宋振興, 劉寶超, 梁 山, 姚素薇,王宏智, 張衛(wèi)國, 趙占芬
(1.天津科技大學(xué) 理學(xué)院 化學(xué)系,天津 300457;2.天津大學(xué) 化工學(xué)院 應(yīng)用化學(xué)系,天津300072)
化學(xué)鍍鎳-磷合金具有耐磨性能好、硬度高及耐腐蝕性能優(yōu)良的特點(diǎn),被廣泛地應(yīng)用于防腐、耐磨、裝飾及電磁屏蔽等領(lǐng)域。隨著化學(xué)鍍鎳-磷合金鍍層應(yīng)用領(lǐng)域的不斷擴(kuò)大,對(duì)其硬度及耐磨性的要求越來越高。為了進(jìn)一步提高化學(xué)鍍鎳-磷合金鍍層的硬度及耐磨性,人們將金剛石、SiC、聚四氟乙烯(PTFE)或Si3N4等微粒與鍍層復(fù)合,得到了機(jī)械性能更加優(yōu)越的化學(xué)鍍鎳-磷合金復(fù)合鍍層[1-6],復(fù)合鍍層因復(fù)合微粒的不同而表現(xiàn)出不同的物理、化學(xué)特性[7-15]。Si3N4顆粒不但具有硬度高、耐磨性好、抗震性強(qiáng)及化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定等優(yōu)點(diǎn),還具有一定的自潤滑性,復(fù)合了Si3N4的鎳-磷合金鍍層在保持良好耐腐蝕性的同時(shí)提高了鍍層的硬度和耐磨性,可廣泛用于腐蝕環(huán)境中的易磨損活動(dòng)部件的表面精飾。
2007年以前,對(duì)于Si3N4顆粒復(fù)合鍍層研究非常少[16],嚴(yán)重制約了其應(yīng)用與發(fā)展。本文研究了(Ni-P)-Si3N4復(fù)合鍍層形貌與結(jié)構(gòu),探討了鍍液中次磷酸鈉質(zhì)量濃度、Si3N4微粒、pH及熱處理對(duì)復(fù)合鍍層硬度及耐磨性的影響,并得到最佳工藝條件。
化學(xué)鍍(Ni-P)-Si3N4復(fù)合鍍層溶液組成及操作條件為:
硫酸鎳 120g/L
檸檬酸鈉 65g/L
次磷酸鈉 20~60g/L
無水醋酸鈉 80g/L
穩(wěn)定劑 1mL/L
光亮劑 1mL/L
Si3N40~15g/L
pH 3~5
θ 88℃
剪切黃銅片(5cm×4cm)→用砂紙除去表面氧化層→水洗→80℃除油液中浸泡5min→水洗→浸蝕(室溫下2~3min)→水洗→化學(xué)鍍(用鐵引發(fā),2h)→取部分試樣在400℃進(jìn)行充氮熱處理1h。
按ASTM B-656-79分析方法進(jìn)行。將鍍?cè)诓讳P鋼表面的復(fù)合鍍層剝離后稱量鍍層(m),用V(水)∶V(硝酸)為1∶1溶液加熱溶解,用定量濾紙過濾,烘干稱量得到Si3N4質(zhì)量(m1),計(jì)算鍍層中Si3N4微粒質(zhì)量分?jǐn)?shù)。
采用ZRG3-18-12型真空管式電爐對(duì)復(fù)合鍍層進(jìn)行熱處理,熱處理θ為400℃,升溫速率600℃/h,t為2h,充氮保護(hù)。
使用TS5136掃描電鏡(捷克TESCAN公司)觀測(cè)鍍層表面形貌。利用BUH-W201顯微硬度計(jì)(日本島津)測(cè)試硬度。
采用PM-1型平磨實(shí)驗(yàn)機(jī),載荷9.8N,W50金相砂紙(梅山砂紙廠)平磨800次,每摩擦200次用分析天平稱量磨損前后質(zhì)量差Δm,來表示鍍層的耐磨性。
采用掃描電鏡(SEM)對(duì)(Ni-P)-Si3N4復(fù)合鍍層表面形貌進(jìn)行觀察,圖1和圖2分別為(Ni-P)-Si3N4鍍層的二次電子像及背散射電子像。
圖1 (Ni-P)-Si3N4復(fù)合鍍層二次SEM照片
