吳文堂, 洪延姬, 葉繼飛, 蔣冠雷
(1. 裝備學(xué)院 激光推進及其應(yīng)用國家重點實驗室, 北京 101416; 2. 北京跟蹤與通信技術(shù)研究所, 北京 100094)
超聲速沖擊射流是航空航天技術(shù)領(lǐng)域遇到的普遍問題。由于沖擊射流的流場結(jié)構(gòu)非常復(fù)雜,包含超聲速與亞聲速流動,有激波和渦之間的相互作用,也有激波與激波以及激波與剪切層的相互作用。因此,無論是工程應(yīng)用還是基礎(chǔ)研究,沖擊射流都極具研究價值。
國外學(xué)者在這一問題上的研究較多,而且比較系統(tǒng)深入。早期的研究者利用紋影技術(shù)和表面壓力測量技術(shù),研究沖擊射流的結(jié)構(gòu)和流動特性,研究表明碰撞區(qū)域能否產(chǎn)生滯止泡(Stagnation Bubble)取決于來流條件。一般認(rèn)為在沖擊射流初始階段,高壓氣體在噴管唇部迅速膨脹,形成了類似球狀的不斷向外擴張的起始沖擊波,沖擊波遇到射流邊界以后,形成一道入射激波。此外,起始沖擊波遇到平板后發(fā)生反射,形成曲面激波,該激波與平板相互作用后發(fā)生馬赫反射,在曲面激波后面形成了局部高溫高壓區(qū);隨著時間的進一步發(fā)展,射流激波遇到馬赫盤后發(fā)生反射,形成反射激波,同時有三角波交點出現(xiàn),馬赫盤向前突起,直徑變大;最后整個流場結(jié)構(gòu)趨于穩(wěn)定。在實驗研究方面,Thomas等[1-2]、 Mitchell等[3-4]以及Elavarasan等[5-6]分別采用陰影法、紋影法和PIV流場測量方法,對沖擊射流的結(jié)構(gòu)特性進行了研究。國內(nèi)研究者徐驚雷[8]、姚朝暉[9]等利用PIV方法對沖擊射流的流場結(jié)構(gòu)和渦結(jié)構(gòu)進行了深入研究??傮w來看,國內(nèi)外對于沖擊射流的研究比較系統(tǒng),據(jù)查閱的文獻資料來看,彩虹紋影技術(shù)用于沖擊射流的實驗研究相關(guān)工作,鮮有涉及。
利用彩虹紋影測量系統(tǒng),對高速沖擊射流的流場結(jié)構(gòu)和渦結(jié)構(gòu)進行深入研究,提升對這一類流場結(jié)構(gòu)的感觀認(rèn)知。
本研究采用彩虹紋影系統(tǒng)對沖擊射流進行實驗研究,彩虹紋影是一種新型的紋影技術(shù),其主要特點是獲得流場信息量大、非入侵定量測量精度高、成本低,是近年來國內(nèi)外研究者在流動測量技術(shù)中的研究熱點[9-13]。圖1為所使用的彩虹紋影測量系統(tǒng)示意圖。該系統(tǒng)組成部分包括:A為氙燈光源及透鏡光闌組;B為冷噴射流及控制系統(tǒng);C為直徑為150mm紋影鏡組;D為直徑為150mm平面反射鏡;E為彩虹濾光片和成像系統(tǒng)。
實驗中使用的彩虹濾光片制作過程包括兩步:第一步是利用Matlab軟件設(shè)計好所需的濾光片樣式;第二步是使用膠卷相機將所設(shè)計的濾光片拍攝到膠卷底片上,然后沖洗出來。膠卷為富士Chrome Velvia RVP 50°反轉(zhuǎn)片,反轉(zhuǎn)片的特性在于膠卷底片沖洗出來以后,底片上的顏色為實際景物的顏色,膠卷的ISO度數(shù)值越低,顆粒越細(xì)膩,生成的濾光片靈敏度越高,但需要的曝光時間越長。彩虹濾光片的厚度不能太大,厚度太大會使實驗結(jié)果顏色失真,同時也會影響實驗系統(tǒng)的靈敏度。本實驗中的膠卷底片厚度為0.127mm,這個厚度對其所帶出的顏色的影響是可以忽略的。對于一面1500mm焦距,直徑150mm的反射鏡而言,當(dāng)濾光片的寬度為最大值24mm時,按其最小和最大可能的偏折角計算,濾光片厚度對其色度產(chǎn)生的影響為(見圖2):
圖1 實驗測量系統(tǒng)示意圖
(1)
圖2 濾光片厚度對測量的影響
