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        通過分開探針痕跡與封裝焊線位置從而避免產(chǎn)品ILD的損壞

        2014-08-27 04:10:21戴西娜
        卷宗 2014年7期
        關(guān)鍵詞:良品率鋁線大功率

        摘 要:由于過去大功率產(chǎn)品大部分封裝焊線位置與晶圓測試的探針位置重合,導(dǎo)致晶粒相同位置承受雙重力量的疊加,使得產(chǎn)品非常容易出現(xiàn)ILD層間介質(zhì)的損壞,從而降低產(chǎn)品的可靠性,影響質(zhì)量。通過將探針測試位置與封裝焊線位置區(qū)分開后,降低了對晶粒的力量沖擊,從而避免產(chǎn)品ILD的損壞,提高產(chǎn)品可靠性和壽命。

        關(guān)鍵字:ILD;探針測試;封裝焊線

        1 基本概念概述

        1.1 晶圓測試

        晶圓測試是對芯片上的每個(gè)晶粒進(jìn)行探針測試,在檢測頭裝上以金線制成細(xì)如毛發(fā)之探針(probe),晶粒上的接點(diǎn)(pad)接觸,測試其電氣特性,不合格的晶粒會(huì)被標(biāo)上記號(hào),而后當(dāng)芯片晶粒為單位切割成獨(dú)立的晶粒時(shí),標(biāo)有幾號(hào)的不合格晶粒會(huì)被淘汰,不再進(jìn)行下一個(gè)制程,以免徒增成本。

        1.2 封裝焊線

        IC封裝屬于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的后段加工制成,主要是將前制程加工完成的IC予以分割,粘晶打線并加上塑封及成型。其成品主要提供一個(gè)引線的借口,內(nèi)部電性訊號(hào)可通過引腳將芯片連接到系統(tǒng),從而避免芯片受外力與水、濕氣、化學(xué)物質(zhì)的破壞與腐蝕等。焊線的目的是將晶粒上的接點(diǎn)用金線或者鋁線銅線連接到導(dǎo)線加上之內(nèi)的引腳,從而將IC晶粒的電路訊號(hào)傳輸?shù)酵饨纭?/p>

        1.3 ILD

        ILD(Inter Layer Dielectric)是一種層間介質(zhì),其作用為阻隔及保護(hù)電路的作用。當(dāng)層間介質(zhì)損壞后,外界的水,濕氣及化學(xué)物質(zhì)容易進(jìn)入電路,導(dǎo)致產(chǎn)品的可靠性降低,最終使得產(chǎn)品失效。

        2 背景介紹

        我們在進(jìn)行新產(chǎn)品驗(yàn)證的時(shí)候,發(fā)現(xiàn)其中一顆產(chǎn)品可靠性試驗(yàn)失效了,將其送到實(shí)驗(yàn)室分析,得出結(jié)論是有熱點(diǎn),而熱點(diǎn)的位置正好是焊線和探針測試的重合位置。所以我們肯定ILD已經(jīng)損壞。同時(shí)我們回顧以前的客戶投訴,發(fā)現(xiàn)也出現(xiàn)過類似的事件。因?yàn)檫@類產(chǎn)品都是大功率器件,所以都是采用鋁線進(jìn)行焊接。而鋁線相對于銅線和金線雖然承受的功率增大,但是由于它比較粗,焊線的力度也增大了,再加上探針測試的位置與焊線位置一致,所以導(dǎo)致ILD的損壞。

        3 實(shí)驗(yàn)?zāi)P瓦x取

        我們選取了其中一個(gè)大功率產(chǎn)品進(jìn)行試驗(yàn),通過對于探針卡針位的調(diào)整我們將鋁線焊線區(qū)域的探針位置調(diào)整到了焊線區(qū)域以外,這樣就防止了焊線和探針測試的重合。然后我們對于改良后的探針卡和產(chǎn)品進(jìn)行評估。

        4 數(shù)據(jù)分析

        4.1 良品率的評估

        我們用改善前的探針卡和改善后的探針卡測試相同一片晶圓,然后進(jìn)行良品率的分析比較。改善之前的良品率是92.51%,改善之后的良品率是92.45%,符合我們良品率比較小于3%的要求。同時(shí)我們又對測試結(jié)果的分類進(jìn)行比較,分類變化為0.6%,符合我們分類變化小于6%要求。

        4.2 ILD絕緣層的評估

        5 結(jié)論及改善方案

        通過以上數(shù)據(jù)我們得出結(jié)論, 對于探針卡針位的調(diào)整,不但防止了焊線和探針測試的重合而避免了ILD的損壞,同時(shí)又保證了良品率沒有下降。然后我們將此方法延續(xù)到其他大功率產(chǎn)品,從而徹底解決此類產(chǎn)品ILD的質(zhì)量問題。

        參考文獻(xiàn)

        [1]張?jiān)?《半導(dǎo)體制造工藝》機(jī)械工業(yè)出版社2011-1-1

        [2]《微電子封裝技術(shù)》中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)出版社;第二版(2011年7月1號(hào))

        [3]王蔚 哈爾濱工業(yè)大學(xué)出版社,出版時(shí)間2010年9月

        作者簡介

        戴西娜(1982-),女,天津市,助理工程師,本科,研究方向:半導(dǎo)體測試。

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