林 龍,劉鐵錚,陶華龍,張志華
(1.大連交通大學(xué) 材料科學(xué)與工程學(xué)院,遼寧 大連 116028;2.河南理工大學(xué) 數(shù)學(xué)與信息科學(xué)學(xué)院,河南焦作454003)*
稀磁半導(dǎo)體是一種將半導(dǎo)體材料的電子輸運(yùn)性質(zhì)和磁性材料的記憶特性結(jié)合起來(lái)的新型半導(dǎo)體材料,對(duì)自旋電子學(xué)及光電子學(xué)器件的發(fā)展具有重要的作用[1].近年來(lái)稀磁半導(dǎo)體的研究成為熱點(diǎn).SiC作為第三代半導(dǎo)體材料[2],在高溫和抗輻射等特殊環(huán)境中具有廣泛的應(yīng)用前景[3].SiC具有250余種同型異構(gòu)體,最常見的有3C-SiC,4H-SiC和6C-SiC,其中,4H-SiC擁有寬帶隙(3.26 eV),高擊穿電場(chǎng)(4 ×106eV/cm),高載流子遷移率(2×107cm/s)和高熱傳導(dǎo)性(4.9 W/(cm·k))等特性,已引起電子材料和微電子技術(shù)的廣泛關(guān)注.SiC半導(dǎo)體具有抗磁性,但是在過渡族或者稀土族金屬離子部分且無(wú)規(guī)則地替代了化合物中非磁性陽(yáng)離子之后,磁性質(zhì)發(fā)生了根本的變化.目前,主要是通過摻雜引入過渡金屬(TM)離子取代Si或者C的方法實(shí)現(xiàn)SiC的鐵磁性,研究尚處于基礎(chǔ)階段.
許多研究者從實(shí)驗(yàn)上對(duì)碳化硅材料進(jìn)行了一系列研究,Shaposhnikov等已經(jīng)證明了Cr在Si和C位置摻雜3C-SiC產(chǎn)生半金屬鐵磁性[4],Huang等的研究表明當(dāng)Cr的濃度約為0.02%時(shí),Cr摻雜 SiC 具有鐵磁性(TC~70 K)[5],Jin 等在非晶Cr摻雜碳化硅中觀察到了室溫鐵磁性(Cr的濃度~7-10%)[6].Song 等報(bào)道了 Al和Cr共摻雜4H-SiC具有鐵磁特征,而且磁性隨著Cr的濃度提高而降低[7].
理論上,Gubanov[8]等采用第一性原理計(jì)算的方法研究了Cr、Mn、Fe和Co磁性原子摻雜3CSiC的電子結(jié)構(gòu),結(jié)果表明Cr、Mn摻雜3C-SiC能夠產(chǎn)生磁矩.許多研究小組將Cr作為首選TM摻雜原子研究其對(duì)半導(dǎo)體材料的影響.本文基于密度泛函理論的第一性原理方法,對(duì)Cr摻雜4H-SiC中的電子結(jié)構(gòu)與磁性進(jìn)行了系統(tǒng)的研究,證實(shí)碳化硅基稀磁半導(dǎo)體是一種有前途的自旋電子材料.
理想的4H-SiC晶體是一種六方纖鋅礦結(jié)構(gòu),屬于 P63mc空間群,晶格常數(shù)為 a=b=3.078 ?,c=10.046.單位晶胞具有六方密堆積結(jié)構(gòu),包含16個(gè)硅(Si)原子和碳原子(C).本文計(jì)算選取72原子的3×3×1超晶胞進(jìn)行,如圖1所示.最大球體是Si原子,最小的是Cr原子,其它是C原子,被Cr取代的Si原子被標(biāo)記為1-14.
首先將一個(gè)Cr原子代替一個(gè)Si原子,再固定第一個(gè)摻雜的Cr原子,引入第二個(gè)摻雜的Cr原子.考慮到晶體結(jié)構(gòu)對(duì)稱性,第二個(gè)摻雜的Cr原子存在14種可能的位置.
計(jì)算應(yīng)用MS5.0軟件中的Castep軟件包完成.Castep[9]軟件是一種基于密度泛函方法的從頭算量子力學(xué)程序.利用總能平面波贗勢(shì)方法,將離子勢(shì)用贗勢(shì)代替,電子波函數(shù)用平面波基組展開,電子-電子交換相互作用和相互勢(shì)由局域密度近似(LDA)或廣義梯度近似(GGA)進(jìn)行校正,它是目前較為準(zhǔn)確的電子結(jié)構(gòu)計(jì)算的理論方法[10].本文計(jì)算中選用的晶格常數(shù)均為實(shí)驗(yàn)值,選用廣義梯度近似(GGA)交換關(guān)聯(lián)近似的超軟(ultrasoft)贗勢(shì)[11],平面波截?cái)嗄転?400 eV,迭代過程中的收斂精度為2×10-5eV/原子,作用在每個(gè)原子上的力不大于0.05 eV,內(nèi)應(yīng)力不大于0.1GPa,布里淵區(qū)的積分計(jì)算采用2×2×2的Monkrs-Park特殊K點(diǎn)對(duì)全Brillouin求和,能量計(jì)算在倒易空間中進(jìn)行.為了得到穩(wěn)定精確的計(jì)算結(jié)果,先優(yōu)化晶胞的結(jié)構(gòu),得到晶胞參數(shù)后,再優(yōu)化其內(nèi)坐標(biāo),在此基礎(chǔ)上計(jì)算單點(diǎn)能.
