè)副溝分段、分支及結(jié)構(gòu)判斷依據(jù)側(cè)副溝位于顳葉內(nèi)側(cè)面一條由前下至后上走行的溝,它與前方的鼻嗅溝方向一致,且與鼻嗅溝一起形成海馬旁回的外側(cè)緣。有些學(xué)者研究表明鼻嗅溝與側(cè)副溝之間是連續(xù)的,而有些學(xué)者認(rèn)為側(cè)副溝并不都是連續(xù)的。本研究將側(cè)副溝分為3段來研究,即第1段鼻嗅溝,第2段中段側(cè)副溝和第3段枕部側(cè)副溝。側(cè)副溝在進(jìn)入枕葉的過程中大部分出現(xiàn)分支,分為內(nèi)側(cè)支和外側(cè)支,通常外側(cè)支較內(nèi)側(cè)支長(zhǎng)。在冠狀面MRI圖像上,側(cè)副溝在腦表面明顯出現(xiàn)內(nèi)、外側(cè)支的前一層面上的最外側(cè)點(diǎn)定義為分叉點(diǎn),它是側(cè)副溝第2段和第3段的分界。
2.1中段側(cè)副溝與鼻嗅溝的關(guān)系鼻嗅溝和中段側(cè)副溝在表面上連續(xù),在深部也連續(xù)為33側(cè)(41.25%),其中左半球24側(cè),右半球9側(cè)。鼻嗅溝和中段側(cè)副溝在表面上不連續(xù),在深部也不連續(xù)為44側(cè)(55%),其中左半球15側(cè),右半球29側(cè)。鼻嗅溝和中段側(cè)副溝在表面上不連續(xù),在深部連續(xù)為3側(cè)(3.75%),其中左半球1側(cè),右半球2側(cè)。
2.2側(cè)副溝與枕顳溝的關(guān)系枕顳溝位于側(cè)副溝的外側(cè),將側(cè)副溝外側(cè)的腦回分為枕顳內(nèi)側(cè)回和枕顳外側(cè)回。本研究中顯示枕顳溝與側(cè)副溝之間有連接為37側(cè)(左半球18側(cè),右半球19側(cè)),其中表面上無連接,只是在內(nèi)部有連接的為8側(cè)(左半球1側(cè),右半球7側(cè))。
2.3枕部側(cè)副溝分叉點(diǎn)的出現(xiàn)率雙側(cè)半球側(cè)副溝均出現(xiàn)分叉點(diǎn)24例(60.0%) ;僅左側(cè)出現(xiàn)8例(20.0%) ;僅右側(cè)出現(xiàn)2例(5.0%) ;雙側(cè)均未出現(xiàn)分叉點(diǎn)6例(15.0%)。左側(cè)側(cè)副溝出現(xiàn)分叉點(diǎn)32 例(80.0%) ;右側(cè)出現(xiàn)分叉點(diǎn)26例(65.0%)。側(cè)副溝分叉點(diǎn)在80例大腦半球中出現(xiàn)58側(cè)(72.5%) (見表1)。
表1 男、女性大腦枕部左、右側(cè)側(cè)副溝的分叉點(diǎn)出現(xiàn)率[側(cè);百分率(%)]
2.4側(cè)副溝的橫斷層解剖側(cè)副溝在橫斷層上較易辨認(rèn),為大腦顳葉底面的一條前后走形的腦溝,一直延伸到枕葉。側(cè)副溝出現(xiàn)的層面大部分為AC-PC層面以下。從下往上,最先出現(xiàn)的是鼻嗅溝,其次是側(cè)副溝,最后出現(xiàn)的是枕部側(cè)副溝。顳極出現(xiàn)后,在側(cè)腦室下角的后方出現(xiàn)一條短溝為鼻嗅溝,其外側(cè)有一條向后外方走行的枕顳溝。鼻嗅溝在橫斷層面由前向后的形態(tài)開始由前后走行的短線形,逐漸變?yōu)樾毕蚝髢?nèi)方的短線狀。側(cè)副溝開始為斜向后內(nèi)方的短線形,在大腦腳層面逐漸變?yōu)闄M行的短溝,此溝位于大腦腳與小腦連接水平。側(cè)副溝延伸至枕葉前出現(xiàn)分叉,大部分分為兩支,即內(nèi)側(cè)支和外側(cè)支。兩個(gè)分支在橫斷層面上表現(xiàn)為走行迂曲的長(zhǎng)線狀,內(nèi)側(cè)支常較外側(cè)支短,內(nèi)側(cè)支多為后內(nèi)側(cè)走行,而外側(cè)支會(huì)出現(xiàn)一個(gè)或多個(gè)小分支,其走行方向較為復(fù)雜,隨著層面往上走,枕部側(cè)副溝逐漸變短,大約在小腦蚓層面消失。
