仇凌燕,梁 瑤,王佳楠
(大連交通大學(xué) 材料科學(xué)與工程學(xué)院,遼寧 大連 116028)*
一維納米材料具有不同于體材料的特殊性質(zhì),成為近年研究熱點(diǎn).ZnO具有寬禁帶(3.37 eV)、大激子束縛能(60 meV)及高度穩(wěn)定性等優(yōu)點(diǎn),其納米線陣列在太陽能電池、探測(cè)器、光催化、發(fā)光二極管、納米發(fā)電機(jī)等領(lǐng)域具有非常大的應(yīng)用潛力[1-5].ZnO納米線陣列是構(gòu)建ZnO基異質(zhì)結(jié)構(gòu)納米線陣列的基礎(chǔ),異質(zhì)結(jié)構(gòu)具備單一ZnO材料不具備的特性,更具有使用價(jià)值[6-7].為了實(shí)現(xiàn)ZnO及其異質(zhì)結(jié)構(gòu)納米線陣列的應(yīng)用,必須實(shí)現(xiàn)對(duì)ZnO納米線陣列進(jìn)行可控生長.本文報(bào)道利用水熱法合成ZnO納米線陣列,研究生長參數(shù)對(duì)樣品形貌的影響,對(duì)樣品的晶體結(jié)構(gòu)及光學(xué)性質(zhì)進(jìn)行分析.
將二水合乙酸鋅溶于無水乙醇中,配制成一定濃度的溶液.將溶液旋涂于ITO玻璃表面,在一定溫度下燒結(jié)30 min.重復(fù)四次上述過程,可在ITO玻璃表面獲得均勻的ZnO種晶層.選取六水合硝酸鋅和六次甲基四胺為前驅(qū)物,溶于去離子水,配制成一定濃度的納米線生長溶液,倒入反應(yīng)釜.將帶有種晶層的ITO玻璃置入反應(yīng)釜中,封閉反應(yīng)釜,放入干燥箱內(nèi),在95℃下恒溫4 h.結(jié)束后,取出ITO玻璃,用去離子水沖洗,氮?dú)獯蹈?一部分樣品被放入新的納米線生長溶液中,重復(fù)納米線生長步驟.在新的生長溶液中,納米線繼續(xù)生長,從而增加納米線的尺寸.表1為各樣品制備參數(shù).用掃描電鏡(SEM,SUPRA 55)和X射線衍射儀(XRD,Empyrean)表征樣品.采用氦-鎘激光器作為激發(fā)源,測(cè)試樣品的光致發(fā)光(PL)譜,研究樣品的光學(xué)性質(zhì).
表1 樣品制備參數(shù)
圖1 樣品1~4的頂部及側(cè)面SEM圖像
二水合乙酸鋅在175℃升華,250℃熔化,350℃可完全轉(zhuǎn)變成ZnO[8],種晶制備溫度可選200~350℃.乙酸鋅分解可在ITO玻璃表面生成一層c軸取向的ZnO種晶層,種晶生長的熱動(dòng)力學(xué)特性導(dǎo)致這種取向性[8].種晶影響納米線的成核,其取向決定納米線的取向,有必要研究種晶制備條件對(duì)樣品形貌的影響.圖1展示了樣品1~4的SEM 圖像.其中,(a,b)為樣品1;(c,d)為樣品2;(e,f)為樣品 3;(g,h)為樣品 4.種晶制備溫度在200~350℃時(shí),所選實(shí)驗(yàn)條件下都能獲得取向較好的ZnO納米線陣列.當(dāng)溫度增加,納米線的取向性有一定的提高.四個(gè)樣品中,樣品4中納米線的尺寸略大,直徑大約110 nm,長度約為2μm.種晶制備溫度對(duì)納米線尺寸影響較小.
對(duì)比樣品4和5,研究乙酸鋅溶液濃度對(duì)樣品形貌的影響.圖2(a,b)是樣品5的SEM圖像,納米線的直徑約為64 nm,長度為1.7 μm.乙酸鋅溶液濃度由20 mM變?yōu)? mM,其它條件不變,ZnO納米線的直徑和長度都輕微減小,取向性基本不變.
