胡 進(jìn),盧會(huì)湘,程 凱
(中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第五十五研究所,南京 210016)
外殼對(duì)于電路而言,在起到機(jī)械支撐和環(huán)境保護(hù)作用的同時(shí),需要將輸入/輸出信號(hào)和電源/地通過(guò)封裝上的引線實(shí)現(xiàn)芯片與外部電子系統(tǒng)的互連。這種作用在微波高頻外殼上得到了較為充分的體現(xiàn),微波高頻外殼的設(shè)計(jì)與工藝往往影響著被封裝系統(tǒng)的微波性能,例如駐波比、插入損耗、隔離度等。微波高頻外殼的可靠性也直接影響到整個(gè)封裝系統(tǒng)的可靠性。
微波高頻外殼的結(jié)構(gòu)樣式有很多種,但是以金屬-陶瓷外殼和金屬-玻璃外殼較為常見(jiàn),本文章以金屬-陶瓷外殼為例進(jìn)行說(shuō)明。如圖1所示為某型號(hào)金屬-陶瓷外殼的示意圖。
圖1 某型號(hào)金屬-陶瓷外殼
為滿足器件對(duì)封裝外殼的要求,我們?cè)谕鈿ぴO(shè)計(jì)時(shí)必須考慮通過(guò)設(shè)計(jì)外殼微波帶線使其特性阻抗等于單片的特性阻抗Z0,從而達(dá)到阻抗匹配之目的,以保證封裝外殼上插入損耗最小,駐波比最低。
對(duì)于工程應(yīng)用中,一般希望外殼內(nèi)的連接部分是在工作頻段內(nèi)成50 Ω的阻抗匹配,實(shí)現(xiàn)信號(hào)的最大化傳輸,并且在固態(tài)電路中,由于會(huì)應(yīng)用到很多的外殼封裝的模塊電路,管腿為50 Ω阻抗的模塊電路更利于模塊間的級(jí)聯(lián),減少了由于匹配不當(dāng)而產(chǎn)生的自激或是信號(hào)損耗等現(xiàn)象。如圖2所示為某型號(hào)金屬-陶瓷外殼陶瓷零件的示意圖。
圖2 陶瓷零件示意圖
根據(jù)陶瓷零件的相關(guān)指標(biāo)值,例如陶瓷材料的介電常數(shù)、上下陶瓷材料的厚度、微帶線傳輸面的長(zhǎng)與寬等。按照“啞鈴”參考形狀對(duì)傳輸線的圖形進(jìn)行精細(xì)的設(shè)計(jì),圖3為陶瓷零件傳輸線圖形的示意圖。
最終傳輸線圖形的確定,要通過(guò)進(jìn)一步的修調(diào)-模擬仿真計(jì)算-修調(diào)-再模擬仿真計(jì)算,直到滿足50 Ω特性阻抗的設(shè)計(jì)要求,圖4為陶瓷零件的微波特性。根據(jù)以往的研制經(jīng)驗(yàn),圖形中寬度方向尺寸由大到小變化時(shí)的緩急是一個(gè)非常重要的影響因素,尺寸變化過(guò)急是不可取的。當(dāng)然,即使完成了這樣的設(shè)計(jì)工作,陶瓷材料本身的介質(zhì)損耗也是非常重要的因素。通常由于黑瓷(Al2O3)材料中添加了多種金屬氧化物用于著色,因此也帶來(lái)一些負(fù)面影響,例如其中的二氧化鈦會(huì)導(dǎo)致黑瓷(Al2O3)材料的介質(zhì)損耗要明顯大于白瓷(Al2O3),這也是絕大多數(shù)微波高頻外殼采用白色氧化鋁陶瓷研制微波陶瓷零件的重要原因。
圖3 傳輸圖形
圖4 陶瓷零件的微波特性
微波設(shè)計(jì)可用計(jì)算機(jī)進(jìn)行模擬設(shè)計(jì),但是理論設(shè)計(jì)與工藝實(shí)現(xiàn)的誤差往往不可忽視。
在陶瓷零件的實(shí)際制作工藝中,影響微波特性的因素主要有這樣幾點(diǎn)。
2.1.1 陶瓷零件尺寸對(duì)微波性能的影響
陶瓷零件的尺寸對(duì)微波特性會(huì)產(chǎn)生一定的影響,尤其是陶瓷零件上、下片的厚度,盡管出現(xiàn)細(xì)微的誤差是難免的,但厚度的尺寸值不能和設(shè)計(jì)值相差太大,否則難以實(shí)現(xiàn)理論計(jì)算的50 Ω阻抗值。要嚴(yán)格控制這個(gè)尺寸必須在生瓷帶制備(流延)工藝過(guò)程中加強(qiáng)控制,其他一些工序工藝也是要重點(diǎn)關(guān)注的,例如層壓和燒結(jié)等工藝過(guò)程中對(duì)陶瓷零件尺寸的控制。