圖1 Cr摻雜4H-SiC的72原子3×3×1超胞模型
首先,用1個(gè)Cr原子取代4H-SiC 3×3×1超晶胞中的1個(gè)Si原子,記為Cr@Si,Cr的摻雜濃度為2.28%.計(jì)算了Cr摻雜4H-SiC的總態(tài)密度和分波態(tài)密度,計(jì)算結(jié)果如圖2所示.2(a)是總態(tài)密度圖,2(b)、2(c)、2(d)分別是 Cr及其鄰近的、次鄰近的Si和C的分波態(tài)密度圖.圖中的垂直虛線是費(fèi)米能級(jí),設(shè)置在0 eV.
從圖2中可以看出,Cr的3d態(tài)有強(qiáng)烈的自旋極化產(chǎn)生,雜質(zhì)能帶出現(xiàn)在費(fèi)米能級(jí)附近.同時(shí)可以看出,價(jià)帶基本上分為2個(gè)區(qū)域:-10~-7.5 eV為下價(jià)帶區(qū),-7.5~ -2 eV為上價(jià)帶區(qū).下價(jià)帶區(qū)主要是由Si-3s,Si-3p,和C-2p軌道貢獻(xiàn),C-2s軌道有小的貢獻(xiàn),上價(jià)帶區(qū)主要是由Cr-3d,Si-3p和C-2p軌道貢獻(xiàn).導(dǎo)帶主要由Cr-3d,Si-3p,和C-2p軌道貢獻(xiàn).從 Cr的分波態(tài)密度圖可以看出磁矩主要是由Cr-3d軌道貢獻(xiàn),計(jì)算結(jié)果與N摻雜TiO2[12]和N 摻雜In2O3[13]等體系類似.
圖2 Si35CrC36的態(tài)密度圖
Cr摻雜4H-SiC具有局域磁矩,然而這些磁矩是否存在長(zhǎng)程有序呢?為了研究Cr摻雜4HSiC體系的磁耦合情況,將2個(gè)Cr原子引入到4H-SiC超胞中.2個(gè)Cr原子分別取代2個(gè)Si原子,Cr的摻雜濃度為5.56%.計(jì)算時(shí),固定第1個(gè)摻雜的Cr原子(記為Cr0),考慮到晶體的對(duì)稱性,第2個(gè)Cr原子位于14種不同的摻雜位置,記為Cr1-Cr14,如圖1所示.本文使用 (a,b)定義Cr-Cr配對(duì),a(=0)代表Cr0,b(=1-14)代表Cr1-Cr14原子.
為了確定Cr摻雜4H-SiC的鐵磁穩(wěn)定性,計(jì)算時(shí)分別設(shè)置2個(gè)Cr原子自旋方向一致(鐵磁性)和相反(反鐵磁性),對(duì)結(jié)構(gòu)進(jìn)行優(yōu)化,計(jì)算其電子結(jié)構(gòu).表1中列出每個(gè)(a,b)組態(tài)的Cr-Cr距離,鐵磁態(tài)與反鐵磁態(tài)的能量差ΔEFM(=EFMEAFM)以及鐵磁態(tài)下Cr的磁矩.
計(jì)算結(jié)果表明,除了(0,10)組態(tài)外,其余所有組態(tài)鐵磁態(tài)均比反鐵磁態(tài)穩(wěn)定.其中,最穩(wěn)定的鐵磁態(tài)是(0,1)組態(tài).在所有組態(tài)中,(0,1)組態(tài)中Cr-Cr的距離是最小的(3.082 ?),磁矩是最大的,ΔEFM為-187.7 meV.在2個(gè)Cr摻雜的4HSiC體系中,最大的磁矩是2.40 μB,比鐵磁態(tài)Cr摻雜3C-SiC(Cr在 Si位置,為 1.65 μB)的磁矩大.從表1中Cr-Cr的距離可以看出,盡管(0,1)組態(tài)是鐵磁態(tài),但是Cr原子沒有形成團(tuán)簇.
表1 優(yōu)化前和弛豫后的Cr-Cr距離
計(jì)算了Cr摻雜4H-SiC(0,1)組態(tài)的總態(tài)密度和第2個(gè)Cr原子及其鄰近的Si和C的分波態(tài)密度,如圖3所示:3(a)總態(tài)密度圖,3(b)、3(c)、3(d)分別是Cr及鄰近的Si和C的分波態(tài)密度圖.圖中的垂直虛線位置為費(fèi)米能級(jí),設(shè)置在0eV.與單個(gè)Cr摻雜4H-SiC的結(jié)果(圖2)比較可以看出,2個(gè)Cr摻雜4H-SiC體系中出現(xiàn)了更多的空穴,這主要是由Cr-3d、Si-2p和C-2p軌道雜化產(chǎn)生的.磁矩產(chǎn)生于價(jià)帶頂,具有Cr-3d特征,Cr-3d、Si-2p和C-2p軌道之間的雜化導(dǎo)致了Cr0∶3d-C∶2p-Cr1∶3d鏈的形成,使Cr摻雜4H-SiC中的局域磁矩產(chǎn)生耦合,表現(xiàn)為鐵磁性.
