孟 炎,魏厚前,曹秀清,黃文華,鄧 文(廣西大學(xué)物理科學(xué)與工程技術(shù)學(xué)院,廣西 南寧 530004)
Ce:YAG熒光晶體的制備及其光學(xué)性能研究*
孟 炎,魏厚前,曹秀清,黃文華,鄧 文?
(廣西大學(xué)物理科學(xué)與工程技術(shù)學(xué)院,廣西 南寧 530004)
以固相反應(yīng)法制備了致密的不同Ce含量的Ce:YAG陶瓷料棒,再用光學(xué)浮區(qū)法將這些Ce:YAG陶瓷料棒生長(zhǎng)成Ce:YAG晶體。XRD結(jié)果表明,Ce:YAG陶瓷料棒主相為YAG相,同時(shí)存在部分YAP相;而光學(xué)浮區(qū)法生長(zhǎng)的Ce:YAG晶體完全形成了YAG相,沒(méi)有其他雜峰的出現(xiàn),衍射峰尖銳,半峰寬窄,即光學(xué)浮區(qū)法生長(zhǎng)的YAG晶體質(zhì)量較高。Ce:YAG晶體的光學(xué)均勻性較好,在500-800 nm區(qū)間,其平均透過(guò)率為90% -93%。Ce:YAG晶體的吸收光譜中心波長(zhǎng)在456 nm具有較大的吸收系數(shù)。以波長(zhǎng)為460 nm的單色光為光源激發(fā)Ce:YAG晶體測(cè)得其熒光光譜,其中,含1 at.% Ce的Ce:YAG晶體在黃綠光區(qū)域有較強(qiáng)的發(fā)光強(qiáng)度。
光學(xué)浮區(qū)法;Ce:YAG熒光晶體;透過(guò)率;吸收光譜;熒光光譜
釔鋁石榴石(化學(xué)式為Y3Al5O12,簡(jiǎn)稱YAG)是由Y2O3和Al2O3反應(yīng)生成的一種石榴石結(jié)構(gòu)的化合物。YAG晶體具有優(yōu)良的光學(xué)和熱學(xué)性能,可作為產(chǎn)生激光的基質(zhì)晶體[1]。在YAG基質(zhì)晶體中摻入不同的激活離子可制成激光晶體或用于白光LED的熒光晶體[2]。
提拉法是生長(zhǎng)晶體較普遍的方法,但由于 YAG晶體具有較高的熔點(diǎn)(1970℃),采用提拉法存在無(wú)法克服的弱點(diǎn):高的熔點(diǎn)使得在生長(zhǎng) YAG晶體過(guò)程中要使用可耐高溫的銥坩堝,銥坩堝容易被氧化從而在晶體中形成銥的包裹體,影響晶體質(zhì)量。另一方面,為防止銥坩堝氧化,在晶體生長(zhǎng)過(guò)程中需要抽真空并通N2作為保護(hù)氣氛,在這種無(wú)氧環(huán)境中生長(zhǎng)的YAG晶體會(huì)產(chǎn)生大量的氧空位,而影響了晶體的質(zhì)量。
光學(xué)浮區(qū)法是一種有效的晶體生長(zhǎng)方法[3],經(jīng)過(guò)多年的發(fā)展,現(xiàn)已發(fā)展到四燈聚焦系統(tǒng)。四燈光學(xué)浮區(qū)法晶體生長(zhǎng)爐的設(shè)計(jì)是將燈和反射鏡固定,上棒和下棒在同一直線上豎直放置且可上下移動(dòng)。通常將多晶原料棒懸掛于原料桿,而籽晶固定于下部的籽晶桿上。工作時(shí),四盞燈發(fā)出的光分別經(jīng)四個(gè)橢球反射與聚焦后作為熱源,投射到被加熱的多晶料棒上,使多晶棒的微小區(qū)域熔化,以形成熔區(qū),熔區(qū)的上棒和下棒自上而下移動(dòng),以實(shí)現(xiàn)結(jié)晶。以氙燈為光源的光學(xué)浮區(qū)爐經(jīng)聚焦可使加熱料棒的溫度達(dá)到 3000℃,這超過(guò)了大部分化合物晶體的熔點(diǎn),可用于生長(zhǎng) YAG晶體。與提拉法相比,光學(xué)浮區(qū)法生長(zhǎng) YAG晶體有以下優(yōu)點(diǎn):光學(xué)浮區(qū)法不需要坩堝、不會(huì)造成坩堝對(duì)晶體的污染,對(duì)高熔點(diǎn)的 YAG晶體有獨(dú)到優(yōu)勢(shì);晶體生長(zhǎng)速度快,周期短,便于快速生長(zhǎng)不同的晶體;由于可以在氧氣環(huán)境下生長(zhǎng) YAG晶體,能減少晶體中的氧空位,從而得到高質(zhì)量的晶體;對(duì)于Ce:YAG晶體,它可以使得Ce離子在晶體內(nèi)的分布更均勻。
