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        敷設(shè)去耦層水下簡支撐板的振動特性

        2013-12-02 06:07:06何世平
        艦船科學(xué)技術(shù) 2013年2期
        關(guān)鍵詞:中板均方聲壓

        趙 軍,何世平

        ( 海軍工程大學(xué) 機(jī)械工程系,湖北 武漢430033)

        0 引 言

        敷設(shè)去耦覆蓋層是艦艇減振降噪的一種重要措施,它可減小艦艇殼體振動向外部流體的傳遞,從而降低水下輻射噪聲。要達(dá)到上述目的,去耦覆蓋層應(yīng)選擇低剛度的柔性材料。一個極限的情況是,艦艇殼體與流體之間插入一個空氣層,將完全隔離艦艇殼體振動向流體中的傳遞。在實(shí)際應(yīng)用中,通常只是在艦艇表面局部敷設(shè)去耦覆蓋層,但這樣會產(chǎn)生如下問題:敷設(shè)去耦層區(qū)域的結(jié)構(gòu)振動是否會增加從而增加向周邊結(jié)構(gòu)的傳遞,影響去耦覆蓋層的降噪效果?為此,本文對敷設(shè)去耦層的水下結(jié)構(gòu)振動特性開展了理論研究。

        對于去耦層的研究,目前國內(nèi)外大多數(shù)研究集中于去耦層的隔聲性能。陶猛[1]等利用傳遞矩陣法研究了無限大板上敷設(shè)多層去耦層的隔聲性能,并指出當(dāng)鋼板質(zhì)量較大或者頻率較高時,柔性層對于板本身的減振效果實(shí)際上很小。該結(jié)論的假設(shè)基礎(chǔ)實(shí)質(zhì)上是針對鋼板本身的機(jī)械阻抗較大時的情況,而對于機(jī)械阻抗較小的板在敷設(shè)去耦層后在高頻上的振動特性并沒有給出。Alain[2]等將去耦層等效為彈性元件建立了一邊為空氣、一邊為水的簡支板在敷設(shè)去耦層后的聲輻射特性。他將該模型和三維模型進(jìn)行了比較,指出去耦層的剪切波對板的聲輻射影響較小,因此在去耦材料較軟較輕時,2 種模型在去耦層描述上一致性較好。Laulagnet[3]運(yùn)用三維模型研究了有限圓柱殼在敷設(shè)去耦材料后水下的聲輻射特性,提出:①在敷設(shè)去耦層后圓柱殼的振動在低頻時幾乎沒有變化;②在高頻階段,敷設(shè)去耦層后板的振動存在放大現(xiàn)象。但他的重點(diǎn)在反共振頻率上,并沒有給出具體的機(jī)理性解釋,也未闡明是否敷設(shè)去耦層的有限板也有上述同樣的振動特性。

        本文將去耦層等效為彈性元件推導(dǎo)了一邊為空氣、一邊為水的簡支撐鋼板在敷設(shè)去耦覆蓋層后的運(yùn)動微分方程,并運(yùn)用簡正模態(tài)法推導(dǎo)出敷設(shè)去耦層后板的均方速度及干面均方速度插入損失。在此基礎(chǔ)上,又分別研究了敷設(shè)不同去耦層后板的振動特性變化,以及敷設(shè)去耦層后板在不同激勵頻率段的振動特性。

        1 理論描述

        1.1 物理模型

        取一嵌于無限大障板中的四邊簡支矩形板作為研究對象,矩形簡支板表面均勻敷設(shè)去耦覆蓋層,如圖1所示。障板上方為水,障板下方為空氣。矩形板的物理描述采用了薄板克希霍夫理論(只考慮彎曲運(yùn)動),而在去耦覆蓋層的描述上將其等效為彈性元件(忽略了去耦層的剪切運(yùn)動、彎曲運(yùn)動及拉壓運(yùn)動)。

        圖1 浸入在水中覆蓋去耦層的四端簡支板簡圖Fig.1 Schematic representation of the baffled plate covered with a decoupling layer and immersed in water

        將去耦層等效為彈性元件的假設(shè)基礎(chǔ)是去耦層材料柔軟,厚度方向變形遠(yuǎn)大于其他方向的變形。通過以上假設(shè)可將圖1 中的物理模型簡化為圖2,圖中w1和w2分別為板和去耦層表面的厚度方向位移。

        圖2 簡化物理模型Fig.2 Simplied physical model

        1.2 運(yùn)動方程建立及求解

        基板的運(yùn)動方程寫成頻域形式為

        相比于基板的密度,去耦層密度較小,可以忽略其質(zhì)量,因此去耦層可以等效為無質(zhì)量的彈性元件。此時施加在去耦層表面的聲壓(忽略空氣對基板的聲壓作用),式(1)中的未知量為板厚度上位移和聲壓P(Q)。