2.5側(cè)副溝的冠狀層解剖側(cè)副溝在冠狀面上從前向后出現(xiàn)的順序?yàn)楸切釡?、中段?cè)副溝、枕部側(cè)副溝。大部分人在側(cè)腦室下角出現(xiàn)前2~3個(gè)層面,鼻嗅溝開始出現(xiàn),其位于側(cè)腦室、海馬的正下方,大部分鼻嗅溝與側(cè)副溝不連續(xù),鼻嗅溝的尾部位于側(cè)副溝頭部的內(nèi)側(cè),在所觀察的數(shù)據(jù)中有2例位于外側(cè)。隨著層面往后走行,側(cè)副溝的最外側(cè)點(diǎn)由下方逐漸轉(zhuǎn)向顳葉的內(nèi)側(cè),其形態(tài)由上下走行轉(zhuǎn)變?yōu)樽笥易咝?,最后到枕葉內(nèi),其又變?yōu)樵瓉淼纳舷伦咝械亩虦稀?/p>
2.6側(cè)副溝橫斷位典型層面
2.6.1經(jīng)第四腦室下方層面此層為AC-PC平面下方第15橫斷面,距大腦原點(diǎn)30 mm,主要顯示顳葉、第四腦室、腦干及小腦等。在顳葉偏內(nèi)側(cè)清晰可見的短小且前后走行的溝為鼻嗅溝,其外側(cè)較長(zhǎng)為枕顳溝(見圖3)。
2.6.2經(jīng)海馬頭層面此層為AC-PC平面下方第10橫斷面,主要顯示側(cè)腦室,海馬、第四腦室、腦橋及小腦等。鼻嗅溝已經(jīng)消失,在側(cè)副溝和海馬頭的后方,側(cè)副溝的前部才剛剛開始顯示,表現(xiàn)為由前外至內(nèi)后走行。其外側(cè)的枕顳溝似“()”走行(見圖4)。
2.6.3經(jīng)視交叉及腳間池層面此層為AC-PC平面下方第8橫斷面,主要顯示視交叉、腳間池、腦橋及小腦等。側(cè)副溝位于海馬的后方,表現(xiàn)為短小的溝,其斜向內(nèi)側(cè)走行。左側(cè)側(cè)腦室下角較右側(cè)顯示明顯。枕顳溝在此層面上十分清晰,右側(cè)連續(xù),而左側(cè)有中斷,方向雙側(cè)大致相同(見圖5)。
2.6.4經(jīng)小腦蚓層面此層為AC-PC平面下方第4橫斷面,主要顯示額葉、顳葉、側(cè)腦室下角、乳頭體、大腦腳、下丘、環(huán)池及小腦蚓等。側(cè)副溝仍位于側(cè)腦室及海馬的后方,其內(nèi)側(cè)為海馬旁回,外側(cè)為枕顳內(nèi)側(cè)回,右側(cè)側(cè)副溝的走行較迂曲,且進(jìn)入枕葉過程中側(cè)副溝出現(xiàn)分支,分為內(nèi)側(cè)支和外側(cè)支,左側(cè)側(cè)副溝出現(xiàn)分支較右側(cè)靠前(見圖6)。
2.7側(cè)副溝冠狀面典型層面
2.7.1經(jīng)視交叉及垂體層面此層主要顯示蝶鞍區(qū)、基底核以及頜面部結(jié)構(gòu),雙側(cè)顳葉內(nèi)側(cè)面的由內(nèi)下向外上走行的溝為鼻嗅溝,雙側(cè)走行大致相同。側(cè)腦室前角的外側(cè)為基底核區(qū),其由內(nèi)到外的結(jié)構(gòu)分別為尾狀核頭、內(nèi)囊前肢、豆?fàn)詈?、外囊?垂體位于蝶鞍區(qū),其上方見“一”字形稍高信號(hào)為視交叉(見圖7)。
2.7.2經(jīng)松果體層面此層主要顯示頂葉、顳葉、胼胝體干、側(cè)腦室以及腦干等結(jié)構(gòu)。兩側(cè)顳葉內(nèi)側(cè)面由內(nèi)下至外上的短溝為側(cè)副溝,此溝的內(nèi)上方為海馬,其外側(cè)的上下走行的為枕顳溝(見圖8)。
