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        Nb2O5摻雜對(duì)SnO2-Zn2SnO4系壓敏陶瓷電學(xué)性質(zhì)的影響

        2014-06-07 10:03:43呂本順李立本臧國(guó)忠
        關(guān)鍵詞:壓敏電阻電學(xué)晶界

        呂本順,李立本,臧國(guó)忠

        (河南科技大學(xué)物理與工程學(xué)院,河南洛陽 471023)

        Nb2O5摻雜對(duì)SnO2-Zn2SnO4系壓敏陶瓷電學(xué)性質(zhì)的影響

        呂本順,李立本,臧國(guó)忠

        (河南科技大學(xué)物理與工程學(xué)院,河南洛陽 471023)

        研究了Nb摻雜對(duì)SnO2-Zn2SnO4系壓敏材料電學(xué)性質(zhì)的影響,研究結(jié)果表明:當(dāng)Nb2O5的含量(摩爾分?jǐn)?shù))從0.05%增加到0.80%時(shí),壓敏電阻的壓敏電壓從28 V/mm增加到530 V/mm;對(duì)晶界勢(shì)壘高度的分析表明:晶粒尺寸的迅速減小是樣品壓敏電壓增高、電阻率增大的主要原因。本文對(duì)Nb含量增加引起晶粒減小的原因進(jìn)行了解釋。

        壓敏電阻;二氧化錫;勢(shì)壘高度;非線性系數(shù)

        0 引言

        一直以來,ZnO壓敏電阻是國(guó)內(nèi)外研究的熱點(diǎn),且在生產(chǎn)和生活中的運(yùn)用較為成熟,目前較為成功的壓敏電阻模型也是以ZnO為基礎(chǔ)建立起來的[1-4]。同時(shí),因?yàn)閆nO具有多相結(jié)構(gòu)、易老化的原因,人們一直在尋求其他性能更好的壓敏材料[5-7]。1995年,文獻(xiàn)[8]發(fā)現(xiàn)少量摻雜的SnO2陶瓷具有較好的致密性和電學(xué)非線性性質(zhì),且具有單相結(jié)構(gòu),在高電壓保護(hù)領(lǐng)域有較好的應(yīng)用前景。由于SnO2是一種多孔材料,長(zhǎng)期以來一直被作為氣體傳感器來研究和應(yīng)用。為了得到致密的SnO2陶瓷,通常通過摻雜CoO、ZnO等物質(zhì)與SnO2形成固溶體。其中,存在的氧空位促進(jìn)了燒結(jié)過程中物質(zhì)的傳遞,從而得到致密的SnO2陶瓷[9]。另外,通過CuO摻雜產(chǎn)生液相促進(jìn)燒結(jié)也是一種常用的辦法。目前,SnO2-CoO、SnO2-ZnO、SnO2-CuO是SnO2壓敏電阻中常見的研究系列[9-10]。2005年,文獻(xiàn)[11]發(fā)現(xiàn):通過少量摻雜Zn2SnO4也能獲得致密的SnO2陶瓷,但是,至今未見其電學(xué)性質(zhì)的相關(guān)報(bào)道。因此,本文研究了Nb2O5摻雜對(duì)SnO2-Zn2SnO4系壓敏陶瓷電學(xué)性質(zhì)的影響。

        1 試驗(yàn)

        試驗(yàn)材料采用分析純的SnO2(99.5%,摩爾分?jǐn)?shù),下同)、Zn2SnO4(99.64%)和Nb2O5(99.95%)。試驗(yàn)配方按照100%SnO2+0.4%Zn2SnO4+x%Nb2O5(摩爾分?jǐn)?shù))的比例混配,其中,x=0.05、0.10、0.15、0.20、0.40、0.60、0.80。將配好的原料裝入有氧化鋯球的尼龍球磨罐中,加入適量酒精,用氧化鋯球和酒精為球磨介質(zhì)球磨12 h。料漿出罐后于1 200℃烘干,加入適量PVA攪拌后造粒,造粒后在200 MPa的壓力下壓制成大約厚1 mm、直徑15 mm的圓片,然后放入低溫爐排膠,再放入高溫爐在1 325℃下燒結(jié)2 h。樣品的電流-電壓關(guān)系由吉時(shí)利高壓測(cè)試儀(KEITHLEY2410)測(cè)得。表面微觀照片由掃描電子顯微鏡JEOL(Model JXA-840)獲得。阻抗頻譜由高頻阻抗分析儀(Agilent4294A)測(cè)得。