        去耦層等效為彈性元件后可進(jìn)一步建立去耦層表面運(yùn)動和施加在去耦層表面聲壓作用的關(guān)系,即

        式中Zc為去耦材料的阻抗。

        重流體中的聲壓控制方程為Helmholtz 方程,即

        式中:M 為流體空間的一點(diǎn);k0為波數(shù),k0=ω/c0,c0為水中的聲速。

        通過聲壓和去耦層表面法向速度的連續(xù)性可得

        利用瑞利積分得出聲壓

        式中:p0為重流體的密度;ηM為板的法向指向重流體;Q 和M 為去耦層表面上的2 點(diǎn);S 為去耦層的表面;G(M,Q)為半空間格林函數(shù),其表達(dá)式為

        G(M,Q)=e-jkR(M,Q)/2πR(M,Q)。

        由式(1)、式(2)和式(4)組成的方程組中仍含有3 個未知數(shù),P(Q)。聯(lián)合式(2)和式(4)化為

        四端簡支邊界條件下為:

        其中,a 和b 分別為板x 方向長度,y 方向?qū)挾取?/p>

        同理,將重流體對去耦層的聲壓用簡正模態(tài)展開為

        簡正模態(tài)分布函數(shù)為

        將上式寫成矩陣形式得

        1.3 均方速度的表達(dá)式

        為了表示板表面振動情況,定義均方速度,均方速度表達(dá)式如下:

        同理,定義干面均方速度插入損失表達(dá)式為

        2 數(shù)值計(jì)算

        取板長為1.2 m,寬為1.2 m,厚為0.009 m,板體密度取7 850 kg/m3,板的楊氏模量E=2.1*1011Pa,損耗因子取0.005;重流體為水 (ρ0=1 000 kg/m3,水中聲速c0=1 460 m/s),去耦層厚度取0.01 m,去耦層楊氏模量E 分別取106,107,108Pa。激勵力采用幅值為1 N 的簡諧點(diǎn)力激勵,激勵位置取坐標(biāo)(0.3,0.3),所取頻率范圍遠(yuǎn)低于板的臨界頻率,均方速度參考值為1 m2/s2(dB,re:1 m2/s2)。

        將板厚度上的位移和聲壓按簡正模態(tài)展開的收斂性需進(jìn)一步研究。圖3 給出了均方速度在取不同階模態(tài)情況下的收斂性??梢钥闯?,在最高階模態(tài)取15 和20 時,其均方速度趨于一致,說明在最高模態(tài)數(shù)大于15 時均方速度的收斂性越好。因此所取最高模態(tài)數(shù)至少為15 數(shù)值計(jì)算才能有較好的收斂性,為保證精度在下面的數(shù)值計(jì)算中最高階模態(tài)取20。

        圖3 覆蓋去耦層后板的均方速度在取不同階模態(tài)情況下的收斂性(E=108Pa,ηC=0)Fig.3 Covergence of the mean square velocity of the covered plate at different modal (E=108Pa,ηC=0)

        1)未敷設(shè)去耦層的板和敷設(shè)去耦層的板均方速度的比較

        圖4 ~圖6 分別給出了去耦層楊氏模量E 取不同值時敷設(shè)去耦層后與未敷設(shè)去耦層的基板均方速度比較。在低頻段f <500 Hz 時,敷設(shè)去耦層后板的均方速度和未敷設(shè)去耦層的板的均方速度相差均很小;在高頻段 (見圖4 和圖5)f >3 000 Hz 時,板的均方速度在敷設(shè)后相對未敷設(shè)前有明顯的放大現(xiàn)象,并且即使在圖6 楊氏模量較大(E=108Pa,ηC=0),f >4 000 Hz 時,仍存在放大現(xiàn)象。圖6 也比較了去耦層不同損耗因子下敷設(shè)去耦層后板的均方速度。可以看出,隨著損耗因子的增大,敷設(shè)去耦層后板的均方速度明顯減小,放大現(xiàn)象減弱,這主要是由于板的振動能在去耦層高損耗因子下轉(zhuǎn)化為內(nèi)能的部分較多。

        圖4 未敷設(shè)去耦層板和敷設(shè)去耦層板的均方速度比較Fig.4 Comparison of mean square velocity Between plate uncovered and covered

        2)敷設(shè)去耦層的板和真空中板均方速度的比較

        圖7 ~圖9 分別給出了去耦層取不同楊氏模量時敷設(shè)去耦層后板與真空中板的均方速度之比。從圖7 和圖8 可以看出,在去耦層楊氏模量較小時,敷設(shè)去耦層后板的均方速度逼近與真空中板的均方速度,比較圖7 和圖8 可以發(fā)現(xiàn),在較大楊氏模量下,逼近真空的現(xiàn)象在更高頻才能出現(xiàn);而在圖9中E=108Pa 時,由于截取頻率上限較小,沒有出現(xiàn)逼近真空的現(xiàn)象。

        圖7 真空中板和敷設(shè)去耦層板的均方速度比較Fig.7 Comparison of mean square velocity Between plate in vacuo and covered

