技術(shù)貢獻與專利權(quán)交換的基本原則是：有技術(shù)貢獻，才可能獲得排他性權(quán)利；有多大技術(shù)貢獻，才可能獲得多大排他性權(quán)利。在技術(shù)貢獻視角下解釋權(quán)利要求，基本要求之一是，避免確有技術(shù)貢獻的發(fā)明創(chuàng)造因明顯文字錯誤而被認定無效。

專利制度的本質(zhì)有多種解讀，其中一種解讀是，專利制度通過給作出了技術(shù)貢獻的發(fā)明人授予與其技術(shù)貢獻相適應的排他性權(quán)利，激勵所有人努力作出技術(shù)貢獻，推動技術(shù)進步。技術(shù)貢獻與專利權(quán)進行交換的基本原則是，有技術(shù)貢獻，才可能獲得專利權(quán)；有多大技術(shù)貢獻，才可能獲得多大的專利權(quán)。充分理解技術(shù)貢獻與專利權(quán)相互交換的基本原則，可以幫助我們正確解答專利有效性評價中的各種難題。下面簡要從技術(shù)貢獻視角來分析如何解決司法實踐中有關專利有效性評價的主要問題。

一、技術(shù)貢獻的理論分析

為什么應當考慮技術(shù)貢獻？專利制度的各種哲學原理，無論是專利制度的自然權(quán)利論、服務報酬論、壟斷利潤激勵論還是公開換保護論，都隱含了對技術(shù)貢獻的要求。專利制度的自然權(quán)利論建立在洛克的勞動財產(chǎn)理論基礎上，勞動產(chǎn)生財產(chǎn)，產(chǎn)生類似專利權(quán)性質(zhì)的財產(chǎn)的勞動一定不是體力勞動，而應當是產(chǎn)生技術(shù)貢獻的勞動。專利制度的服務報酬論認為，發(fā)明人提供了有用的服務，因此應當給予發(fā)明人報酬。發(fā)明人提供的有用服務是什么，就是技術(shù)貢獻。專利制度的壟斷利潤激勵論認為，技術(shù)創(chuàng)新有利于社會，所以給予壟斷利益，激勵技術(shù)創(chuàng)新。在這里，技術(shù)創(chuàng)新就是技術(shù)貢獻的另一種表述方式。專利制度的公開換保護理論認為，公開技術(shù)貢獻有利于促進技術(shù)進步，給予專利權(quán)保護有利于促進發(fā)明人將技術(shù)貢獻不作為技術(shù)秘密來保護。公開換保護所強調(diào)的公開對象，一定是有技術(shù)貢獻的技術(shù)信息。因此，專利制度的所有理論基礎，都離不開技術(shù)貢獻這個關鍵。

什么是技術(shù)貢獻？技術(shù)貢獻至少應當包含兩層意思：第一層意思，有貢獻意味著與現(xiàn)有技術(shù)相比有進步，有進步包含兩層意思，首先是不相同，其次是非顯而易見。如果在現(xiàn)有技術(shù)基礎上，相對于

本領域技術(shù)人員而言，技術(shù)方案是非顯而易見的，則應當認定為有進步。在專利法上，技術(shù)貢獻的要求主要體現(xiàn)為專利新穎性和專利創(chuàng)造性的條件。第二層意思，貢獻具有技術(shù)性。所謂技術(shù)性，是指技術(shù)貢獻應當利用了自然規(guī)律的技術(shù)手段，解決了技術(shù)問題，獲得了符合自然規(guī)律的技術(shù)效果；技術(shù)貢獻具有在產(chǎn)業(yè)中被制造或使用的可能性。技術(shù)貢獻的第二層意思，可以體現(xiàn)為專利法上對專利實用性和專利客體的要求。

技術(shù)貢獻是不是專利性的充分條件？必須注意，技術(shù)貢獻是專利性的必要但不充分條件。沒有技術(shù)貢獻一定不能獲得專利權(quán)保護，但有技術(shù)貢獻不一定能夠獲得專利權(quán)。有技術(shù)貢獻不申請專利保護，當然不能獲得專利權(quán)。雖然申請了專利，但專利權(quán)的獲得需要完成一定的審查程序，不配合專利審查部門完成審查程序，也不能獲得專利權(quán)。專利權(quán)保護范圍通過權(quán)利要求書來確定，如果技術(shù)貢獻只體現(xiàn)在說明書中，但沒有以合適的方式寫到權(quán)利要求書中，也無法獲得專利權(quán)保護。