圖2 樣品5、6的頂部及側(cè)面SEM圖像
在生長溶液中,納米線在種晶上成核并持續(xù)生長,化學(xué)反應(yīng)式為[9]:
反應(yīng)4 h后,生長溶液中的前驅(qū)物消耗殆盡,納米線停止生長,不能通過無限延長生長時(shí)間來持續(xù)增加納米線的尺寸,可以通過反復(fù)更新生長溶液來解決該問題.生長溶液濃度及循環(huán)生長次數(shù)可以控制納米線的尺寸.圖2(c,d)為樣品6的SEM圖像,納米線的直徑為146 nm,長度為2.4μm.生長溶液濃度從25 mM增加到50 mM,其它條件保持不變,納米線的直徑和長度都明顯增大,因此生長溶液濃度是調(diào)控納米線尺寸的重要參數(shù)之一.
檢測(cè)樣品4、5及7~14的形貌,測(cè)量獲得ZnO納米線長度及直徑與循環(huán)生長次數(shù)的關(guān)系(圖3),證明循環(huán)生長次數(shù)可以調(diào)控納米線的尺寸.樣品1~14都是具有較好取向性的ZnO納米線陣列.值得注意的是,所觀測(cè)的納米線都是六角柱形,單根納米線的外形體現(xiàn)了ZnO晶格的對(duì)稱性.ZnO納米線的表面非常光滑,暗示了納米線具有較好的結(jié)晶質(zhì)量.
圖3 納米線長度及直徑與循環(huán)生長次數(shù)的關(guān)系
圖4展示了具有代表性的樣品11及14的XRD譜,僅在2θ為34.34°處觀測(cè)到一個(gè)強(qiáng)并尖銳的衍射峰,該衍射峰來自纖鋅礦ZnO(002)晶面衍射,證明納米線具有高的結(jié)晶質(zhì)量.對(duì)比樣品11和14的XRD譜得出結(jié)論,樣品中納米線尺寸的增大導(dǎo)致(002)衍射峰強(qiáng)度迅速增加.標(biāo)準(zhǔn)ZnO粉末的XRD譜中,(100)及(101)衍射峰強(qiáng)度均高于(002)衍射峰強(qiáng)度,但在樣品的XRD譜中沒有明顯的(100)及(101)衍射峰,證明樣品為取向較好的ZnO納米線陣列,經(jīng)過循環(huán)生長納米線仍能保持好的取向性.其它樣品的XRD測(cè)試結(jié)果與樣品11及14的結(jié)果相似,僅(002)衍射峰強(qiáng)度存在差異.
圖4 樣品11、樣品14和標(biāo)準(zhǔn)ZnO粉的XRD譜
以樣品11作為例子,研究ZnO納米線陣列的光學(xué)性質(zhì).圖5展示了樣品11的PL譜.在378nm處觀測(cè)到一個(gè)強(qiáng)的紫外發(fā)光峰,來自ZnO近帶邊輻射發(fā)光[10].同時(shí),觀測(cè)到一個(gè)中心波長在560 nm左右并強(qiáng)度很弱的發(fā)光峰,通常認(rèn)為該可見發(fā)光來自深能級(jí)相關(guān)的輻射躍遷,可表征ZnO納米線內(nèi)部缺陷的多少[11].可見發(fā)光峰強(qiáng)度很弱說明ZnO納米線缺陷較少,合成了高質(zhì)量的ZnO納米線陣列.
圖5 樣品11的PL譜
利用水熱法可以在ITO玻璃上生長ZnO納米線陣列.適當(dāng)提高乙酸鋅燒結(jié)溫度可以改善納米線陣列的取向性.乙酸鋅溶液濃度,生長溶液濃度及循環(huán)生長次數(shù)可以在一定范圍內(nèi)調(diào)控納米線的尺寸.XRD結(jié)果表明納米線具有高的結(jié)晶質(zhì)量及一致的排列取向.樣品內(nèi)部缺陷含量很少,具有好的光學(xué)性能.實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量ZnO納米線陣列的可控生長有助于其在各領(lǐng)域的進(jìn)一步應(yīng)用.
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