馬春燕,陳春光,陳學(xué)璽
(1.青島科技大學(xué)化工學(xué)院,山東 青島266042;2.黃海出入境檢驗(yàn)檢疫局,山東 青島266042)
鹽酸頭孢唑蘭是第四代注射用頭孢菌素,于1995年6月在日本批準(zhǔn)上市,日本已將其作為外感染初期的首選藥物。鹽酸頭孢唑蘭對(duì)包括葡萄球菌在內(nèi)的革蘭氏陽(yáng)性菌以及包括綠膿桿菌在內(nèi)的革蘭氏陰性菌均具有抗菌作用[1],目前國(guó)內(nèi)還處于研發(fā)階段[2-4]。
合成頭孢唑蘭及其它第四代頭孢菌素的必需中間體為(Z)-2-(5-氨基-1,2,4-噻二唑-3-基)-2-甲氧亞氨基乙酸-S-苯并噻唑硫酯[5],它是以(Z)-2-(5-氨基-1,2,4-噻二唑-3-基)-2-甲氧亞氨基乙酸和二硫化二苯并噻唑?yàn)樵?,通過(guò)氧化還原反應(yīng)制得。3-氨基-5-甲氧基異口惡唑是合成(Z)-2-(5-氨基-1,2,4-噻二唑-3-基)-2-甲氧亞氨基乙酸的重要中間體[6,7],研究其合成工藝對(duì)頭孢唑蘭抗生素的合成具有十分重要的意義。
作者在此以3,3,3-三甲氧基丙腈為原料,通過(guò)兩步反應(yīng)合成了3-氨基-5-甲氧基異口惡唑,優(yōu)化了工藝條件,并通過(guò)核磁共振氫譜等手段對(duì)其結(jié)構(gòu)進(jìn)行了表征。
合成路線如圖1所示。
圖1 3-氨基-5-甲氧基異口惡唑的合成路線Fig.1 Synthetic route of 3-amino-5-methoxyisoxazole
羥胺、NaOH的反應(yīng)液中,反應(yīng)完畢后,過(guò)濾分離出無(wú)機(jī)沉淀物,濃縮、萃取、結(jié)晶,得到3-氨基-5-甲氧基異唑。
鹽酸羥胺、氫氧化鈉、正己烷、乙酸乙酯,天津博迪化工股份有限公司;甲醇,萊陽(yáng)經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)精細(xì)化工廠。所用試劑均為分析純。
將3,3,3-三甲氧基丙腈脫去1分子甲醇,得到3,3-二甲氧基丙烯腈。
將3,3-二甲氧基丙烯腈溶解在甲醇中,加至鹽酸
2.1.1 氧氣對(duì)3,3-二甲氧基丙烯腈合成的影響
進(jìn)行3組平行實(shí)驗(yàn),取等量的3,3,3-三甲氧基丙腈分別放入3個(gè)圓底燒瓶中,第一組用氮?dú)庵脫Q3次(完全隔氧),第二組用氮?dú)庵脫Q1次(半隔氧),第三組不做任何置換(未隔氧)??疾煅鯕鈱?duì)3,3-二甲氧基丙烯腈合成的影響,結(jié)果見(jiàn)表1。
表1 氧氣對(duì)3,3-二甲氧基丙烯腈合成的影響Tab.1 Effect of oxygen on synthesis of 3,3-dimethoxyacrylonitrile
由表1可以看出,氮?dú)庵脫Q3次后(完全隔氧)所得產(chǎn)品顏色較淺、純度和收率最高。因此,3,3,3-三甲氧基丙腈在222~225℃脫甲醇時(shí)要進(jìn)行完全隔氧操作。
2.1.2 攪拌時(shí)間對(duì)3,3-二甲氧基丙烯腈合成的影響稱取4份等量的糖漿狀3,3,3-三甲氧基丙腈于圓底燒瓶中,于222~225℃完全隔氧條件下分別攪拌5 min、7min、9min、11min、13min,用泊松色譜(展開(kāi)劑為甲醇∶己烷=1∶20)檢測(cè)反應(yīng)情況,結(jié)果見(jiàn)圖2。
圖2 攪拌時(shí)間對(duì)3,3-二甲氧基丙烯腈合成的影響Fig.2 Effect of stirring time on synthesis of 3,3-dimethoxyacrylonitrile
實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn),攪拌7min后,原料才能消耗完畢,且隨著攪拌時(shí)間的延長(zhǎng)反應(yīng)物顏色逐漸加深。
由圖2可以看出,隨著攪拌時(shí)間的延長(zhǎng),3,3-二甲氧基丙烯腈的收率和純度均先升高后降低,在7~9 min時(shí)達(dá)到最高。因此,選擇攪拌時(shí)間為7~9min。
2.1.3 光照對(duì)3-氨基-5-甲氧基異口惡唑合成的影響
進(jìn)行3組平行實(shí)驗(yàn):第一組完全避光處理,第二組半避光處理,第三組不做任何避光處理,考察光照對(duì)3-氨基-5-甲氧基異口惡唑合成的影響,結(jié)果見(jiàn)表2。