圖2 (Ni-P)-Si3N4復(fù)合鍍層背散射SEM照片
由圖1和圖2可知,大量Si3N4顆粒均勻、牢固地鑲嵌于鎳-磷合金基體上,d約為10μm。一部分微粒被鎳-磷合金鍍層完全包裹,另一部分則被部分包裹。這些顆粒的加入使得鎳-磷合金鍍層的結(jié)構(gòu)得到加強(qiáng),并且在鍍層磨損時(shí)起到支撐與潤滑的作用。因此,Si3N4的復(fù)合量對(duì)鍍層的硬度及耐磨性起到至關(guān)重要的影響。
2.2.1 次磷酸鈉對(duì)鍍層硬度的影響
為考察次磷酸鈉質(zhì)量濃度在熱處理前后對(duì)(Ni-P)-Si3N4復(fù)合鍍層硬度的影響,在鍍液ρ(次磷酸鈉)為20~60g/L、pH 為 5、ρ(Si3N4)為10g/L 條件下,制備了(Ni-P)-Si3N4復(fù)合鍍層。次磷酸鈉質(zhì)量濃度對(duì)鍍層硬度的影響如圖3所示。
圖3 ρ(次磷酸鈉)對(duì)鍍層硬度的影響
由圖3可知,熱處理前后復(fù)合鍍層的硬度隨著次磷酸鈉質(zhì)量濃度的增加先增加后降低,鍍液中ρ(次磷酸鈉)為40g/L時(shí),鍍層硬度最高。這是因?yàn)镾i3N4微粒硬度高,屈服極限大,與Ni-P合金基質(zhì)的復(fù)合顯著提高了基質(zhì)的硬度。然而,隨著鍍液中次磷酸鈉增加,反應(yīng)速率越來越快,過快的沉積速率使Si3N4微粒來不及被鍍層復(fù)合,從而使鍍層的粒子復(fù)合量降低,導(dǎo)致硬度降低。
2.2.2 鍍液pH對(duì)鍍層硬度的影響
圖4為鍍液中 ρ(次磷酸鈉)為40g/L、pH為3~5、ρ(Si3N4)為 10g/L 的(Ni-P)-Si3N4復(fù)合鍍層的硬度曲線。
圖4 溶液pH對(duì)復(fù)合鍍層硬度的影響
由圖4可知,熱處理前后復(fù)合鍍層硬度都隨著pH增大而增加,當(dāng)pH為3~4時(shí)硬度增加迅速,pH為4~5時(shí)硬度增加變慢。造成這種現(xiàn)象的原因可能是由于反應(yīng)速率受pH影響所致,當(dāng)pH=3~4時(shí)反應(yīng)速率較快,Si3N4微粒能較好的復(fù)合于鍍層之中,而pH=4~5時(shí)反應(yīng)速率較?。?],鍍層對(duì) Si3N4微粒的捕獲能力較差,微粒復(fù)合量較小且分布不均,硬度也相應(yīng)降低。
2.2.3 Si3N4對(duì)鍍層硬度的影響
圖5為鍍液中ρ(次磷酸鈉)為40g/L、pH為5、ρ(Si3N4)為0~15g/L的(Ni-P)-Si3N4復(fù)合鍍層的硬度曲線。
由圖5可知,隨Si3N4在鍍液中的質(zhì)量濃度增加,鍍層硬度增加,當(dāng)鍍液ρ(Si3N4)為10g/L時(shí),熱處理后的鍍層硬度高達(dá)1088HV,進(jìn)一步提高Si3N4質(zhì)量濃度,鍍層硬度反而下降。這是因?yàn)镾i3N4微粒硬度高,屈服極限大,與Ni-P合金基質(zhì)的復(fù)合顯著提高了基質(zhì)的硬度。但當(dāng)鍍液中Si3N4質(zhì)量濃度太大時(shí),導(dǎo)致Si3N4微粒之間撞擊加劇,不利于微粒復(fù)合,并使微粒與Ni-P合金基質(zhì)結(jié)合力變差,鍍層硬度因而降低。通過實(shí)驗(yàn)可知,當(dāng)鍍液中ρ(Si3N4)為10g/L時(shí)鍍層所含微粒量最大,達(dá)到15.5%。
2.2.4 熱處理對(duì)鍍層硬度的影響
由圖1~圖5可知,復(fù)合鍍層經(jīng)過熱處理后,鍍層硬度明顯增加,熱處理后顯微硬度高達(dá)1088HV。這是因?yàn)闊崽幚硎沟酶嗟牡谌郚i3P析出,這些新相硬度較高且均勻分布于鍍層中,起到沉淀硬化和彌散強(qiáng)化的作用,從而增強(qiáng)鍍層的硬度。當(dāng)磷含量超過一定值時(shí)Ni3P相開始集中,均勻性降低,鍍層硬度因而降低[17]。