白光二極管因節(jié)能和使用壽命長(zhǎng)現(xiàn)已成為照明領(lǐng)域的新寵。白光二極管是由多顏色混合成的光,一般利用藍(lán)光芯片與熒光粉組合形成白光,即把GaN /InGaN芯片以及熒光粉封裝在散熱支架中,通電激發(fā)GaN /InGaN芯片產(chǎn)生泵浦藍(lán)光,部分藍(lán)光激發(fā)熒光粉產(chǎn)生黃光和紅光,再與其余泵浦藍(lán)光混合獲得白光。近年來(lái),雖然白光 LED熒光粉制備技術(shù)取得了較大進(jìn)展,但熒光粉自身存在激發(fā)效率和光轉(zhuǎn)換效率低,顆粒及分散的均勻性差,散熱效果不好等問(wèn)題,導(dǎo)致白光LED 光衰減較大。
制備白光 LED熒光體材料是的當(dāng)前該領(lǐng)域重要的發(fā)展方向。2008年 Shunsuke Fujita 等[4]開展了以Ce:YAG 微晶玻璃為白光LED熒光體材料的研究,他們采用熔融法制備Ce:YAG 微晶玻璃熒光材料并研究了其光譜特性。2011年Nishiura 等[5]又用共沉淀法制備了Ce:YAG 陶瓷熒光體,并應(yīng)用于白光LED,獲得了良好的效果。
本文以固相反應(yīng)法制備了致密的不同Ce含量的Ce:YAG陶瓷料棒,再用光學(xué)浮區(qū)法將這些Ce:YAG陶瓷料棒生長(zhǎng)成Ce:YAG晶體。采用X射線衍射儀對(duì)Ce:YAG陶瓷料棒和Ce:YAG晶體的微結(jié)構(gòu)進(jìn)行了表征;以SHIMADZU公司的UV-2700紫外分光光度計(jì)測(cè)試晶體的透過(guò)率和吸收光譜;以ZOLIX公司的光致發(fā)光測(cè)試系統(tǒng)測(cè)量了Ce:YAG晶體的熒光光譜。研究不同Ce含量對(duì)Ce:YAG晶體光學(xué)性能的影響。
2.1 樣品制備
Ce:YAG晶體生長(zhǎng)工藝流程如下:
配料→制作原料棒→打孔→燒結(jié)→晶體生長(zhǎng)→退火→切割→拋光→性能測(cè)試
配料:采用精度為0.1毫克的電子天平稱量各種高純?cè)?,將高?4N級(jí)) CeO2,Al2O3,Y2O3納米粉末按表 1的化學(xué)成分進(jìn)行配料,每次配料的總質(zhì)量為 20g,將配料和分析純酒精加入恒溫磁力攪拌器中攪拌20h,使粉末充分混合均勻后置于100℃烘箱中烘干。
表1 試驗(yàn)樣品的化學(xué)成分(mol%)
制作料棒:將烘干粉末裝入直徑約為8 mm的橡膠長(zhǎng)氣球中,用玻璃棒將多晶料壓實(shí),并用玻璃板將氣球滾圓至等徑圓柱狀,用真空泵抽出氣球內(nèi)的空氣(抽氣時(shí)間約為 2分鐘),然后放入等靜壓機(jī)中在 150 Mpa壓強(qiáng)下壓制15分鐘。除去包裹的氣球得到直徑約為8 mm、長(zhǎng)度約為90 mm的料棒,在料棒頂端下5 mm處打一小孔,用于懸掛。
料棒燒結(jié):將料棒懸掛于VEF-1800-ACS型垂直提拉Molysili爐的剛玉桿上,多晶料棒隨剛玉桿轉(zhuǎn)動(dòng)并通過(guò)傳動(dòng)機(jī)構(gòu)在燒結(jié)爐中上下運(yùn)動(dòng),確保多晶料棒受熱均勻,經(jīng)1500 ℃保溫5小時(shí)后,得到晶體生長(zhǎng)所需的多晶料棒。