由表2可以看出,完全避光組的純度和收率高于未避光組和半避光組。這是因?yàn)?,氨基在某些特殊分子結(jié)構(gòu)中遇光分解,從而造成了產(chǎn)品損失。因此,由3,3-二甲氧基丙烯腈合成3-氨基-5-甲氧基異口惡唑時(shí)應(yīng)進(jìn)行避光處理。
表2 光照對(duì)3-氨基-5-甲氧基異口惡唑合成的影響Tab.2 Effect of light on synthesis of 3-amino-5-methoxyisoxazole
2.1.4 氧氣對(duì)3-氨基-5-甲氧基異口惡唑合成的影響
進(jìn)行3組平行實(shí)驗(yàn):第一組用氮?dú)庵脫Q3次(完全隔氧),第二組用氮?dú)庵脫Q1次(半隔氧),第三組不進(jìn)行氮?dú)庵脫Q(未隔氧),考察氧氣對(duì)3-氨基-5-甲氧基異口惡唑合成的影響,結(jié)果見(jiàn)表3。
表3 氧氣對(duì)3-氨基-5-甲氧基異口惡唑合成的影響Tab.3 Effect of oxygen on synthesis of 3-amino-5-methoxyisoxazole
由表3可以看出,完全隔氧組和半隔氧組所得產(chǎn)品顏色較淺,容易萃取,純度和收率均高于未隔氧組。因此,3-氨基-5-甲氧基異口惡唑合成過(guò)程中應(yīng)進(jìn)行隔氧操作。
2.2.1 熔點(diǎn)
用熔點(diǎn)儀測(cè)得產(chǎn)品熔點(diǎn)為81~82℃,與3-氨基-5-甲氧基異口惡唑的熔點(diǎn)相符,可以初步斷定產(chǎn)物為3-氨基-5-甲氧基異口惡唑。
2.2.2 核磁共振氫譜分析
用核磁共振氫譜分析產(chǎn)物結(jié)構(gòu)時(shí)發(fā)現(xiàn),在相同的溶劑下,-O-CH3和-NH2的出峰位置相同。因此,設(shè)計(jì)兩組實(shí)驗(yàn)以進(jìn)一步表征產(chǎn)物的結(jié)構(gòu):第一組,檢測(cè)溶劑為CDCl3和重水的混合物,目的是掩蓋-NH2,以證實(shí)-C-H和-O-CH3的存在;第二組,檢測(cè)溶劑為CDCl3,目的是在第一組測(cè)定的基礎(chǔ)上證實(shí)-NH2的存在。結(jié)果如圖3所示。
由圖3a可以看出,1HNMR(CDCl3+D2O),δ:3.931(3H,s,OMe),4.832(1H,s,H-4)?;瘜W(xué)位移在3.931ppm處的單峰由一個(gè)甲氧基上的3個(gè)質(zhì)子產(chǎn)生,4.832ppm處的單峰由連接一個(gè)雙鍵碳和一個(gè)單鍵碳上的1個(gè)質(zhì)子產(chǎn)生,表明了產(chǎn)物中C-H和-O-CH3的存在。
由圖3b可以看出,1HNMR(CDCl3),δ:3.928~3.949(5H,s,OMe),4.826(1H,s,H-4)。結(jié)合圖3a可知,化學(xué)位移在3.928~3.949ppm處的峰由一個(gè)甲氧基上的3個(gè)質(zhì)子和-NH2上的2個(gè)質(zhì)子產(chǎn)生,4.826ppm處的單峰由連接一個(gè)雙鍵碳和一個(gè)單鍵碳上的1個(gè)質(zhì)子產(chǎn)生,表明了產(chǎn)物中C-H、-O-CH3和-NH2的存在,這正是3-氨基-5-甲氧基異口惡唑所具有的特征。結(jié)合產(chǎn)品的熔點(diǎn),證實(shí)了產(chǎn)物結(jié)構(gòu)與預(yù)期相符。
圖3 3-氨基-5-甲氧基異口惡唑的核磁共振氫譜Fig.3 1 HNMR Spectra of 3-amino-5-methoxyisoxazole
以3,3,3-三甲氧基丙腈為原料,通過(guò)兩步反應(yīng)合成了3-氨基-5-甲氧基異口惡唑,通過(guò)單因素實(shí)驗(yàn)確定3,3-二甲氧基丙烯腈的最佳合成條件為:在222~225℃下完全隔氧攪拌7~9min脫甲醇,在此條件下3,3-二甲氧基丙烯腈收率為70.05%,純度為98.59%;3-氨基-5-甲氧基異口惡唑的最佳合成條件為:45℃下避光隔氧攪拌3h和60℃下避光隔氧攪拌3.5h,在此條件下目標(biāo)產(chǎn)物收率達(dá)79.35%,純度達(dá)98.91%。
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