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        300mm立式爐恒溫區(qū)測量系統(tǒng)的設計與實現(xiàn)

        2012-09-16 13:23:00艾,徐
        電子工業(yè)專用設備 2012年3期
        關鍵詞:熱電偶恒溫原點

        王 艾,徐 冬

        (北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司集成電路工藝設備研發(fā)中心,北京 101312)

        立式爐是300mm集成電路制造的重要工藝設備,適用于集成電路制造過程中氧化、退火、薄膜生長等工藝。立式爐的工作溫度一般為數(shù)百攝氏度至上千攝氏度。在工藝過程中,立式爐需形成一定溫度范圍內穩(wěn)定可控的恒溫區(qū),要求滿足均勻性,以及快速響應要求,并對建立的恒溫區(qū)的長度也有一定的要求,用以保證硅片的工藝質量[1]。

        本文描述了針對300mm立式爐設備的應用需求,設計了一整套恒溫區(qū)測量的軟硬件系統(tǒng),現(xiàn)場的使用情況表明,該系統(tǒng)具有運行可靠、使用方便的特點,系統(tǒng)采集到的實驗數(shù)據(jù)可用于加熱器恒溫區(qū)的分析,改進加熱器設計,以獲得更均勻、穩(wěn)定的熱場。

        1 硬件控制系統(tǒng)設計

        北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司現(xiàn)有的300mm氧化爐設備,采用單反應室結構,爐體加熱絲包覆的范圍劃分為多個區(qū)段(Zone A,B,C,D……),各區(qū)段有獨立的功率輸出單元以控制溫度。爐體配置有兩組熱電偶用于提供每一區(qū)段的溫度信息,一組位于石英管內稱之為“Profile”熱電偶,其測得的溫度較接近硅片本身的溫度;另一組則靠近加熱絲稱為“Spike”熱電偶,其測得的溫度較接近加熱絲本身的溫度[2]。整套系統(tǒng)如圖1所示。

        依據(jù)此設備結構,設計了恒溫區(qū)測量裝置用于檢測該立式爐反應室的恒溫區(qū),該測量裝置是在正常工藝過程之前使用的,它的主要目的:(1)驗證恒溫區(qū)是否滿足要求——溫度誤差(恒溫區(qū)的溫度誤差不超過指定誤差范圍)和恒溫區(qū)的長度;(2)確定恒溫區(qū)的位置,實現(xiàn)通過調節(jié)Dummy片的位置,以調整舟上生產(chǎn)片的分布,保證工藝質量。

        恒溫區(qū)測量裝置的硬件結構如圖2所示,主要包括工控機IPC,PLC,電動機,測溫TC(熱電偶)。因為PLC具有安全性高、可靠性好的特點,本系統(tǒng)選用PLC實現(xiàn)運動控制和溫度采集。上位機使用抗干擾性強的工控機IPC,和PLC之間采用以太網(wǎng)連接方式通訊,由軟件人機界面實現(xiàn)操作功能。

        圖1 立式爐溫度控制示意圖

        圖2 恒溫區(qū)測量裝置的硬件結構

        2 軟件控制系統(tǒng)設計

        2.1 控制功能

        本系統(tǒng)采用自動方式,進行恒溫區(qū)測量,可實現(xiàn)3種熱電偶運動控制模式,顯示熱電偶當前的狀態(tài)——運動速度、位置、溫度,還可保存溫度、位置等數(shù)據(jù)。

        為了靈活實現(xiàn)反應室內任一溫度點的測量,本系統(tǒng)提供了3種熱電偶運動模式:連續(xù)模式、間斷模式、單步模式。

        (1)連續(xù)模式——熱電偶從原點開始一直運動,直到走完指定行程(設定的距離),中間不暫停等待穩(wěn)定,運動速度為100mm/min(上位機可設置速度);

        (2)間斷模式——熱電偶的運動速度為100mm/min(上位機可設置速度),熱偶運動10mm后,停下來,等待30s后(下位機用定時器設置等待時間),再繼續(xù)運動10mm,再靜止,按照這種間歇方式運動,直至走完指定行程(設定的距離);

        農(nóng)田水利建設的資金需求的滿足,無論是項目也好,還是企業(yè)也好,都和一般的貸款有一個區(qū)別,就是它的安全性、流動性和引領性相對都要差一些。也就是說,用我們的行話來說,它的抵押擔保物的安全可靠程度要差一些。同時,還款的來源也沒有一般工商企業(yè)等那么充沛、那么穩(wěn)定、那么持續(xù)。所以,對農(nóng)田水利建設的貸款投入需要監(jiān)管部門給予特殊的制度安排,予以支持。我在這里介紹一下銀監(jiān)會是如何按照黨中央、國務院的要求,對農(nóng)田水利建設方面的貸款支持出臺了哪些政策。