        2 結(jié)果與討論

        圖1為1 325℃燒結(jié)樣品的電學(xué)非線性曲線,從圖1中可以看出:摻雜范圍內(nèi),所有樣品均具有電學(xué)非線性性質(zhì),隨著Nb2O5摻雜量的增大,樣品的壓敏電壓逐漸增大,但當(dāng)x=0.40時(shí),樣品的壓敏電壓突然降低至28 V/mm,隨著摻雜量的進(jìn)一步增大,壓敏電壓繼續(xù)增大至530 V/mm。x=0.80樣品的壓敏電壓比x=0.40的樣品高了近20倍。通常情況下,壓敏電阻的壓敏電壓與晶界勢(shì)壘的高度和單位厚度內(nèi)晶界的數(shù)量有關(guān)[12]。

        圖1 樣品電流密度J與電場(chǎng)強(qiáng)度E之間的非線性關(guān)系隨Nb2O5摻雜量的變化

        對(duì)于壓敏電阻,在外加電場(chǎng)下,電子越過肖特基勢(shì)壘形成的熱激發(fā)電流與電場(chǎng)存在以下關(guān)系[13]:

        J=AT2exp[(βE1/2-φB)/(kT)],(1)式中,A為里查孫常數(shù);T為溫度;E為外加電場(chǎng);φB為勢(shì)壘高度;β為與勢(shì)壘厚度有關(guān)的常數(shù);k為波爾茲曼常數(shù)。根據(jù)式(1),低電場(chǎng)下,E1/2與ln J/(AT2)之間存在線性關(guān)系,且從該線性關(guān)系的截距可求得勢(shì)壘高度。

        圖2是不同摻雜樣品的E1/2與ln(J/(AT2))之間的線性關(guān)系。從圖2中可以看出:低場(chǎng)下,所有樣品均呈現(xiàn)出線性關(guān)系。這表明:Nb2O5摻雜的SnO2-Zn2SnO4系陶瓷的壓敏行為是由晶界勢(shì)壘引起的。計(jì)算得到的勢(shì)壘高度及樣品的其他參數(shù)如表1所示。從表1可以看出:樣品的勢(shì)壘高度在0.8~1.0 eV變化,這與已大量報(bào)道的SnO2-CoO系壓敏陶瓷一致[14-15]。隨著Nb2O5摻雜量的提高,勢(shì)壘高度有增大的趨勢(shì),即勢(shì)壘高度的提高是樣品壓敏電壓增大的原因之一。

        圖2 樣品的E1/2與ln(J/(AT2))的線性關(guān)系

        表1 樣品參數(shù)隨Nb2O5摻雜量的變化

        為了得到致密的SnO2壓敏陶瓷,通常通過受主CoO摻雜,與SnO2形成固溶體產(chǎn)生氧空位來促進(jìn)SnO2陶瓷的燒結(jié)。最近,本課題組報(bào)道了少量Zn2SnO4摻雜也能得到致密的SnO2陶瓷[16]。圖3是部分樣品的表面掃描電鏡照片。從圖3中可以看出:所有樣品均具有致密的結(jié)構(gòu),所有晶粒均有圓滑的邊界,即所有樣品均具有單一的結(jié)構(gòu),這與ZnO壓敏陶瓷的多相晶界結(jié)構(gòu)不同。另外,隨著摻雜量的增大,樣品晶粒尺寸減小,即單位厚度內(nèi),晶界的數(shù)量隨著摻雜量的增加而增大。因此,晶粒尺寸的減小是壓敏電壓隨著摻雜量增大的另一個(gè)重要原因。燒結(jié)過程中,Nb2O5可能部分偏析于晶界邊界上,阻止了晶粒的生長(zhǎng)。另一方面,通過施主摻雜(Nb2O5或Ta2O5)來提高晶粒的電導(dǎo)率是使得SnO2陶瓷具有壓敏性質(zhì)的一個(gè)必需過程。因此,部分Nb2O5可能進(jìn)入晶格,與SnO2形成固溶體,產(chǎn)生如式(2)的反應(yīng)。

        Nb2O5摻雜可促進(jìn)晶粒電導(dǎo)率的提高,從而促進(jìn)勢(shì)壘的形成。另一方面,大量的電子導(dǎo)致樣品晶粒電阻率的急劇降低,從而降低了樣品的整體電阻。x=0.40的樣品具有最低的壓敏電壓可能與此有關(guān)。