晶體生長(zhǎng):采用FZ-T-12000-X-VII-VPO-GU-PC型光學(xué)浮區(qū)生長(zhǎng)爐生長(zhǎng)晶體,按程序升溫、收頸、放肩、等徑生長(zhǎng)、收尾、降溫等步驟進(jìn)行。將制作好的料棒懸掛于光學(xué)浮區(qū)爐的上傳動(dòng)桿的下部,而籽晶則放置于下傳動(dòng)桿的上部,將料棒的下端和籽晶的上端同時(shí)置于光聚焦點(diǎn)處。然后設(shè)置程序升溫,待料棒下端和籽晶上端都熔化后,完成對(duì)接。以上慢下快的移動(dòng)速度進(jìn)行縮頸,然后逐步提高上桿的移動(dòng)速度實(shí)現(xiàn)放肩,當(dāng)晶體放肩到預(yù)定直徑時(shí),把上下兩桿的移動(dòng)速度設(shè)為相同,進(jìn)入等徑生長(zhǎng)。待晶體生長(zhǎng)到所需長(zhǎng)度后,可以進(jìn)入收尾階段。在緩慢降低溫度的同時(shí),提高下桿的移動(dòng)速度,降低上桿的移動(dòng)速度趨于停止,直到晶體與料棒脫離。然后設(shè)定好降溫程序,緩慢降溫。另外,生長(zhǎng)過(guò)程中需要一直通氧氣保護(hù),氧流量大約為200ml/min。上傳動(dòng)桿和下傳動(dòng)桿轉(zhuǎn)動(dòng)方向相反,轉(zhuǎn)速均設(shè)為10 rpm,晶體生長(zhǎng)速度設(shè)為5 mm/h。
晶體的退火:由于光浮區(qū)法存在較大的溫度梯度,剛生長(zhǎng)的晶體中會(huì)存在較大的熱應(yīng)力,在加工過(guò)程中晶體容易開裂。為釋放晶體內(nèi)部的熱應(yīng)力并提高晶體的激光性能,需對(duì)晶體進(jìn)行退火處理。具體的退火過(guò)程為:將生長(zhǎng)得到的晶體放入退火爐中,以30 °C /h從室溫升至1500 °C,保溫10 h后再以30 °C /h降至室溫。
采用CU-01型帶測(cè)角器晶體切割機(jī)將晶體切成1.5 mm厚的晶片,并采用TP-01型晶體拋光機(jī)對(duì)晶片進(jìn)行拋光得到實(shí)驗(yàn)所需的實(shí)驗(yàn)樣品。
2.2 樣品的表征
利用DX-2700A型X射線衍射儀(CuKa1靶,射線波長(zhǎng)為0.15406 nm),管電壓40 kV,電流30 mA,步進(jìn)掃描,步長(zhǎng)0.02°/s,采樣時(shí)間0.3 s,2θ掃描范圍 20°-80°,測(cè)試Ce:YAG陶瓷料棒和Ce:YAG晶體的XRD譜圖。用日本SHIMADZU公司的UV-2700紫外分光光度計(jì)測(cè)試晶體的透過(guò)率和吸收光譜,測(cè)試波長(zhǎng)范圍為 300-800 nm,晶片厚度為1.5 mm。利用ZOLIX公司光致發(fā)光測(cè)試系統(tǒng)不同Ce含量的Ce:YAG晶體的熒光光譜。
3.1 Ce:YAG物相表征
分別將經(jīng) 1450℃燒結(jié)的 Ce含量為 1 at.%的 Ce:YAG陶瓷料棒以及用光學(xué)浮區(qū)法生長(zhǎng)的該成分的Ce:YAG晶體研磨成粉末,測(cè)試其XRD譜圖,結(jié)果如圖1所示。由圖1可以看出,1450℃燒結(jié)的Ce:YAG陶瓷料棒主相為YAG相,存在部分YAP相。而光學(xué)浮區(qū)法生長(zhǎng)的Ce:YAG晶體則完全形成了YAG相,沒(méi)有其他雜峰的出現(xiàn),衍射峰尖銳,半峰寬窄,說(shuō)明光學(xué)浮區(qū)法生長(zhǎng)的Ce:YAG晶體質(zhì)量較高,結(jié)晶完全,同時(shí)Ce離子的摻雜沒(méi)有改變YAG的晶格結(jié)構(gòu)。對(duì)比Ce:YAG陶瓷[6, 7]及其晶體的衍射峰可以看出,YAG晶體的各衍射峰出現(xiàn)了小角度偏移,這是因?yàn)樵?450℃時(shí)燒結(jié)陶瓷形成的YAG相晶格還沒(méi)完全發(fā)育,大部分為四方相,而當(dāng)料棒在光學(xué)浮區(qū)爐中融融并生長(zhǎng)為晶體后,YAG發(fā)生由四方相向立方相的轉(zhuǎn)變。
圖1 Ce:YAG的XRD譜圖
圖2 不同Ce含量的Ce:YAG晶片的透過(guò)率
