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        環(huán)氧富鋅涂層對(duì)AZ91D鎂合金的腐蝕防護(hù)能力研究

        2014-04-19 00:34:02楊小奎張濤張世艷何建新牟獻(xiàn)良
        裝備環(huán)境工程 2014年1期
        關(guān)鍵詞:模值鋅粉時(shí)間常數(shù)

        楊小奎,張濤,張世艷,何建新,牟獻(xiàn)良

        (1.西南技術(shù)工程研究所,重慶 400039;2.重慶市環(huán)境腐蝕與防護(hù)工程技術(shù)研究中心,重慶 400039)

        鎂合金具有密度低、比強(qiáng)度高的特點(diǎn),同時(shí)具有良好的散熱性、回收性、抗電磁干擾和屏蔽性能,以及能量衰減系數(shù)大等特性,被譽(yù)為21世紀(jì)的綠色工程材料,在軍用裝備、汽車工業(yè)、航空航天、光學(xué)儀器等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景[1]。雖然鎂合金具有豐富的儲(chǔ)量和諸多優(yōu)良性能,但其應(yīng)用仍然非常有限。這主要是由于鎂合金的化學(xué)性質(zhì)活潑,耐腐蝕性能差,因而大大制約了其應(yīng)用[2-4]。

        為了提高鎂合金耐腐蝕性能,各種表面處理手段,如陽(yáng)極氧化、轉(zhuǎn)化膜、氣相沉積、激光表面處理等,都已經(jīng)應(yīng)用于鎂合金的腐蝕防護(hù)領(lǐng)域[5-11]。環(huán)氧富鋅涂層在國(guó)內(nèi)外鋼結(jié)構(gòu)防腐蝕中得到廣泛使用,如石油鉆井平臺(tái)、鐵路鋼橋等[12]。到目前為止,環(huán)氧富鋅涂層在鎂合金表面的制備卻鮮有報(bào)道。因此,筆者在鎂合金表面制備了環(huán)氧富鋅涂層,采用電化學(xué)阻抗譜研究了環(huán)氧富鋅涂層在0.5 mol/L的Na2SO4腐蝕溶液中的腐蝕電化學(xué)行為及其對(duì)鎂合金的腐蝕防護(hù)性能,以期為擴(kuò)大鎂合金的應(yīng)用范圍提供一定參考。

        1 試驗(yàn)

        1.1 材料

        試驗(yàn)材料為壓鑄AZ91D鎂合金,其主要成分:w(Al)=8.77%,w(Zn)=0.74%,w(Mn)=0.18%,w(Cu)=0.001%,w(Ni)=0.001%,余量為鎂。制成尺寸為100 mm×60 mm×5 mm的鎂合金試樣,將鎂合金試樣用2000目的砂紙打磨,清洗備用。

        1.2 試驗(yàn)樣品制備

        用機(jī)械噴涂法在AZ91D鎂合金表面制備環(huán)氧富鋅涂層,涂層厚度約50μm。

        1.3 測(cè)試

        電化學(xué)腐蝕測(cè)試采用經(jīng)典三電極體系:參比電極(RE)為飽和甘汞電極;輔助電極(CE)為大面積鉑片;研究電極(WE)為待測(cè)試樣,其有效測(cè)試面積為3.14 cm2。采用0.5 mol/L的Na2SO4溶液作為腐蝕測(cè)試溶液。采用含M273A恒電位儀和M5210鎖相放大器的PAR電化學(xué)系統(tǒng)測(cè)量電化學(xué)阻抗譜。電化學(xué)阻抗譜測(cè)試采用的交流信號(hào)電壓為10 mV,測(cè)試頻率范圍為105~10-1Hz。測(cè)試數(shù)據(jù)采用ZsimpWin 3.20軟件進(jìn)行處理分析。所有的電化學(xué)測(cè)試均重復(fù)3次,以檢驗(yàn)試驗(yàn)結(jié)果的重現(xiàn)性。

        采用Quanta 200環(huán)境掃描電鏡(FEI Co.,Ltd,the Netherlands)自帶的INCA能譜分析系統(tǒng)(Oxford Co.,Ltd,Britain)進(jìn)行環(huán)氧富鋅浸泡后涂層表面的成分分析。