2.8男女性大腦左右側(cè)側(cè)副溝在橫斷層及冠狀面上的映射側(cè)副溝的解剖學(xué)及形態(tài)學(xué)規(guī)律研究顯示,男女性大腦在橫斷面及冠狀面上雙側(cè)側(cè)副溝出現(xiàn)的層數(shù)差異均無統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P>0.05),男性左右側(cè)側(cè)副溝出現(xiàn)的層數(shù)差異無統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P>0.05),而女性左側(cè)側(cè)副溝出現(xiàn)的層數(shù)多于右側(cè)(P<0.01) (見表2)。男女性大腦冠狀面左側(cè)側(cè)副溝出現(xiàn)的層數(shù)均多于右側(cè)(P<0.01),而男性左右側(cè)側(cè)副溝出現(xiàn)的層數(shù)均多于女性(P<0.05) (見表3)。側(cè)副溝在橫斷面的映射長(zhǎng)度為側(cè)副溝在冠狀面出現(xiàn)層數(shù)×2 mm,在冠狀面的映射長(zhǎng)度為側(cè)副溝在橫斷面出現(xiàn)層數(shù)×2 mm。
2.9枕部側(cè)副溝分叉點(diǎn)三維立體定位數(shù)據(jù)集的構(gòu)建及投影圖我們將頭顱MRI的側(cè)副溝橫斷面與冠狀面在eFilm2.1軟件中對(duì)比,找出側(cè)副溝在雙側(cè)大腦均出現(xiàn)分叉點(diǎn)的樣本,將選擇的樣本中出現(xiàn)分叉點(diǎn)的冠狀面如圖2測(cè)出分叉點(diǎn)的三維坐標(biāo)值,建立枕部側(cè)副溝分叉點(diǎn)的三維立體定位數(shù)據(jù)集(見表4),并在Excell上繪制出枕部側(cè)副溝分叉點(diǎn)在各個(gè)方向上的投影散點(diǎn)圖(見圖10~13)。
表2 男女性大腦橫斷面雙側(cè)側(cè)副溝出現(xiàn)的層數(shù)比較(ni=20;±s)
表2 男女性大腦橫斷面雙側(cè)側(cè)副溝出現(xiàn)的層數(shù)比較(ni=20;±s)
性別 右側(cè) 左側(cè)d±sdt P 男15.85±6.02 16.05±5.01 0.20±1.75 0.51?。?.05女 16.10±4.13 17.70±4.99 1.60±1.45 4.93?。?.01 t 0.15 1.04 — — —P ?。?.05 >0.05— — —
表3 男女性大腦冠狀面雙側(cè)側(cè)副溝出現(xiàn)的層數(shù)比較(ni=20;±s)
表3 男女性大腦冠狀面雙側(cè)側(cè)副溝出現(xiàn)的層數(shù)比較(ni=20;±s)
性別 右側(cè) 左側(cè)d±sdt P 男34.65±3.86 36.65±5.08 2.00±1.43 6.25?。?.01女 31.55±4.07 32.70±6.12 1.15±1.64 3.14?。?.01 t 2.47 2.22 — — —P <0.05 ?。?.05— — —
表4 枕部側(cè)副溝分叉點(diǎn)三維坐標(biāo)范圍、均數(shù)及標(biāo)準(zhǔn)差(ni=24; mm)
本研究通過對(duì)40名正常成人頭顱連續(xù)MRI圖像的影像學(xué)分析,顯示了顳葉內(nèi)側(cè)面腦溝形態(tài)存在很大的側(cè)別、性別和個(gè)體間差異。本研究分別從側(cè)副溝的連續(xù)性及與鄰溝之間的關(guān)系、枕部側(cè)副溝分叉點(diǎn)出現(xiàn)概率及數(shù)目三方面進(jìn)行了統(tǒng)計(jì),發(fā)現(xiàn)側(cè)副溝的形態(tài)存在很大的側(cè)別差異性。在橫斷面和冠狀面上,從形態(tài)、位置以及走行等方面做了分析,得到了一些形態(tài)學(xué)規(guī)律。
