近年來(lái)納米壓印技術(shù)迅猛發(fā)展，已引起業(yè)界廣泛關(guān)注。納米壓印是一種全新的納米圖型復(fù)制方法，利用不同材料之間的楊氏模量差，使兩種材料之間相互作用來(lái)完成圖型的復(fù)制轉(zhuǎn)移。與傳統(tǒng)的光刻工藝相比，壓印技術(shù)不是通過(guò)改變抗蝕劑的化學(xué)特性實(shí)現(xiàn)抗蝕劑的圖形化，而是通過(guò)抗蝕劑的受力變形實(shí)現(xiàn)其圖形化。納米壓印自1995年被普林斯頓大學(xué)納米結(jié)構(gòu)實(shí)驗(yàn)室的華裔科學(xué)家Stephen Y. Chou教授提出后，在熱壓印、紫外常溫壓印、微接觸壓印技術(shù)基礎(chǔ)上發(fā)展出了許多新工藝。

本書(shū)詳細(xì)介紹了納米壓印技術(shù)的原理、特點(diǎn)、關(guān)鍵技術(shù)、工藝及應(yīng)用，主要涉及壓印研究現(xiàn)狀、模板的制備和處理、壓印用光刻膠、壓印工藝以及壓印理論等內(nèi)容，著重闡述了納米壓印技術(shù)在半導(dǎo)體光電器件、半導(dǎo)體存儲(chǔ)器件等領(lǐng)域應(yīng)用的最新研究成果。本書(shū)共10章：1.引言；2.納米壓印光刻原理及現(xiàn)狀；3.模板制備；4. 模板表面處理；5. 納米壓印光刻膠；6. 納米壓印光刻過(guò)程；7.納米壓印光刻建模與仿真；8.納米壓印光刻在發(fā)光二極管中的應(yīng)用；9.納米壓印光刻在內(nèi)存器件中的應(yīng)用；10.納米壓印光刻在太陽(yáng)能電池中的應(yīng)用。

本書(shū)基于作者所在單位納米加工技術(shù)實(shí)驗(yàn)室的研究工作以及近年來(lái)在納米壓印方面的研究成果編寫(xiě)而成，可供微納加工、電子器件、生物芯片等領(lǐng)域的科研人員及工程技術(shù)人員參考，也可作為高等院校相關(guān)專(zhuān)業(yè)研究生和高年級(jí)本科生的教材或參考書(shū)。

作者周偉民是中國(guó)科學(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所博士后，上海市納米科技與產(chǎn)業(yè)發(fā)展促進(jìn)中心納米科技實(shí)驗(yàn)室副研究員，主要從事納米壓印技術(shù)研究。

杜利東，助理研究員

（中國(guó)科學(xué)院電子學(xué)研究所）

Du Lidong，Assistant Professor

（Institute of Electronics，CAS）endprint