3.2 Ce:YAG晶片的透過(guò)率
圖2為不同Ce含量的Ce:YAG晶片的透過(guò)率譜圖(測(cè)試波長(zhǎng)范圍230-800nm,晶片厚度1.5mm,雙面拋光)??梢钥闯?,光學(xué)浮區(qū)法生長(zhǎng)的Ce:YAG晶體在500-800nm范圍透過(guò)率可達(dá)到90%-93%。說(shuō)明生長(zhǎng)的晶體具有很好的光學(xué)透過(guò)性,晶體質(zhì)量高,缺陷很少。Ce:YAG晶片在337.5nm和456.5nm處都出現(xiàn)了明顯的透過(guò)率的下降,且吸收峰較寬,337.5nm和460nm吸收峰對(duì)應(yīng)Ce3+的4f→5d[8,9]吸收。在Ce:YAG晶體的456.5nm主吸收峰處,隨著Ce含量的升高,吸收峰強(qiáng)明顯增強(qiáng),在Ce含量為2 at.%時(shí)吸收幅度達(dá)到最大;與Ce含量為2 at.%的晶體相比,Ce含量為5 at.%的晶體的吸收幅度較小。
3.3 Ce:YAG晶體的吸收光譜
圖3為不同Ce含量的Ce:YAG晶片的吸收光譜,從中可以看出不同濃度摻雜的Ce:YAG晶體吸收光譜在337.5 nm,456 nm[10, 11]處有兩個(gè)主吸收峰,同晶體透過(guò)率測(cè)試數(shù)據(jù)吻合,337.5 nm和456 nm處吸收峰對(duì)應(yīng)于Ce3+離子4f→5d的躍遷。4f和5d能級(jí)在晶體場(chǎng)作用下會(huì)發(fā)生能級(jí)分裂導(dǎo)致Ce3+離子的吸收峰較寬[12]。在400-500 nm藍(lán)光區(qū)間的458 nm吸收峰,隨著Ce3+離子濃度的增加,吸收峰越強(qiáng),在Ce3+摻雜濃度為2 at.%時(shí)達(dá)到最大,之后降低。這是因?yàn)樵赮AG晶體中,Y3+離子位的反位缺陷的固溶度為1.73 at.%[13],同時(shí)Ce3+離子半徑與Y3+離子相近,當(dāng)進(jìn)入YAG晶格中會(huì)置換Y3+離子的位置,隨著Ce3+離子濃度的增加,當(dāng)超過(guò) Y3+反位缺陷固溶度之后,多余的離子進(jìn)入晶體形成點(diǎn)缺陷。同時(shí)由于使用 Ce元素?fù)诫s的原料為CeO2,Ce4+離子在YAG晶格中會(huì)被還原成Ce3+,當(dāng)摻雜濃度超過(guò)Y3+反位缺陷固溶度時(shí),多余的Ce4+進(jìn)入晶體, YAG晶體結(jié)構(gòu)中會(huì)出現(xiàn)空位或者間隙原子來(lái)保持晶體的電中性,這些缺陷的形成,會(huì)造成Ce3+離子吸收峰強(qiáng)的降低。
圖3 不同Ce含量的Ce: YAG晶片的吸收光譜
根據(jù)朗伯比爾定律(Beer-Lambert Law):
式中A為吸光度,I0為入射光強(qiáng)度,I為入射光透過(guò)樣品后出射光強(qiáng)度,L為吸收層厚度,α為吸收系數(shù)。由(1)式得:
根據(jù)公式(2)可計(jì)算出不同Ce含量的Ce:YAG晶片的吸收系數(shù)α,如表2所示。由表2可以看出,隨著Ce含量的升高,Ce:YAG晶體的吸收系數(shù)α增加,在2 at.%時(shí)α達(dá)到最大,但當(dāng)Ce含量達(dá)到5 at.%時(shí),吸收系數(shù)α下降。這表明Ce含量在1 at.%至2 at.%范圍時(shí),Ce:YAG晶體具有較高的吸收系數(shù)[14],同時(shí)具有較寬的吸收峰,用作熒光物質(zhì)時(shí),可充分吸收激發(fā)光,提高藍(lán)光轉(zhuǎn)換效率,增加LED光效。
3.4 Ce:YAG晶體的熒光光譜