在研究側(cè)副溝整體形態(tài)特征中,我們選擇冠狀面進(jìn)行研究,主要基于側(cè)副溝的形態(tài)為前后走行,在橫斷層上顯示的層面相對(duì)很少,平均(16.425± 5.039)層,在矢狀面上不僅顯示層面少,并且雙側(cè)側(cè)副溝無法在一幅MRI圖像上同時(shí)顯示。在冠狀面上顯示側(cè)副溝的層面平均(33.888±5.158)層,能更好地保留有效數(shù)據(jù),且同一層面上兩側(cè)側(cè)副溝均能顯示,可以較好地對(duì)比辨別,因此,用冠狀面圖像研究側(cè)副溝的特征形態(tài)是合適的選擇。
3.1側(cè)副溝與鄰溝之間的關(guān)系研究意義及價(jià)值
研究發(fā)現(xiàn)鼻嗅溝與中段側(cè)副溝連續(xù)的概率為41.25%,與HANKE等[3]的研究結(jié)果相仿,但是與HUNTGEBURTH等[4]的研究結(jié)果為2.5%存在較大差異,原因可能是HUNTGEBURTH等采集的是1 mm層厚,0 mm層距的MRI圖像,本研究掃描的為2 mm層厚,0 mm層距,鼻嗅溝與中段側(cè)副溝之間存在小的裂隙未能很好顯示;另外不同人種胚胎發(fā)育的差別也可能是結(jié)果存在差異的原因之一。本研究發(fā)現(xiàn)鼻嗅溝和中段側(cè)副溝之間的連續(xù)存在明顯左右不對(duì)稱,左側(cè)側(cè)副溝的走行較右側(cè)更為連續(xù)(兩者連續(xù)左側(cè)為24例,右側(cè)為9例)。為進(jìn)一步觀察側(cè)副溝與周圍腦溝的關(guān)系,本研究還對(duì)側(cè)副溝和枕顳溝的關(guān)系進(jìn)行了研究,結(jié)果表明兩者之間在表面上連續(xù)的概率為46.25%,另外在內(nèi)部有連接的為8例,其中7例位于右側(cè)。
此外,KIM等[5]對(duì)51名健康受試者和69例癲癇患者(左側(cè)癲癇37例,右側(cè)癲癇32例)進(jìn)行研究,4種腦溝模式描述鼻嗅溝、枕顳溝和中段側(cè)副溝之間的關(guān)系,結(jié)果顯示健康人在56%的情況下鼻嗅溝和中段側(cè)副溝在表面上和深度分離,與患者的63%結(jié)果一致;而他們描述在44%的情況下鼻嗅溝和中段側(cè)副溝形成一個(gè)單一的分支,我們的結(jié)果41.25%與之相仿。
3.2枕部側(cè)副溝分叉點(diǎn)出現(xiàn)率與數(shù)目的研究和意義在我們的樣本中,左側(cè)大腦半球有75%,右側(cè)半球有65%出現(xiàn)分叉點(diǎn)。與研究[4]結(jié)果顯示的91.25%存在一定的差異。究其原因可能與人種胚胎發(fā)育的不同有關(guān)。側(cè)副溝分叉點(diǎn)左右側(cè)的Y值均數(shù)相等,均為-33.417,左側(cè)X值均數(shù)的絕對(duì)值較右側(cè)X值均數(shù)的絕對(duì)值大,說明左側(cè)的分叉點(diǎn)較右側(cè)更偏外。右側(cè)Z值均數(shù)的絕對(duì)值較左側(cè)Z值均數(shù)的絕對(duì)值大,說明左側(cè)的分叉點(diǎn)離AC-PC層面較近。
CHI等[7]研究人類尸體大腦圍產(chǎn)期腦溝、腦回的發(fā)展,發(fā)現(xiàn)側(cè)副溝在顳葉和枕葉的形成是妊娠20~23周,與海馬旁回形成是同一時(shí)期,認(rèn)為枕部側(cè)副溝可能與枕葉的發(fā)展有關(guān),獨(dú)立的顳葉內(nèi)側(cè)緣與記憶處理有關(guān)系。