專利貢獻要求是否體現(xiàn)在規(guī)范文件中呢？一些規(guī)范性文件已經(jīng)明確強調(diào)了從技術(shù)貢獻的視角來看待專利權(quán)保護。例如，2002年歐盟《計算機實施發(fā)明的專利保護指令》第4條規(guī)定，計算機程序要獲得專利保護就必須具有創(chuàng)造性，而具有創(chuàng)造性的條件之一是計算機程序必須作出了技術(shù)貢獻。該規(guī)定實質(zhì)上是強調(diào)了在專利權(quán)有效性評價中必須考慮發(fā)明人的技術(shù)貢獻。在法發(fā)〔2012〕15號《最高人民法院關于充分發(fā)揮審判職能作用為深化科技體制改革和加快國家創(chuàng)新體系建設提供司法保障的意見》中，最高人民法院強調(diào)，對于創(chuàng)新程度高、對技術(shù)革新具有突破和帶動作用的首創(chuàng)發(fā)明，給予相對較高的保護強度和較寬的保護范圍。所謂創(chuàng)新程度高、對技術(shù)革新具有突破和帶動作用的首創(chuàng)發(fā)明，應當指技術(shù)貢獻較大的發(fā)明。這實質(zhì)上是強調(diào)了技術(shù)貢獻對專利權(quán)保護范圍確定的重要影響。

二、技術(shù)貢獻視角下的權(quán)利要求解釋原則

在解釋權(quán)利要求時如何體現(xiàn)技術(shù)貢獻視角？在技術(shù)貢獻視角下解釋權(quán)利要求，基本要求之一是，避免確有技術(shù)貢獻的發(fā)明創(chuàng)造因明顯文字錯誤而被認定無效。這一基本原則得到了最高人民法院的明確認可。在2012年的最高人民法院知識產(chǎn)權(quán)案件年度報告中，最高人民法院在評述（2011）行提字第13號“精密旋轉(zhuǎn)補償器”實用新型專利權(quán)無效行政糾紛案時指出，權(quán)利要求中的撰寫錯誤并不必然導致其得不到說明書支持；如果權(quán)利要求存在明顯錯誤，本領域普通技術(shù)人員根據(jù)說明書和附圖的相應記載能夠確定其唯一的正確理解的，應根據(jù)修正后的理解確定權(quán)利要求所保護的技術(shù)方案，在此基礎上再對該權(quán)利要求是否得到說明書的支持進行判斷。最高人民法院實質(zhì)上是要求解釋權(quán)利要求時對撰寫瑕疵給予適度容忍。

為什么要對確有技術(shù)貢獻的發(fā)明創(chuàng)造的撰寫瑕疵給予適度容忍呢？這是因為我國的專利申請量增長太快，而專利代理行業(yè)的發(fā)展跟不上步伐，專利申請文件的撰寫水平普遍不高。如果對于確有技術(shù)貢獻的發(fā)明創(chuàng)造提出較高的撰寫要求，可能會將一些確有技術(shù)貢獻但有輕微撰寫瑕疵的發(fā)明創(chuàng)造排除在專利權(quán)保護范圍之外，這實際上是不利于專利權(quán)保護的。最高人民法院充分認識到這一點，在法發(fā)〔2012〕15號文件中表示：充分考慮專利文件撰寫的客觀局限，在專利申請文件公開的范圍內(nèi)，盡可能保證確有創(chuàng)造性的發(fā)明創(chuàng)造取得專利權(quán)，實現(xiàn)專利申請人所獲得的權(quán)利與其技術(shù)貢獻相匹配，最大限度地提升科技支撐引領經(jīng)濟社會發(fā)展的能力。