2.1.2 生瓷印刷對(duì)微波性能的影響
印刷工藝對(duì)陶瓷零件微波特性的影響是顯而易見(jiàn)的,印刷精度的高低在很大程度上決定了傳輸線的傳輸特性,對(duì)于圖形模糊、印刷飛邊等問(wèn)題是要堅(jiān)決避免的。傳輸線的圖形厚度也要控制,因?yàn)樘沾闪慵ξ恢玫膬?nèi)埋圖形表層是沒(méi)有鍍金層覆蓋的,完全依靠金屬化圖形傳輸,圖形厚度影響這部分傳輸線的線阻,控制不好會(huì)帶來(lái)過(guò)大的傳輸損耗。
2.1.3 疊片工藝對(duì)微波性能的影響
疊片工藝對(duì)微波性能的影響在于疊片出現(xiàn)了較大的位置偏移,金屬化“啞鈴”形狀圖形的內(nèi)埋位置就會(huì)出現(xiàn)移動(dòng),與設(shè)計(jì)時(shí)建立的陶瓷零件模型不一致,結(jié)果可想而之。
2.1.4 層壓工藝對(duì)微波性能的影響
層壓過(guò)程中壓力作用在生瓷片上會(huì)產(chǎn)生一定程度的形變,尤其在內(nèi)埋圖形的位置,由于受到上瓷片(工藝上我們俗稱“筋”)的壓力作用,會(huì)導(dǎo)致傳輸線在內(nèi)埋圖形的位置出現(xiàn)空間上的下陷,對(duì)微波特性的影響很大,所以壓力越小形變?cè)缴伲接欣讷@得好的微波特性。但是這個(gè)問(wèn)題又很難處理,因?yàn)槌R?guī)工藝下,壓力的大小和陶瓷零件氣密性的好壞聯(lián)系密切,對(duì)此問(wèn)題,國(guó)外這方面做的很好,我們也在做相關(guān)工藝技術(shù)的研究工作。
2.1.5 鍍金工藝對(duì)微波性能的影響
由于“趨膚”效應(yīng)的存在,鍍金層的狀態(tài)往往會(huì)直接影響到外殼的微波特性,尤其是微波傳輸線條上的鍍金層狀態(tài)。從微波特性的角度來(lái)說(shuō),對(duì)于鍍金層的要求通常是鍍金層的厚度、鍍金層的表面平坦度,甚至是鍍金層金的純度。
外殼內(nèi)部的腔壁會(huì)對(duì)腔內(nèi)電路中電場(chǎng)產(chǎn)生干擾,當(dāng)腔體尺寸選擇不合適時(shí),可能會(huì)在某一頻率發(fā)生衰減的尖峰,這是屏蔽盒的諧振效應(yīng)所引起的。當(dāng)工作頻率接近此種“屏蔽盒空腔”的諧振頻率時(shí),部分能量被吸收,因而產(chǎn)生了衰減的尖峰,導(dǎo)致在工作頻段內(nèi)信號(hào)工作不正常,甚至出現(xiàn)自激現(xiàn)象。
為了避免外殼腔體的壁對(duì)電路中電場(chǎng)的擾動(dòng),殼帽離電路的距離應(yīng)在(5~10)h以上(h為基板厚度)。最靠近邊緣的導(dǎo)體帶條距屏蔽盒側(cè)壁的距離應(yīng)在3h以上。在工程應(yīng)用中,h的值一般選擇在0.2mm~0.5mm間。
外殼的腔體結(jié)構(gòu)基本上是一個(gè)矩形腔,應(yīng)用時(shí)只是在底部有一層厚度為h、介電常數(shù)為ε的介質(zhì)基片,因此是一部分填充介質(zhì)的矩形諧振腔,其長(zhǎng)、寬、高各為L(zhǎng)、a、b。在其諧振頻率時(shí),和一般的矩形腔相同,先將其看成一段橫截面尺寸為a×b的矩形波導(dǎo),求出其波導(dǎo)波長(zhǎng)λg,再令長(zhǎng)度為λg/2的整數(shù)倍,根據(jù)此關(guān)系,即可求得諧振頻率。
我們也可以應(yīng)用軟件HFSS對(duì)腔體結(jié)構(gòu)進(jìn)行仿真,分析和計(jì)算出不同腔體尺寸及介質(zhì)基片的參數(shù)的“屏蔽盒空腔”諧振頻率,檢查其是否落于適用的微帶電路的工作頻帶內(nèi),如果存在諧振現(xiàn)象,則應(yīng)修改外殼腔體的尺寸。