        (3)單步模式——熱電偶按照設定的速度一直運動,直至走完設定的距離(設定的距離是相對于當前位置);而前兩種模式(1)和(2)設定的距離是絕對模式,設定的距離是相對于原位而言。單步模式可以靈活實現(xiàn)熱偶的前進和回退運動,能根據(jù)需要測量反應室內任一點的溫度。

        2.2 下位機程序設計

        軟件控制系統(tǒng)由下位機程序和上位機程序組成。下位機主要實現(xiàn)熱電偶的運動控制和熱電偶的溫度信號采集,主要是通過PLC梯形圖程序實現(xiàn),包括以下功能程序塊:

        (1)讀狀態(tài):讀取運動控制模塊內的狀態(tài),包括目標位置,當前位置,當前速度,限位的狀態(tài)(開關量輸入點狀態(tài)),錯誤狀態(tài),報警狀態(tài),搜索原點狀態(tài)等。

        (2)參數(shù)設定:設置運動控制模塊的登陸參數(shù),包括設置脈沖輸出模式,旋轉方向,限位輸入極性等。

        (3)錯誤復位:解除位置模塊的異常狀態(tài)。

        (4)立即停機:對定位操作中、原點搜索中等處于運行狀態(tài)的電動機不減速而是要求立即停機。當設備出現(xiàn)故障時,可通過該程序緊急停機。

        (5)原點搜索:根據(jù)原點搜索程序執(zhí)行找原點操作,程序能根據(jù)原點搜索要求開始原點搜索,再通過設定的外部接點輸入結束原點搜索。

        (6)點對點的定位運動:根據(jù)設定的目標位置,執(zhí)行定位操作。前述提及的3種熱電偶運動模式:連續(xù)模式、間斷模式、單步模式,均屬于PTP(Point to point Move)定位運動。

        (7)溫度采樣程序:根據(jù)設定的輸入采樣周期、輸入種類,讀出儀表內的測量值。

        2.3 上位機程序設計

        上位機程序采用Visual Studio 2005C#進行程序開發(fā),生成的用戶操作界面如圖3所示。該界面可使用戶方便地操作恒溫區(qū)測量裝置的3種運動模式和回原點操作,顯示熱電偶當前的狀態(tài),復位故障,還可讀取、保存溫度、位置等數(shù)據(jù)。

        圖3 用戶操作界面

        上位機是通過以太網(wǎng)與PLC的CPU模塊建立連接,它們之間的通訊是基于Socket連接,程序流程圖如圖4所示,完成以下功能:

        (1)開始程序運行,啟動主線程,完成網(wǎng)絡IP地址、端口的配置,成功的建立IPC與PLC的Socket連接,運動控制模塊參數(shù)的初始化,生成圖形界面,等待下一步操作輸入;

        (2)若PLC上電之初,熱電偶不處于原位,應先進行回原位操作(可根據(jù)界面上的提示信息決定是否執(zhí)行該操作);

        (3)根據(jù)輸入指令,啟動數(shù)據(jù)的采集、保存;使用Microsoft Access數(shù)據(jù)庫進行數(shù)據(jù)保存,保存熱電偶運動的位置和采集的溫度;

        (4)根據(jù)選擇的運動模式,設定定位距離、運動速度等,啟動所選擇的運動模式;

        (5)根據(jù)輸入指令,結束數(shù)據(jù)的采集、保存;

        (6)根據(jù)指令要求在完成恒溫區(qū)測量操作后,安全退出程序。

        圖4 程序流程圖

        3 實驗數(shù)據(jù)分析

        恒溫區(qū)測量實驗是在爐體的多段溫區(qū)控溫溫度均為900℃穩(wěn)定條件下進行的,測量裝置采用間斷運動模式走完指定行程1112mm,根據(jù)保存的數(shù)據(jù),繪制了爐體的恒溫區(qū)示意圖,如圖5所示,其中橫坐標為熱偶的位置,縱坐標為熱偶的溫度。圖5中可清楚的看到,系統(tǒng)熱場在未進行熱偶補償?shù)那闆r下,恒溫區(qū)在1℃的誤差范圍內長度大于1000mm,所建立恒溫區(qū)滿足工藝要求。

        圖5 恒溫區(qū)測量結果

        4 結 論

        針對300mm立式爐設備的應用,自主設計了一整套恒溫區(qū)測量的軟硬件系統(tǒng),可實現(xiàn)熱電偶的3種運動模式,顯示熱電偶當前的狀態(tài),讀取、保存溫度、位置等數(shù)據(jù)。該系統(tǒng)目前已在我公司研制的300mm氧化爐設備上成功使用,能滿足立式爐設備測量恒溫區(qū)的需求,具有運行可靠、使用方便的特點。

        [1]徐 冬,程朝陽,陳 亞,等.300mm立式爐溫度控制系統(tǒng)研制[J],電子工業(yè)專用設備,2010(4):24-28.

        [2]李彥斌.應用MBTC溫控系統(tǒng)實現(xiàn)對擴散爐的先進工藝要求[J],電子工業(yè)專用設備,2004(3):60-63.

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