        2 結(jié)果與討論

        2.1 電化學(xué)阻抗譜分析

        圖1為鎂合金裸基體和涂覆環(huán)氧富鋅涂層的鎂合金浸泡1 h后的電化學(xué)阻抗圖譜。

        從圖1a的奈奎斯特圖可以看出,鎂合金裸基體和涂覆環(huán)氧富鋅涂層的鎂合金的EIS圖譜均呈現(xiàn)出一個(gè)完整的容抗弧,表明鎂合金裸基體和涂覆環(huán)氧富鋅涂層的鎂合金在所研究的頻率范圍內(nèi)只出現(xiàn)了1個(gè)時(shí)間常數(shù),即1個(gè)松弛過(guò)程,分別對(duì)應(yīng)著鎂合金基體的法拉第反應(yīng)過(guò)程和環(huán)氧富鋅涂層/腐蝕介質(zhì)界面的電化學(xué)腐蝕行為。圖1b的波特圖中相位角的變化也證明,在初期浸泡過(guò)程中(1 h),鎂合金裸基體和涂覆環(huán)氧富鋅涂層的鎂合金只出現(xiàn)一個(gè)時(shí)間常數(shù)。從圖1b可以看出,涂覆環(huán)氧富鋅涂層的鎂合金阻抗模值要比鎂合金裸基體的阻抗模值高出5個(gè)數(shù)量級(jí)以上,表明涂覆環(huán)氧富鋅涂層的鎂合金耐腐蝕性能遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于鎂合金裸基體。

        圖1 鎂合金裸基體和涂覆環(huán)氧富鋅涂層的鎂合金浸泡1 h的電化學(xué)阻抗圖譜Fig.1 Electrochemical impedance spectroscopy of bare magnesium and the coated magnesium with an immersion time of 1 h

        2.2 浸泡測(cè)試

        為了進(jìn)一步研究環(huán)氧富鋅涂層對(duì)鎂合金的腐蝕保護(hù)能力和電化學(xué)腐蝕行為,將涂覆環(huán)氧富鋅涂層的鎂合金浸沒于0.5 mol/L的Na2SO4腐蝕溶液中336 h,每24 h為一周期取樣進(jìn)行電化學(xué)阻抗譜測(cè)試。

        圖2是涂覆環(huán)氧富鋅涂層的鎂合金在不同浸泡時(shí)間段的波特圖。

        圖2 涂覆環(huán)氧富鋅涂層的鎂合金浸泡不同時(shí)間的波特圖Fig.2 Bode plots of the coated magnesium with different immersion time

        從圖1和圖2可以看出,隨著浸泡時(shí)間的延長(zhǎng)(1~48 h),阻抗模值呈現(xiàn)不斷下降的趨勢(shì),浸泡48 h的時(shí)候,阻抗模值與浸泡1 h的時(shí)候相比,下降了約3個(gè)數(shù)量級(jí),表明環(huán)氧富鋅涂層的腐蝕防護(hù)性能隨浸泡時(shí)間的延長(zhǎng)不斷降低。隨著浸泡時(shí)間的進(jìn)一步增加(48~96 h),阻抗模值又上升了約1個(gè)數(shù)量級(jí),表明環(huán)氧富鋅涂層的腐蝕防護(hù)性能隨著浸泡時(shí)間的延長(zhǎng)有所提高。此后,隨著浸泡時(shí)間的進(jìn)一步延長(zhǎng)(96~316 h),阻抗模值又出現(xiàn)下降趨勢(shì),阻抗模值下降了約1個(gè)數(shù)量級(jí),表明環(huán)氧富鋅涂層的腐蝕防護(hù)性能隨著浸泡時(shí)間的延長(zhǎng)又有所降低。隨著浸泡時(shí)間的進(jìn)一步延長(zhǎng)(316~336 h),阻抗模值又開始增加,此時(shí)涂覆環(huán)氧富鋅涂層的鎂合金仍保持著較大的阻抗模值(106Ω·cm2以上)。浸泡測(cè)試結(jié)果表明:在0.5 mol/L的Na2SO4腐蝕溶液中,環(huán)氧富鋅涂層在浸泡336 h之后仍保持較高的耐腐蝕性能,對(duì)鎂合金基體具有良好的腐蝕保護(hù)能力。