對(duì)于某型號(hào)金屬-陶瓷外殼的諧振頻率仿真設(shè)計(jì)的過(guò)程,如圖5(a)所示為外殼的諧振頻率仿真(修調(diào)前),如圖5(b)所示為外殼的諧振頻率仿真(修調(diào)后)。
圖5 諧振頻率仿真
某型號(hào)金屬-陶瓷外殼的金屬零件常見(jiàn)的搭配如表1所示。
表1 常見(jiàn)的金屬零件中搭配
這些金屬材料的線性膨脹系數(shù)和熱導(dǎo)率如表2所示。
表2 金屬材料參數(shù)列表
從這些金屬材料的熱膨脹系數(shù)上來(lái)看,搭配在一起的兩種金屬是匹配的,這一點(diǎn)從應(yīng)力的軟件(ANSYS)仿真上也可以得到驗(yàn)證,使用了這樣的材料搭配,可靠性才能得到先期的保障。如果沒(méi)有芯片散熱的問(wèn)題存在,可以采用可伐底座-可伐框架結(jié)構(gòu),同時(shí)這種結(jié)構(gòu)不易存在裂片問(wèn)題;如果存在一定的芯片散熱需求,可以采用無(wú)氧銅底座-無(wú)氧銅框架、鎢銅-可伐、鉬銅-可伐、銅鉬銅-可伐或者銅-鉬銅-銅加可伐的結(jié)構(gòu)。需要強(qiáng)調(diào)的有三點(diǎn):
(1)無(wú)氧銅底座-無(wú)氧銅框架的結(jié)構(gòu)可能會(huì)出現(xiàn)裂片問(wèn)題,在底座的結(jié)構(gòu)上進(jìn)行一定的調(diào)整可以有效緩解;
(2)對(duì)于裂片問(wèn)題的出現(xiàn),設(shè)計(jì)師對(duì)陶瓷基片、芯片三維尺寸、結(jié)構(gòu)甚至是陶瓷基片和芯片襯底的設(shè)計(jì)也是很重視的;
(3)不同比例的CMC與CPC材料的熱導(dǎo)率和熱膨脹系數(shù)不同,尤其是CPC材料的熱膨脹系數(shù)比較特殊,在X、Y方向上有差異。
如圖6所示為外殼的金屬材料在失配情況下的應(yīng)力分布云圖。
圖6 外殼金屬材料在失配情況下的應(yīng)力分布云圖
影響這類金屬-陶瓷外殼氣密性因素除了結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)的因素外,還主要與陶瓷零件三個(gè)指標(biāo)密切相關(guān):
(1)陶瓷零件本身的強(qiáng)度。燒結(jié)溫度是關(guān)鍵因素,過(guò)燒或欠燒都會(huì)極大降低陶瓷的強(qiáng)度,嚴(yán)重時(shí),焊接過(guò)程中的正常焊接應(yīng)力陶瓷都無(wú)法承受,導(dǎo)致“瓷裂”,無(wú)法保障外殼的氣密性。
(2)陶瓷零件疊層處的結(jié)合度。這個(gè)位置很特殊,既有金屬化與陶瓷的結(jié)合,又存在陶瓷與陶瓷的結(jié)合,兩種結(jié)合都需要相當(dāng)牢固,才能確保外殼產(chǎn)品的氣密性與長(zhǎng)期可靠性。
(3)陶瓷零件側(cè)面金屬化的強(qiáng)度。陶瓷零件側(cè)面金屬化的實(shí)現(xiàn)常有兩種工藝:一種是采用后燒工藝,另一種是生瓷階段側(cè)面涂膠,采用共燒工藝。兩者互有利弊,但是都可以達(dá)到較高的金屬化強(qiáng)度,一旦金屬化的強(qiáng)度不過(guò)關(guān),側(cè)面就很可能漏氣。
外殼的可靠性指標(biāo)還有很多,類似于外殼鍍層的抗鹽霧能力、金屬化的強(qiáng)度、引線的抗疲勞彎曲能力等等,涉及到電鍍的方式、金屬化漿料配方、燒結(jié)溫度曲線、金屬材料的熱處理等多種工藝,國(guó)內(nèi)外殼行業(yè)的技術(shù)同行們已經(jīng)做了大量、深入的研究,在此就不一一贅述了。
隨著器件頻率、功率的不斷提升,對(duì)微波高頻外殼也提出了越來(lái)越高的要求。相信在不久的未來(lái),在我們的持續(xù)探索下,微波高頻外殼的設(shè)計(jì)與工藝水平會(huì)取得更大的進(jìn)步。
[1]Charles A.Harper.電子封裝材料與工藝[M].北京:化學(xué)工業(yè)出版社,2006.