圖3 Si34Cr2C36態(tài)密度圖
通過自旋密度分布圖可以直觀了解到原子間的自旋分布情況,因而我們計(jì)算了Cr摻雜4HSiC(0,1)組態(tài)的自旋密度分布(等值面為0.05 e/?3),如圖4所示.Cr摻雜4H-SiC的自旋密度主要集中在Cr原子周圍離域范圍內(nèi),這與電子結(jié)構(gòu)計(jì)算結(jié)果一致,Cr原子產(chǎn)生約2.40 μB的磁矩.2個(gè)Cr摻雜4H-SiC中,Cr0∶3d-C∶2p-Cr1∶3d鏈作為媒介,使Cr局域磁矩產(chǎn)生耦合,這與V摻雜In2O3[14]體系中 p-d相互作用是相似的,載流子交換機(jī)制起到了關(guān)鍵的作用.
圖4 兩個(gè)Cr摻雜的(0,1)組態(tài)的鐵磁態(tài)自旋密度
通過第一性原理計(jì)算研究了Cr摻雜4HSiC的電子結(jié)構(gòu).Cr3+離子取代Si4+離子引入空穴,導(dǎo)致了自旋極化,產(chǎn)生了2.40 μB的自旋磁矩,局域磁矩主要是由摻雜的Cr原子提供.Cr摻雜4H-SiC系統(tǒng)鐵磁態(tài)穩(wěn)定,兩個(gè)Cr原子局域磁矩通過Cr0∶3d-C∶2p-Cr1∶3d鏈為媒介進(jìn)行耦合,載流子交換機(jī)制起到了關(guān)鍵的作用.計(jì)算結(jié)果表明Cr摻雜4H-SiC體系鐵磁態(tài)與非鐵磁態(tài)的能量差較大,表明Cr摻雜4H-SiC是一種有前途的自旋電子材料.
[1]WOLF S,AWSCHALOM D,BUHRMAN R,et al.Spintronics:a spin-based electronics vision for the future[J].Science,2001,294:1488-1495.
[2]ZOU P L,ZHENG S K,TIAN Y,et al.First principles calculation of dielectric properties of Al and N codoped 3C-SiC[J].Acta Phys.Sin.,2013,63:102.
[3]CHENG L,AGARWAL A K,DHAR S,et al.Static Performance of 20 A,1200 V 4H-SiC Power MOSFETs at Temperatures of-187℃ to 300℃[J].J.Electron.Mater.,2012,41:910-914.
[4]SHAPOSHNIKOV V,SOBOLEV N.The electronic structure and magnetic properties of transition metaldoped silicon carbide [J].J.Phys-Condens.Mat.,2004,16:1761.
[5]HUANG Z,CHEN Q.Magnetic properties of Cr-doped 6H-SiC single crystals [J].J.Magn.Magn.Mater.,2007,313:111-114.
[6]JIN C,WU X,ZHUGE L,et al.Electric and magnetic properties of Cr-doped SiC films grown by dual ion beam sputtering deposition [J].J.Phys.D:Appl.Phys.,2008,41:035005.
[7]SONG B,CHEN X,HAN J,et al.Raman scattering and magnetizations studies of(Al,Cr)-codoped 4H-SiC[J].J.Magn.Magn.Mater.,2011,323:2876-2882.
[8]GUBANOV V,BOEKEMA C,F(xiàn)ONG C.Electronic structure of cubic silicon-carbide doped by 3d magnetic ions[J].Appl.Phys.Lett.,2001,78:216-218.
[9]SEGALL M,LINDAN P J,PROBERT M,et al.Firstprinciples simulation:ideas,illustrations and the CASTEP code[J].J.Phys-Condens.Mat.,2002,14:2717.
[10]PERDEW J P,BURKE K,ERNZERHOF M.Generalized gradient approximation made simple [J].Phys.Rev.Lett.,1996,77:3865.
[11]VANDERBILT D.Soft self-consistent pseudopotentials in a generalized eigenvalue formalism[J].Phys.Rev.B,1990,41:7892.
[12]TAO J,GUAN L,PAN J,et al.Density functional study on ferromagnetism in nitrogen-doped anatase TiO2[J].Appl.Phys.Lett.,2009,95:062505.
[13]GUAN L,TAO J,HUAN C,et al.First-principles study on ferromagnetism in nitrogen-doped In2O3[J].Appl.Phys.Lett.,2009,95:012509.
[14]GUPTA A,CAO H,PAREKH K,et al.Room temperature ferromagnetism in transition metal(V,Cr,Ti)doped In2O3[J]. J. Appl. Phys.,2007,101:09N513.