        圖3是涂覆環(huán)氧富鋅涂層的鎂合金在不同浸泡時(shí)間段的電化學(xué)阻抗譜。

        圖3 涂覆環(huán)氧富鋅涂層的鎂合金浸泡不同時(shí)間的奈奎斯特圖Fig.3 Nyquist plots of the coated magnesium with different immersion time

        從圖3可以看出,在涂覆環(huán)氧富鋅涂層的鎂合金浸泡至48 h的時(shí)候,奈奎斯特圖譜上出現(xiàn)了兩個(gè)容抗弧,表明環(huán)氧富鋅涂層在所研究的頻率范圍內(nèi)出現(xiàn)了2個(gè)時(shí)間常數(shù),即2個(gè)松弛過(guò)程。圖2b中相位角的變化也表明涂覆環(huán)氧富鋅涂層的鎂合金在浸泡至48 h的時(shí)候出現(xiàn)了2個(gè)時(shí)間常數(shù)。高頻區(qū)的時(shí)間常數(shù)體現(xiàn)了環(huán)氧富鋅涂層中聚合物本身的介電性質(zhì),低頻段的時(shí)間常數(shù)表明環(huán)氧富鋅涂層中的Zn粉有電子轉(zhuǎn)移過(guò)程[13-14]。

        為了進(jìn)一步研究涂覆環(huán)氧富鋅涂層的鎂合金在0.5 mol/L的Na2SO4腐蝕溶液中的腐蝕機(jī)理,采用圖4所示的不同電化學(xué)等效電路(EEC)對(duì)所測(cè)得的電化學(xué)阻抗譜進(jìn)行合擬[15]。

        圖4a所示EEC用于擬合涂覆環(huán)氧富鋅涂層的鎂合金在0.5 mol/L的Na2SO4腐蝕溶液中,浸泡時(shí)間為1~48 h的電化學(xué)阻抗譜數(shù)據(jù);圖4b所示EEC用于模擬涂覆環(huán)氧富鋅涂層的鎂合金在0.5 mol/L的Na2SO4腐蝕溶液中,浸泡時(shí)間為48~336 h的電化學(xué)阻抗譜數(shù)據(jù)。圖4a所示EEC由以下參數(shù)組成:溶液電阻(Rs)、微孔電阻(Rpor)、取代雙電層電容(Cdl)的常相位角元件(CPE)。CPE的阻抗公式如下[16]:

        圖4 電化學(xué)等效電路Fig.4 Electrochemical equivalent circuits used for fitting EIS data

        式中:Y0是一個(gè)與頻率無(wú)關(guān)的常數(shù);ω是角頻率;n是彌散效應(yīng)的指數(shù)冪。當(dāng)n=0時(shí),CPE代表純電阻;n=1時(shí),CPE代表理想電容。

        圖4b所示EEC由以下參數(shù)組成:溶液電阻(Rs),微孔電阻(Rpor)、電荷轉(zhuǎn)移電阻(Rct)、取代雙電層電容(Cdl)的常相位角元件(CPE)。此時(shí),整個(gè)涂層系統(tǒng)的阻抗數(shù)學(xué)表達(dá)式為:

        圖4a所示電路中,Rpor-CPE電路描述的是環(huán)氧富鋅涂層中高聚物的介電性質(zhì)。圖4b所示電路中,Rpor-CPE1電路描述的是環(huán)氧富鋅涂層中高聚物的介電性質(zhì),對(duì)應(yīng)于阻抗譜的高頻區(qū);Rct-CPE2描述的是環(huán)氧富鋅涂層中鋅粉的電極法拉第過(guò)程,即鋅粉的活性溶解,對(duì)應(yīng)于阻抗譜的低頻區(qū)。

        圖5是電化學(xué)等效電路元件參數(shù)Rpor和Rct隨浸泡時(shí)間的變化圖。

        圖5 電化學(xué)等效電路元件參數(shù)隨浸泡時(shí)間的變化Fig.5 Variations of the impedance parameters with different immersion time