圖4 為不同Ce含量的Ce: YAG晶體的熒光光譜,從中可以看出,Ce:YAG晶體熒光光譜表現(xiàn)為寬的熒光發(fā)射峰,峰值波長(zhǎng)在525-529 nm,激發(fā)光為460 nm藍(lán)光。與Ce:YAG吸收光譜相似,由于Ce3+離子4f 和5d能級(jí)在YAG晶體場(chǎng)中的劈裂使其熒光光譜表現(xiàn)為475-675 nm的寬發(fā)射峰,覆蓋了從黃光到藍(lán)光的可見光波段。Ce:YAG晶體的熒光峰強(qiáng)度隨著Ce含量的升高而升高,當(dāng)Ce含量為1 at.%時(shí),晶體熒光強(qiáng)度較強(qiáng);當(dāng)Ce含量進(jìn)一步增加,將出現(xiàn)熒光淬滅,導(dǎo)致發(fā)射峰強(qiáng)度下降[15]。
表2 Ce:YAG晶體吸收光譜參數(shù)
圖4 不同Ce含量的Ce: YAG晶體的熒光光譜
表3給出了不同Ce含量的Ce:YAG晶體的光強(qiáng)度、半高寬、峰值波長(zhǎng)和中心波長(zhǎng)。
表3 Ce:YAG晶體熒光光譜參數(shù)
從表3可以看出,隨著Ce離子摻雜濃度的提高,Ce:YAG熒光光譜峰值波長(zhǎng)和中心波長(zhǎng)都出現(xiàn)了紅移現(xiàn)象,這與Ce:YAG吸收光譜紅移相符合。這是因?yàn)镃e3+離子的5d電子處于外層電子軌道,基質(zhì)因素對(duì)它的影響比f(wàn)電子強(qiáng),5d能級(jí)在立方對(duì)稱性晶體場(chǎng)中分裂為eg和t2g兩個(gè)能級(jí),eg是二重簡(jiǎn)并能級(jí),t2g是三重簡(jiǎn)并能級(jí),在YAG晶體場(chǎng)的作用下,eg和t2g兩個(gè)能級(jí)產(chǎn)生Stark能級(jí)劈裂。Stark能級(jí)劈裂的程度同基質(zhì)晶體結(jié)構(gòu)以及其配位體的極化效應(yīng)有關(guān),隨著 Ce3+離子取代 Y3+離子位,晶體無(wú)序程度增加,而晶體場(chǎng)的劈裂能同晶體結(jié)構(gòu)的無(wú)序成反比,Ce3+離子的4f和5d能級(jí)電子的電子云在YAG晶體場(chǎng)環(huán)境下發(fā)生膨脹,導(dǎo)致電子之間相互作用減弱。這種電子云擴(kuò)大效應(yīng)會(huì)造成 Ce3+離子在 Ce:YAG晶體場(chǎng)中劈裂程度降低,熒光峰出現(xiàn)紅移現(xiàn)象。浮區(qū)法生長(zhǎng)的Ce:YAG晶體熒光峰中心波長(zhǎng)在545 nm附近,可作為460 nm激發(fā)用黃光熒光晶體。
(1) Ce:YAG陶瓷料棒的主相為YAG相,同時(shí)還存在部分YAP相;而光學(xué)浮區(qū)法生長(zhǎng)的Ce:YAG晶體完全形成了YAG相,即光學(xué)浮區(qū)法生長(zhǎng)的YAG晶體質(zhì)量較好。
(2) Ce:YAG晶體的光學(xué)均勻性較好,在500-800nm區(qū)間,其平均透過(guò)率為90%-93%。當(dāng)Ce含量為1 at.% - 2 at.%范圍時(shí),Ce:YAG晶體在波長(zhǎng)為456.5 nm處吸收峰較強(qiáng);超過(guò)此濃度,吸收峰強(qiáng)度下降。
(3) Ce含量為 1 at.%的 Ce:YAG晶體在波長(zhǎng) 525-530 nm處熒光強(qiáng)度較強(qiáng);隨著 Ce含量的增加,Ce:YAG的熒光峰出現(xiàn)紅移。
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O482.31
A
1003-7551(2016)01-0016-06
收到日期:2016-01-06
國(guó)家自然科學(xué)基金項(xiàng)目(11265002);廣西自然科學(xué)重點(diǎn)基金項(xiàng)目(2010GXNSFD013036)
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