        3 板的振動放大現(xiàn)象

        數(shù)值計(jì)算給出的均方速度是各階模態(tài)加權(quán)所得結(jié)果,單從數(shù)值計(jì)算中無法解釋不同頻率段敷設(shè)去耦層后板的位移相應(yīng)的變化,因?yàn)辄c(diǎn)激勵下不同頻率段,所激勵出的模態(tài)是不一樣的,并且模態(tài)間的耦合系數(shù)也不一樣,因此需從單模態(tài)下進(jìn)行研究。不失一般性取板的(m,n)階模態(tài)。根據(jù)上文的干面均方速度插入損失的定義,推得單模態(tài)下干面均方速度插入損失為

        討論去耦層在取不同阻抗下的干面均方速度插入損失:

        1)當(dāng)Zc很大→∞時,可以看出

        干面均方速度插入損失式(13)→0,說明在去耦層阻抗極大時,敷設(shè)了去耦層后的板單模態(tài)振動既不減小也不放大。由于(m,n)階模態(tài)的任意給定性便可推斷出任意模態(tài)在去耦層阻抗極高的情況下都符合以上結(jié)論,因此可以推斷出在去耦層阻抗極大時,去耦層對板的振動既不放大也沒有相應(yīng)的減小作用。由于本文所采用的假設(shè)基礎(chǔ)是去耦材料較軟,因此這里Zc很大實(shí)際上指的是去耦層厚度很薄時。

        2)當(dāng)Zc很小→0 時,可以看出

        式(13)可以化為

        由式(14)可以得出在去耦層阻抗極小的情況下,敷設(shè)去耦層板的單模態(tài)均方速度逼近于真空中板的均方速度。由于(m,n)階模態(tài)的任意給定性,可將上述結(jié)論推廣至任意模態(tài)下,即去耦層阻抗極小時板的振動趨向于真空中的振動。

        3)當(dāng)Zc為有限值域時,需考慮頻率的影響,因?yàn)镃 與模態(tài)耦合系數(shù)Zmnpq相關(guān),在不同頻率上Zmnpq的性質(zhì)是不一樣的。

        根據(jù)文獻(xiàn)[13]的結(jié)論,在低頻k0* a <<1 時,自耦合系數(shù)Zmnmn的實(shí)部和虛部都很小,同樣對于互耦合系數(shù)的實(shí)部虛部也是這樣,因此可在低頻有如下極限:C/Zc→0,插入損失就趨向于0,即在k0* a<<1 時,去耦層對板的單模態(tài)幾乎沒有任何影響。推廣到任意模態(tài),可得出在低頻k0* a <<1 情況下,去耦層對板的振動幾乎沒有任何影響。

        在高頻k0* a >>1 時,根據(jù)文獻(xiàn)[13]阻抗耦合系數(shù)的極限性質(zhì)可知:①自耦合系數(shù)Zmnmn的實(shí)部趨向于ρ0c0,虛部趨向于0;②互耦合系數(shù)實(shí)部與虛部都趨向于0。這樣對于單模態(tài)下C 就可以化簡為

        進(jìn)一步化簡式(13),可得

        根據(jù)數(shù)學(xué)不等式性質(zhì)得:

        即在高頻u=k0* a >>1 時,當(dāng)頻率等于真空中的模態(tài)頻率時干面均方速度損失最大。由于在高頻上總存在式(15)大于0,即干面均方速度損失大于0,這說明在高頻總存在敷設(shè)去耦層后板振動的放大現(xiàn)象。當(dāng)不在真空中的模態(tài)頻率時,A≠0,高頻時忽略掉,式(16)可進(jìn)一步化簡為

        式(17)實(shí)際上是高頻時真空中板的均方與重流體作用板的均方速度之比,該式說明了在高頻去耦效果好,使板與重流體間的耦合作用越來越弱,因此敷設(shè)去耦層板的振動在高頻階段逼近于真空中板的振動。所以可以得出在Zc有限值時高頻階段(k0* a >>1 )敷設(shè)去耦層板的振動總有趨向于真空中板的振動趨勢。因此在高頻上敷設(shè)去耦層的板在高頻階段相對未敷設(shè)的板振動是放大的。

        4 結(jié) 語

        1)將去耦層等效為彈性元件簡化了去耦層的描述,應(yīng)用簡正模態(tài)法推導(dǎo)出敷設(shè)去耦層后板的均方速度,并分析了Zc在不同情況下的干面均方速度插入損失:在Zc極大時,去耦層對板的振動沒有放大或減小作用;在Zc極小時,重流體作用下敷設(shè)去耦層板的振動等效于真空中的振動。數(shù)值計(jì)算表面在有限值時,也有上述趨勢,隨著Zc的增大,去耦層對板振動影響程度越來越小;隨著Zc的減小,板的振動逐漸逼近于真空中板的振動。

        2)在Zc有限值時,低頻時k0* a <<1,由于流固耦合現(xiàn)象較弱和去耦層效率較低的原因,去耦層對板的振動幾乎沒有任何影響;高頻時k0* a >>1,去耦層去耦效率的提高使板與重流體間的流固耦合作用越來越弱,隨著頻率增大板的振動逐漸逼近于真空中板的振動,因此敷設(shè)去耦層的板在高頻階段相對未敷設(shè)的板振動是放大的。隨著去耦層阻尼損耗因子的增加,放大現(xiàn)象減弱。

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