2.3.1 次磷酸鈉對(duì)鍍層耐磨性的影響
為考察鍍液中次磷酸鈉質(zhì)量濃度在熱處理前后對(duì)(Ni-P)-Si3N4復(fù)合鍍層耐磨性的影響,制備了鍍液中20~50g/L次磷酸鈉、pH為5及10g/L Si3N4的(Ni-P)-Si3N4復(fù)合鍍層。實(shí)驗(yàn)結(jié)果如圖6和圖7所示。由圖6和圖7可見,隨著ρ(Si3N4)升高,復(fù)合鍍層耐磨性得以提高。原因是超硬粒子起了防止粘著和承受磨石施加荷載的作用。當(dāng)復(fù)合鍍層與摩擦面接觸時(shí),鍍層中的基質(zhì)金屬被磨損后,裸露出的Si3N4微粒起了支承裁荷及潤滑的作用,從而阻止了鍍層進(jìn)一步磨損。
圖6 ρ(次磷酸鈉)對(duì)熱處理前鍍層耐磨性的影響
圖7 ρ(次磷酸鈉)對(duì)熱處理后鍍層耐磨性的影響
由圖6和圖7還可以看出,隨著鍍液中次磷酸鈉質(zhì)量濃度的增加,鍍層的耐磨性能增加。而熱處理后基體硬度增加,與Si3N4微粒的結(jié)合力增加,其耐磨性也大幅提高。
2.3.2 溶液pH對(duì)耐磨性的影響
圖8和圖9是鍍液中40g/L次磷酸鈉、pH為3~5和10g/L Si3N4的(Ni-P)-Si3N4復(fù)合鍍層的耐磨性曲線。由圖8和圖9可知,隨著pH升高鍍層的耐磨性能提高。這是由于pH升高,鍍層沉積速率加快,Si3N4微粒能更多地復(fù)合于Ni-P合金鍍層之中,從而使復(fù)合鍍層耐磨性提高。
圖8 pH對(duì)熱處理前鍍層耐磨性的影響
圖9 pH對(duì)熱處理后鍍層耐磨性的影響
2.3.3 鍍液中Si3N4對(duì)鍍層耐磨性的影響
圖10為鍍液中40g/L次磷酸鈉、pH為5和0~15g/L Si3N4的(Ni-P)-Si3N4復(fù)合鍍層的耐磨性曲線。圖11為熱處理后鍍層的耐磨性曲線。
圖10 ρ(Si3N4)對(duì)熱處理前鍍層耐磨性的影響
圖11 ρ(Si3N4)對(duì)熱處理后鍍層耐磨性的影響
由圖10和圖11可以看出,鍍液中未加Si3N4微粒的鍍層的耐磨性明顯低于加入Si3N4微粒的試樣。
在鍍液中隨Si3N4質(zhì)量濃度的增加,鍍層耐磨性提高,當(dāng)鍍液ρ(Si3N4)為10g/L時(shí),鍍層耐磨性最好,進(jìn)一步提高Si3N4加入量,耐磨性反而下降。這是因復(fù)合微粒的硬度高于Ni-P合金鍍層,這些微粒具有極高的強(qiáng)度,限制了鍍層的塑性變形,從而使復(fù)合鍍層耐磨性大大提高。但是鍍液中Si3N4微粒超過一定量后,鑲嵌到鍍層中的微粒反而減少且團(tuán)聚增多,結(jié)合力下降,從而使鍍層耐磨性下降。
2.3.4 熱處理對(duì)鍍層耐磨性的影響
由圖3~圖11可知,熱處理后鍍層硬度與耐磨性都有所提高,這是因?yàn)闊崽幚砗驨i3P的析出使基體的硬度有了很大提高,與Si3N4微粒的結(jié)合力增強(qiáng),鍍層耐磨性提高。
1)隨著鍍液中次磷酸鈉質(zhì)量濃度的增加、鍍液pH的升高,鍍層的硬度與耐磨性能先提高后降低。
2)隨Si3N4在鍍液中質(zhì)量濃度的增加,鍍層硬度及耐磨性增加,當(dāng)鍍液中Si3N4質(zhì)量濃度為10g/L時(shí),鍍層硬度及耐磨性最好,熱處理后的鍍層硬度高達(dá)1088HV,進(jìn)一步提高Si3N4加入量,鍍層硬度及耐磨性反而下降。
3)熱處理后的鍍層硬度及耐磨性都有明顯提高。
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