王 暢,楊 娜,杜 軍,王樂新,張 平
(1.黑龍江八一農(nóng)墾大學(xué) 理學(xué)院,黑龍江 大慶 163319; 2.黑龍江工程學(xué)院 電氣與信息工程學(xué)院,黑龍江 哈爾濱150050; 3.哈爾濱工業(yè)大學(xué) 航天學(xué)院,黑龍江 哈爾濱 150006)
自從1987年Yablonovitch E[1]提出光子晶體的概念后,在光學(xué)和光電子領(lǐng)域,有關(guān)光子晶體研究成為活躍的課題[2].光子晶體是晶胞在一維、二維或者三維空間中的周期排布[3],與電子在晶體中的行為相似,電磁場在光子晶體中的傳播也滿足布洛赫條件[4].因此,光子晶體最本質(zhì)的特性是光子禁帶(禁帶)的存在[5].不同于布拉格禁帶,禁帶的特點(diǎn)是不依賴于入射光角度、偏振和光子晶體的晶格尺度等;已經(jīng)發(fā)現(xiàn)基于禁帶的光量子阱共振隧穿模在不同入射角度、偏振和厚度下幾乎不發(fā)生任何變化.這些特點(diǎn)對于設(shè)計(jì)多通道濾波器很有益處[6-8].
利用光子禁帶,可以很方便地控制光子流或電磁波流,而且利用表面波、共振腔和布魯斯特模,光子晶體能夠成功地控制熱吸收和熱輻射.與此同時(shí),越來越多的人工超結(jié)構(gòu)材料被設(shè)計(jì)出來且被應(yīng)用于控制熱輻射[9].如果將具有負(fù)折射率的材料當(dāng)做缺陷加入到光子晶體中,使得光子晶體在帶隙中出現(xiàn)缺陷模[10],將出現(xiàn)新奇的物理現(xiàn)象.
筆者在理論上提出一種簡單的光子晶體缺陷模結(jié)構(gòu),即利用由含負(fù)折射率介質(zhì)構(gòu)成的一維光子晶體的缺陷模產(chǎn)生相干熱輻射,分析輻射源的熱輻射特性.
含負(fù)折射率光子晶體缺陷模的熱輻射源模型見圖1.光子晶體中的缺陷層選擇正折射率介質(zhì),在缺陷層前面和后面的光子晶體周期數(shù)分別為m和n;選擇SiC作為基底.
在含有負(fù)折射率的光子晶體中,相對介電常數(shù)εeff和相對磁導(dǎo)率μeff[11-12]可以描述為
式中:ωep為有效電場等離子頻率;ωmp為有效磁場等離子頻率;a、b為由結(jié)構(gòu)決定的常數(shù).入射角θ=0°時(shí)的禁帶缺陷模的反射譜見圖2,其中虛線為無缺陷時(shí)的反射譜,實(shí)線為有缺陷時(shí)的反射譜.由圖2可以看出,加入缺陷層后禁帶中出現(xiàn)一條較窄且較尖銳的低谷,即缺陷模光波.
在中紅外光譜區(qū),SiC是一種理想的相干熱輻射材料,其光學(xué)常數(shù)(即折射率ns和消光系數(shù)κs)可以從εs的表達(dá)式[13]求出:
式中:ν為波數(shù),ν=1/λ,λ為真空波長;ε∞為高頻常數(shù);νLO為縱向光學(xué)(LO)支聲子頻率;νTO為橫向光學(xué)頻率(TO)支聲子頻率;Γ為阻尼系數(shù).
SiC光學(xué)常數(shù)與波長的關(guān)系見圖3,其中實(shí)線表示折射率的實(shí)部,點(diǎn)劃線表示折射率的虛部.由圖3可以看出,10.32~12.61μm范圍是SiC的吸收帶,在吸收帶內(nèi)κs比ns大得多,說明吸收帶不隨入射角度和偏振發(fā)生變化.只有當(dāng)光波落入SiC的吸收帶,才會(huì)被SiC吸收,根據(jù)基爾霍夫定律,缺陷模光波經(jīng)過SiC吸收層幾乎被全部吸收,在缺陷模的波長處產(chǎn)生熱輻射,并且具有很好的相干性.
選擇SiC吸收層的厚度dc=10μm,入射角θ=0°時(shí)缺陷模的輻射譜見圖4.當(dāng)θ=0°時(shí),TE模和TM模的輻射峰的位置均為λpeak=12.038 0μm,峰值強(qiáng)度均為Epeak=0.976 1,半波寬度均為Δλ=0.013 3μm,品質(zhì)因子均為Q=λ/Δλ≈905.112 8.這說明缺陷模的波長幾乎不受偏振的影響,并且具有較好的時(shí)間相干性.
不同偏振下的缺陷模熱輻射角的空間分布結(jié)果見圖5.由圖5可以看出,缺陷模產(chǎn)生的相干熱輻射具有很好的空間相干性.
在入射角θ=10°,30°,50°,70°時(shí)缺陷模的熱輻射譜見圖6.由圖6可以看出,不同入射角時(shí)缺陷模熱輻射的時(shí)間相干性較好,并且入射角的變化對熱輻射的相干性影響較小.TM模熱輻射強(qiáng)度變化稍微明顯,TE模熱輻射的強(qiáng)度變化不明顯.
入射角θ=30°時(shí)缺陷模熱輻射譜隨晶格尺度縮放因子變化關(guān)系見圖7.由圖7可以看出,光子晶體的晶格尺度縮放因子對熱輻射的時(shí)間相干性、強(qiáng)度和位置影響較小,但可以適當(dāng)改變縮放因子增加輻射強(qiáng)度及輻射的相干性.
入射角θ=30°時(shí)缺陷模熱輻射譜隨缺陷層厚度的變化關(guān)系見圖8.由圖8可以看出,隨著缺陷層厚度的增加,熱輻射向短波方向移動(dòng),缺陷層的尺度縮放因子對熱輻射的強(qiáng)度和位置影響不大,但適當(dāng)?shù)母淖內(nèi)毕輰雍穸瓤梢蕴岣邿彷椛涞膹?qiáng)度.
利用含負(fù)折射率光子晶體缺陷模產(chǎn)生熱輻射.在整個(gè)輻射譜中,對于確定的輻射角只存在單一的輻射峰,其波長等于輻射源中光子晶體缺陷模波長.缺陷模的熱輻射具有較好的時(shí)間相干性和空間相干性,入射角的變化對熱輻射的相干性影響較小,光子晶體的晶格尺度縮放因子和缺陷層厚度對熱輻射強(qiáng)度和位置影響較小,但適當(dāng)調(diào)節(jié)光子晶體的晶格尺度縮放因子和缺陷層厚度,能夠增強(qiáng)熱輻射的相干性.輻射峰的品質(zhì)因子比普通材料的要高很多,可以用來設(shè)計(jì)熱輻射天線等裝置.
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