顯然,由于該值小于理論上每個像素的大小0.025mm,可以認(rèn)為濾光片的厚度對其色度產(chǎn)生的影響是可以忽略的。圖3是安裝在測量系統(tǒng)中的彩色濾光片實物圖。在彩色濾光片的安裝過程中,必須保持彩色濾光片的平整,同時保證彩色濾光片的主要色度變化區(qū)與狹縫光源的成像平行。
圖3 安裝在測量系統(tǒng)中的彩色濾光片實物圖
利用彩虹紋影測量系統(tǒng)對噴嘴直徑Φ=6mm的沖擊射流進行了大量的實驗研究。獲得不同時刻的沖擊射流的彩虹紋影圖像,可以觀察到?jīng)_擊射流的較多有趣的特性。
圖4是相同壓比η=19.8的條件下,沖擊射流與自由射流的彩虹紋影局部圖像。沖擊射流一般分成三個區(qū)域:初始射流區(qū)、碰撞區(qū)和徑向壁面射流區(qū),如圖4(a)所示,這三個區(qū)域都比較明顯。在相同壓比條件下,沖擊射流產(chǎn)生的馬赫盤比自由射流產(chǎn)生的馬赫盤大很多。顯然,在沖擊射流中,噴管出口處的來流流向速度是超聲速的,而且還存在膨脹波,周圍的來流處在加速階段,而在碰撞的壁面附近氣流流向速度為零,來流必須在一個較短距離內(nèi)完成這種突然間的變化,因而形成了寬度較大的馬赫盤。自由射流不存在這種突然間的變化,因而可以緩慢過渡,形成的馬赫盤較小。
(a) Impinging jet (b) Free jet
圖5為噴嘴與擋板距離為l=9mm時,三種不同結(jié)構(gòu)沖擊射流的彩虹紋影圖像以及結(jié)構(gòu)示意圖。圖5(a)左圖是壓比較大的沖擊射流彩虹紋影實驗圖像,實驗結(jié)果中,沖擊射流的膨脹波系、射流邊界以及產(chǎn)生的馬赫盤結(jié)構(gòu)清晰,右圖是根據(jù)實驗結(jié)果所畫的波系結(jié)構(gòu)示意圖,沖擊平板的氣流在平板壁面附近形成壁面射流,向兩邊流走。值得一提的是,由于這種類型的沖擊射流是軸對稱的,噴管出口的速度是中間高,四周低,因此形成的馬赫盤是一個凹型弧形平面,在二維平面上顯示為一條弧線和一條直線。圖5(b)左圖是壓比稍小的沖擊射流彩虹紋影實驗圖像,與壓力較大的沖擊射流結(jié)構(gòu)相比較,最明顯的變化是馬赫盤變成一個平面,在二維平面上顯示為一條直線。圖5(c)左圖是壓比更小的沖擊射流彩虹紋影實驗圖像,與壓力較大的沖擊射流結(jié)構(gòu)相比較,最明顯的變化是馬赫盤變成一個凸型弧形平面,在二維平面上顯示為一條弧線和一條直線。其原因是壓比變小之后,出口速度也迅速減小,同時沖擊區(qū)的平板壁面形成一個循環(huán)流動滯止區(qū),將馬赫盤向上頂起,形成滯止泡。
(a)
(b)
(c)
利用彩虹紋影測量系統(tǒng),對不同距離不同壓比的沖擊射流進行實驗研究,得到了一些效果較好的沖擊射流實驗結(jié)果,通過研究得到以下結(jié)論:
(1) 利用彩虹紋影系統(tǒng)獲得了清晰的沖擊射流實驗照片,很好地呈現(xiàn)了沖擊射流的波系結(jié)構(gòu),也證明了彩虹紋影系統(tǒng)的高分辨率和靈敏度;
(2) 通過對三種不同結(jié)構(gòu)的沖擊射流的波系結(jié)構(gòu)進行分析發(fā)現(xiàn),沖擊射流的形成與來流條件相關(guān),也與噴管噴口與沖擊壁面的距離相關(guān)。在噴嘴與擋板距離較大時,形成的射流結(jié)構(gòu)與自由射流相似,壁面附近的射流區(qū)域不明顯。隨著距離減小,沖擊射流在壁面沖擊區(qū)附近射流比較劇烈。距離進一步減小時,出現(xiàn)滯止泡等結(jié)構(gòu);
(3) 發(fā)展的彩虹紋影系統(tǒng),為研究超聲速流場顯示提供了一種可行方法。
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作者簡介:
吳文堂(1987-),男,湖南龍山縣人,博士生。研究方向:流動控制與流動顯示。通信地址:北京市懷柔區(qū)3380信箱86號(101416)。E-mail:aricwwt@sina.com