        微孔電阻Rpor是一個(gè)用來(lái)衡量涂層孔隙率和老化程度的物理量,反映了電解質(zhì)對(duì)涂層的滲透作用程度。Rpor與涂層孔隙數(shù)目或毛細(xì)通道數(shù)目有關(guān),其數(shù)學(xué)表達(dá)式如下[14]:

        式中:κ是電解質(zhì)的電導(dǎo)率;N是毛細(xì)通道數(shù)目;Ac是毛細(xì)通道的平均橫截面面積;d是毛細(xì)通道的長(zhǎng)度,也就是涂層的厚度。在浸泡初期(1~48 h),由于電解質(zhì)對(duì)涂層的不斷滲透以及涂層表面孔隙或毛細(xì)通道數(shù)目的不斷增加,導(dǎo)致Rpor出現(xiàn)較為明顯的下降。隨著浸泡時(shí)間的延長(zhǎng)(48~316 h),由于涂層中的鋅粉開始溶解,產(chǎn)生大量腐蝕產(chǎn)物堵塞涂層表面的孔隙或毛細(xì)通道,使得涂層的Rpor變化非常小,處于一個(gè)較為穩(wěn)定的狀態(tài)。隨著浸泡時(shí)間的進(jìn)一步延長(zhǎng)(316~336 h),鋅粉大量溶解產(chǎn)生的腐蝕產(chǎn)物堆積造成涂層Rpor增加。

        Rct是描述涂層中鋅粉與周圍電解質(zhì)作用產(chǎn)生電化學(xué)反應(yīng)快慢以及鋅粉/環(huán)氧樹脂界面穩(wěn)定性的物理量。在浸泡初期(1~48 h),鋅粉表面被環(huán)氧樹脂以及表面所形成的一層薄薄的氧化膜覆蓋,未能接觸電解質(zhì)溶液,因此沒有與周圍電解質(zhì)作用產(chǎn)生電化學(xué)反應(yīng)。隨著浸泡時(shí)間的延長(zhǎng)(48~336 h),電解質(zhì)溶液不斷滲透涂層,鋅粉表面氧化膜開始溶解,鋅粉活性表面增加,發(fā)生電荷轉(zhuǎn)移反應(yīng),即涂層的奈奎斯特圖低頻段出現(xiàn)第2個(gè)容抗弧。

        圖6給出了涂覆環(huán)氧富鋅涂層的鎂合金在浸泡之前與浸泡336 h之后的表面形貌。

        圖6 涂覆環(huán)氧富鋅涂層的鎂合金浸泡試驗(yàn)之前與浸泡336 h之后的表面形貌Fig.6 Surface morphologies of coated magnesium before immersion test and with an immersion time of 336 h

        從圖6可以看出:浸泡336 h之后的環(huán)氧富鋅涂層與浸泡之前的環(huán)氧富鋅涂層表面相比,并無(wú)明顯變化。浸泡后環(huán)氧富鋅涂層表面的EDS分析結(jié)果表明:涂層表面僅探測(cè)到C,Zn,H和O元素,未檢測(cè)到Mg元素。根據(jù)EIS圖譜與EDS的結(jié)果可以得出結(jié)論:浸泡時(shí)間達(dá)到336 h,鎂合金基體仍未遭到腐蝕。由此可知:在0.5 mol/L的Na2SO4腐蝕溶液中,環(huán)氧富鋅涂層對(duì)鎂合金具有很好的腐蝕保護(hù)能力。

        3 結(jié)論

        1)在鎂合金表面成功制備了具有優(yōu)異腐蝕防護(hù)性能的環(huán)氧富鋅涂層。

        2)環(huán)氧富鋅涂層在浸泡初期(48 h前),阻抗譜中只出現(xiàn)了1個(gè)時(shí)間常數(shù),體現(xiàn)出環(huán)氧富鋅涂層優(yōu)異的阻擋層作用;浸泡48 h后,環(huán)氧富鋅涂層的阻抗譜中出現(xiàn)2個(gè)時(shí)間常數(shù),高頻和低頻時(shí)間常數(shù)分別對(duì)應(yīng)環(huán)氧富鋅涂層中高聚合的介電性質(zhì)和鋅粉的活性溶解。

        3)環(huán)氧富鋅涂層浸泡336 h后對(duì)鎂合金仍具有良好的保護(hù)能力。

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