3.3側(cè)副溝在橫斷層及冠狀面上的映射側(cè)副溝在橫斷面及冠狀面上的映射反映了側(cè)副溝的長(zhǎng)度。側(cè)副溝在橫斷面的映射長(zhǎng)度=冠狀面層數(shù)×2 mm,在冠狀面的映射長(zhǎng)度=橫斷面層數(shù)×2 mm。從橫斷面上男、女左右側(cè)側(cè)副溝出現(xiàn)的層數(shù)可以看出,側(cè)副溝在橫斷面上的映射長(zhǎng)度,女性的長(zhǎng)度大于男性,但差異無統(tǒng)計(jì)學(xué)意義,而男、女性左右側(cè)均是左側(cè)大于右側(cè),差異亦無統(tǒng)計(jì)學(xué)意義。而從冠狀面上男、女左右側(cè)側(cè)副溝出現(xiàn)的層數(shù)可以看出,側(cè)副溝在冠狀面上的映射長(zhǎng)度,男性的長(zhǎng)度大于女性,差異有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義,而男、女性左右側(cè)均是左側(cè)大于右側(cè),但差異無統(tǒng)計(jì)學(xué)意義。本實(shí)驗(yàn)探討了男女性雙側(cè)側(cè)副溝在橫斷面及冠狀面的映射長(zhǎng)度關(guān)系,有助于我們進(jìn)一步認(rèn)識(shí)側(cè)副溝在三維立體空間的位置關(guān)系。
3.4側(cè)副溝在橫斷面和冠狀面上的形態(tài)特點(diǎn)的觀察分析側(cè)副溝的走行特點(diǎn)決定了側(cè)副溝在橫斷面及冠狀面上的形態(tài)特點(diǎn),側(cè)副溝位于大腦半球顳葉內(nèi)側(cè)面,是大腦的重要的解剖結(jié)構(gòu)。崔志譚等[6]在大腦標(biāo)本上研究了大腦溝、回的整體形態(tài),發(fā)現(xiàn)側(cè)副溝的前后兩端變化很大,后端有時(shí)可伸至枕葉的背外側(cè)面。鼻嗅溝在杏仁核的外側(cè)和海馬的前部形成一個(gè)較深的溝,為鉤回的外側(cè)界。中段側(cè)副溝沿海馬旁回外側(cè)緣向枕葉伸入,進(jìn)入枕葉之前側(cè)副溝在距狀溝的前部出現(xiàn)分叉,內(nèi)側(cè)支走行向內(nèi)后方,外側(cè)支多向外后方走行。
側(cè)副溝的走行大致為前后方向,在出現(xiàn)側(cè)腦室和海馬的冠狀層面中,側(cè)副溝位于它們的下方,隨著層面向后走,側(cè)副溝的外側(cè)緣開始位于顳葉底面上下走行,逐漸轉(zhuǎn)至顳葉內(nèi)側(cè)面,變?yōu)閮?nèi)下向外上走行,有的樣本幾乎呈“一”字形,最后到達(dá)枕葉,側(cè)副溝的最內(nèi)端逐漸向內(nèi)轉(zhuǎn)。
隨著微創(chuàng)神經(jīng)醫(yī)學(xué)的發(fā)展,要求對(duì)顱內(nèi)病灶進(jìn)行精確定位,本研究對(duì)大腦側(cè)副溝在活體MRI橫斷面及冠狀面上的形態(tài)做了初步的觀察研究,對(duì)腦功能影像學(xué)研究、病灶的影像定位診斷及立體定位手術(shù)有重要的臨床意義。
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(本文編輯劉夢(mèng)楠)
·基礎(chǔ)醫(yī)學(xué)·
The morphology and stereotaxy of bifurcation of the cerebral collateral sulcus
HUANG Zi-xun1,LU Lei2,SHEN Long-shan1,SHI Zu-qiang1,WANG Zhen-huan3,4
(1.Department of Medical Imaging,The Second Affiliated Hospital of Bengbu Medical College,Bengbu Anhui 233040; 2.Department of Medical Imaging,The TCM Hospital of Dafeng,Dafeng Jiangsu 224100; 3.Institute of Clinic Anatomy,Department of Human Anatomy,
4.Anhui Key Laboratory of Tissue Transplantation,Bengbu Medical College,Bengbu Anhui 233030,China)