        圖3 樣品表面的掃描電鏡照片

        一般壓敏電阻的等效電路可用晶粒與晶界的串聯(lián)來表示,晶粒和晶界均由電容和電阻并聯(lián)而成,用rg、Cg代表晶粒的電阻和電容,rgb、Cgb代表晶界的電阻與電容。該等效電路總阻抗Z為兩部分阻抗之和。rg-Cg部分中晶粒的電阻、電容相對(duì)于rgb-Cgb部分中晶界的電阻、電容都要小。對(duì)于電容,晶粒的尺寸多為10-6數(shù)量級(jí),但是晶界的尺寸大都為10-9或者是10-10數(shù)量級(jí),比晶粒的尺寸要小很多,所以對(duì)于該等效電路的電容主要是由晶界電容來代表。電容具有阻低頻通高頻的性質(zhì),所以在低頻時(shí),主要考慮晶界對(duì)電學(xué)性質(zhì)的影響,而高頻時(shí),晶界相當(dāng)于高頻導(dǎo)通,所以材料的電學(xué)性質(zhì)主要由晶粒表現(xiàn)。等效電路中總阻抗可用式(3)表示:

        在高頻的時(shí)候,Zgb可以忽略不計(jì),在低頻的時(shí)候,Zg忽略不計(jì),于是可以得到式(4)和式(5)。

        式中,Rg、Xg、Rgb、Xgb分別是晶粒、晶界的電阻和電抗。

        由此可以得出:壓敏材料的電阻(實(shí)部)與電抗(虛部)在復(fù)阻抗頻譜圖上將表現(xiàn)為兩個(gè)相互連接的半圓。

        圖4是樣品在40 Hz~3 MHz下的復(fù)阻抗頻譜,由于樣品的阻抗差別較大,分別放置于圖4a~圖4c中。圖4a中,x=0.05,0.10,0.15;圖4b中,x=0.20,0.40;圖4c中,x=0.60,0.80。由于樣品的阻抗比較大,在常溫下不能得到完整的半圓,所有樣品數(shù)據(jù)均在180℃時(shí)測(cè)得。隨著摻雜量的增加,半圓的半徑整體上呈現(xiàn)增大的趨勢(shì),這與晶粒大小的變化規(guī)律一致,但在摻雜范圍內(nèi),半圓的半徑有一定的波動(dòng),這可能和以上分析的Nb2O5摻雜具有的多重作用有關(guān)。為了得到晶粒、晶界電阻的數(shù)據(jù),根據(jù)以上分析,通過晶粒-晶界串聯(lián)的模型用ZsimpW in軟件對(duì)所有阻抗頻譜數(shù)據(jù)進(jìn)行了擬合。擬合發(fā)現(xiàn):所有試驗(yàn)數(shù)據(jù)與晶粒-晶界串聯(lián)模型相當(dāng)吻合,圖5給出了x=0.05樣品的試驗(yàn)圖譜與擬合圖譜。晶粒、晶界電阻隨摻雜量的變化如圖6所示。從圖6中可以看出:隨著Nb2O5摻雜量的增加,晶界的電阻不斷增大,這可能和單位厚度內(nèi)晶界數(shù)量的增大以及勢(shì)壘高度的提高有關(guān)。從圖6還可以看出:晶粒電阻在x=0.40時(shí)出現(xiàn)最小值,這與壓敏電壓的變化一致,即晶粒電阻率的急劇降低可能是樣品壓敏電壓突然降低的重要原因。

        圖4 樣品的復(fù)阻抗Z′-Z″頻譜

        圖5 x=0.05樣品的復(fù)阻抗Z′-Z″頻譜及其擬合圖譜

        圖6 樣品的晶界電阻率Rgb和晶粒電阻率Rg隨Nb2O5摻雜量的變化

        3 結(jié)論

        通過Zn2SnO4摻雜,制備了致密的SnO2陶瓷,所有樣品均具有電學(xué)非線性性質(zhì)。SnO2-Zn2SnO4-Nb2O5系陶瓷的壓敏行為也起源于晶界勢(shì)壘。隨著Nb2O5摻雜量的增大,壓敏電壓具有增大的趨勢(shì),樣品的壓敏電壓可在28~530 V/mm調(diào)節(jié)。Nb2O5摻雜,一部分可能偏析于晶界上,阻止了晶粒的生長(zhǎng),導(dǎo)致壓敏電壓的增大;一部分可能進(jìn)入晶格,形成施主摻雜,降低晶粒的電阻率,促進(jìn)勢(shì)壘的形成。

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        O469

        A

        1672-6871(2014)03-0090-05

        國(guó)家自然科學(xué)基金項(xiàng)目(50972056);河南科技大學(xué)研究生創(chuàng)新基金項(xiàng)目(CXJJ-Z017)

        呂本順(1980-),男,山東聊城人,碩士生;李立本(1963-),男,河南洛陽人,教授,博士,碩士生導(dǎo)師,主要研究方向?yàn)殡娊橘|(zhì)物理.

        2013-06-24

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