三、技術(shù)貢獻視角下解釋權(quán)利要求的典型案例

在具體案件的司法實踐中如何體現(xiàn)前述基本原則呢？筆者在審理（2013）高行終字第732號“一種對旋轉(zhuǎn)輪體加熱的裝置”的實用新型專利權(quán)無效行政糾紛案中，通過考慮隱含限定特征對專利權(quán)人的撰寫瑕疵進行了彌補。在該案中，楊某是名稱為“一種對旋轉(zhuǎn)輪體加熱的裝置”的實用新型專利的專利權(quán)人。2011年，韓某向?qū)＠麖蛯徫瘑T會提出宣告本專利權(quán)無效的請求。2012年2月24日，專利復審委員會作出第18200號無效宣告請求審查決定，維持本專利權(quán)有效。韓某不服第18200號決定提起行政訴訟。北京市第一中級人民法院判令專利復審委員會重新作決定。專利復審委員會和專利權(quán)人楊某不服一審判決向北京市高級人民法院提起上訴。

二審訴訟中的爭議焦點是，對本專利權(quán)利要求1中“導磁體（4）按輪體（5）的軸向在線圈骨架（2）的圓柱面（10）上均布”應當如何理解。僅從文字表述來看，上述內(nèi)容可能有以下兩種情形：第一種情形，多個離散的導磁體，與線圈骨架圓柱體的軸相互平行，并在線圈骨架圓柱面上均勻分布。正如本專利實施例的附圖中所示的導磁管的結(jié)構(gòu)。第二種情形，多個導磁管作為環(huán)形件，在線圈骨架圓柱面的軸向上相互平行，并在線圈骨架圓柱面上均勻分布。正如證據(jù)1中導磁管的結(jié)構(gòu)。

筆者認為，為了平衡專利權(quán)人與社會公眾的利益，在解釋權(quán)利要求時，至少應當考慮到以下兩個方面：第一，對權(quán)利要求的解釋規(guī)則應當激勵專利申請人盡量明確地表述其專利權(quán)保護范圍，避免因為模糊的表述而導致保護范圍不清楚。如果專利申請人在撰寫權(quán)利要求時，使用模糊的文字表述相關技術(shù)特征，導致保護范圍不清楚，或者導致保護范圍過大，應當承擔由此產(chǎn)生的不利后果。第二，權(quán)利要求書中的文字表述有歧義時，解釋權(quán)利要求書以確定專利權(quán)保護范圍時，應當站在本領域技術(shù)人員的角度，結(jié)合對說明書和附圖，甚至結(jié)合專利權(quán)的修改情況，盡量全面地考慮權(quán)利要求書中相關文字表述的真正含義。對于確實有技術(shù)貢獻的發(fā)明創(chuàng)造，要盡量避免因為明顯的撰寫瑕疵而否定其效力。充分考慮專利文件撰寫的客觀局限，在專利申請文件公開的范圍內(nèi)，盡可能保證確有創(chuàng)造性的發(fā)明創(chuàng)造取得專利權(quán)，實現(xiàn)專利申請人所獲得的權(quán)利與其技術(shù)貢獻相匹配。

在本案中，本專利權(quán)利要求1中的上述文字表述來源于說明書中對實施例的技術(shù)方案的描述，而根據(jù)實施例的附圖來看，本領域技術(shù)人員可以直接地、毫無疑義地確定上述內(nèi)容應當是第一種情形。北京市高級人民法院認為，在這種情況下，如果專利權(quán)人確實有技術(shù)貢獻，本領域技術(shù)人員結(jié)合說明書和附圖也不會產(chǎn)生誤解，應當對其撰寫上的瑕疵予以適度寬容，因此，本專利權(quán)利要求1中的相關內(nèi)容應當解釋為第一種情形而不是第二種情形。專利復審委員會和專利權(quán)人的上訴主張，應當予以支持?；谇懊嫠龅脑颍徟袥Q撤銷了一審判決，維持了無效決定。

四、小結(jié)

專利制度的基本原理之一就是根據(jù)技術(shù)貢獻來授予和保護專利權(quán)，技術(shù)貢獻視角有時能夠直接觸及專利權(quán)授予規(guī)則和專利權(quán)保護規(guī)則的本質(zhì)，因此有必要嘗試著從技術(shù)貢獻的視角來理解和確定專利權(quán)有權(quán)性評價規(guī)則。在解釋權(quán)利要求時，我國的專利撰寫實際情況要求，適度容忍確有技術(shù)貢獻的發(fā)明創(chuàng)造的專利申請文件或?qū)＠募臄M定瑕疵。