[Abstract]Objective: To explore the morphology of cerebral collateral sulcus(COS) on the MRI cross section and coronal plane image of brain.Methods: In the eFilm2.1 workstation,the continuously cross section and coronal plane MRI scanning data of 40 health adult volunteer brain were selected.The morphological characteristics of COS on the continuously cross section and coronal plane MRI were identified,observed and analyzed using the structure continuous tracking method and 3D-Cursor technology.Results: The collateral sulcus could be divided into the sulcus olfactorius nasi,middle collateral sulcus and occipital collateral sulcus.With the stratification plane rearward shift,the collateral sulcus on the coronal plane image moved upper.The 72.5% of occipital collateral sulcus was divided into the medial and lateral branches.The mapping length of collateral sulcus on the coronal plane and cross section plane equaled to the number of plies of cross section times 2 mm and number of plies of coronal plane times 2 mm,respectively.Conclusions: The morphological pattern of COS in the MRI cross and coronal-sectional images can provide the anatomical information for identifying and locating the collateral sulcus and its adjacent brain lesion.
[Key words]central nervous sysytem; collateral sulcus; sectional imaging anatomy; maganetic resonance imaging
[通信作者]王震寰,碩士研究生導(dǎo)師,教授.E-mail: bbmcpwzh@ sina.com
[作者簡(jiǎn)介]黃子迅(1988-),女,碩士研究生.
[基金項(xiàng)目]安徽省跨世紀(jì)學(xué)術(shù)和技術(shù)帶頭人后備人選科研項(xiàng)目(2002HBL26)
[收稿日期]2014-05-08
[文章編號(hào)]1000-2200(2016) 01-0001-06
[中圖法分類號(hào)]R 322.81
[文獻(xiàn)標(biāo)志碼]A
DOI:10.13898/j.cnki.issn.1000-2200.2016.01.001