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        在4π緊聚焦系統(tǒng)中矢量渦旋光束實(shí)現(xiàn)純橫向能流石婷

        2024-03-10 00:00:00朱明超付圣貴滿(mǎn)忠勝
        光學(xué)儀器 2024年6期
        關(guān)鍵詞:入射光渦旋偏振

        關(guān)鍵詞:4π 聚焦系統(tǒng);橫向能流;光場(chǎng)調(diào)控

        中圖分類(lèi)號(hào):TN 241 文獻(xiàn)標(biāo)志碼:A

        引言

        在波動(dòng)光學(xué)和量子光學(xué)的交叉領(lǐng)域,光學(xué)能流的概念占據(jù)了核心地位,它描述了光在傳播過(guò)程中的能量流動(dòng)[1]。該概念不僅闡明了光的波粒二象性,而且對(duì)光纖和激光技術(shù)的發(fā)展起到了推動(dòng)作用[2],這些技術(shù)在提升信息傳輸?shù)男屎腿萘縖3]、可再生能源的開(kāi)發(fā)[4] 以及在成像技術(shù)[5] 和遙感探測(cè)[6]的應(yīng)用中扮演了關(guān)鍵角色。橫向能流,即光波能量在垂直于傳播方向上的流動(dòng),對(duì)光束的聚焦、傳輸和操控具有決定性的影響。通過(guò)調(diào)制橫向能流,可以顯著提高光束質(zhì)量及其應(yīng)用效率[7-10]。此外,橫向能流的分布對(duì)光束在不同介質(zhì)中的反射、折射和散射行為產(chǎn)生了影響,這對(duì)于設(shè)計(jì)高性能光學(xué)器件和系統(tǒng)具有重要意義[11-14]。近期研究在橫向能流的操控方面取得了顯著進(jìn)展,例如He 等[15] 提出的一維多層膜與二維超表面結(jié)合的準(zhǔn)三維亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu),通過(guò)高效耦合傳輸波和布洛赫波,增強(qiáng)了多重散射并提升了非局域能流的調(diào)控能力。

        在非近軸光場(chǎng)中,橫向能量流的產(chǎn)生與顯著的縱向場(chǎng)分量密切相關(guān)[16-18]。Richards和Wolf在1959年首次在非平面高數(shù)值孔徑物鏡系統(tǒng)中觀察到線(xiàn)偏振平面波聚焦時(shí)產(chǎn)生的負(fù)傳播光,從而揭示了橫向能流的存在[19]。Jiao等在2012 年的研究中指出,對(duì)于緊聚焦的線(xiàn)偏振平面波, 并不產(chǎn)生橫向能流[20]。Khonina等在2018年的研究進(jìn)一步發(fā)現(xiàn),緊聚焦的圓極化拉蓋爾?高斯光束在焦點(diǎn)附近可觀測(cè)到能流密度縱向分量的負(fù)值[21]。在光學(xué)研究領(lǐng)域,單光束聚焦系統(tǒng)在橫向能流調(diào)控方面的研究已取得了顯著進(jìn)展[9-10,22-24]。隨著4π 聚焦系統(tǒng)的出現(xiàn),其能夠?qū)崟r(shí)調(diào)制入射光束的振幅和相位,為特殊光束轉(zhuǎn)換提供了更高的操控靈活性[25-27]。Wang等[28] 近期提出了一種基于4π 聚焦系統(tǒng)的三維空間橫向能流調(diào)控方法,該方法能夠?qū)崿F(xiàn)包括純橫向能流在內(nèi)的任意方向能流控制。盡管這一成果為橫向能流調(diào)控開(kāi)辟了新路徑,但對(duì)純橫向能流產(chǎn)生機(jī)制的系統(tǒng)性解析仍顯不足,且現(xiàn)有方法的復(fù)雜性限制了其在更廣泛領(lǐng)域的應(yīng)用。因此,通過(guò)簡(jiǎn)化光場(chǎng)調(diào)制技術(shù),并系統(tǒng)地探究4π 聚焦系統(tǒng)下的能流調(diào)控機(jī)制,尤其是純橫向能流的產(chǎn)生機(jī)理,對(duì)于促進(jìn)該領(lǐng)域科學(xué)進(jìn)步具有顯著的學(xué)術(shù)價(jià)值和應(yīng)用前景。

        本研究系統(tǒng)分析了4π 聚焦系統(tǒng)下入射光場(chǎng)的偏振分布和渦旋特性對(duì)焦場(chǎng)中能流的影響。入射光場(chǎng)的偏振態(tài)和相位結(jié)構(gòu)顯著地影響了能流的橫向和縱向分量。特別是,僅當(dāng)兩束從相對(duì)方向入射的光束具有0 或π 的初始相位差時(shí),才能在焦點(diǎn)區(qū)域?qū)崿F(xiàn)純橫向能流。本文的發(fā)現(xiàn)對(duì)于操控4π 聚焦系統(tǒng)中的能流分布,進(jìn)而優(yōu)化光學(xué)捕獲和操控微粒的能力,具有重要的理論和實(shí)際意義。

        1理論模型

        任意偏振矢量光束的數(shù)學(xué)形式可以表示為[7-8,29]

        在這里,采用貝塞爾?高斯復(fù)振幅分布來(lái)研究焦場(chǎng)中的能流分布。圖1給出了4π聚焦系統(tǒng)的示意圖。

        根據(jù)Richards和Wolf理論,對(duì)于左側(cè)3種入射光束,焦點(diǎn)區(qū)域 Q(r, φ, z)處的電場(chǎng)和磁場(chǎng)表示為[19]

        2結(jié)果與分析

        2.1聚焦光束的電磁場(chǎng)與能流密度分布

        在本研究中,以徑向偏振渦旋光束為例,首先探討了具有相同相位差的入射光束在通過(guò)4π 聚焦系統(tǒng)后的緊聚焦特性。通過(guò)計(jì)算分析,得到了如圖2 所示的結(jié)果。在焦面上,電場(chǎng)強(qiáng)度的縱向分量為零,如圖2(a3)所示;而磁場(chǎng)強(qiáng)度的縱向分量不為零,如圖2(c3)所示。此外,能流密度的縱向分量也為零,如圖2(e3)所示。對(duì)于過(guò)焦平面的情況如圖2(f3)所示,能流密度的縱向分量也為零。因此,焦面上的縱向能流密度為零,而過(guò)焦平面的縱向能流密度也為零,表明能流主要表現(xiàn)為純橫向分布。

        2.2渦旋電荷對(duì)能流密度分布的影響

        之后,系統(tǒng)探討了渦旋光束的拓?fù)浜蓪?duì)其聚焦后的能流密度分布的影響,計(jì)算結(jié)果如圖3所示,當(dāng)拓?fù)浜蒷=0時(shí),能流密度的3 個(gè)分量均較小且相互之間的差異不大。然而,當(dāng)l 非零時(shí),橫向能流密度遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于縱向分量,使得縱向能流密度歸一化后近似為零。此外,l的絕對(duì)值大小僅影響傳輸平面內(nèi)能流密度的大小,而當(dāng)拓?fù)浜傻慕^對(duì)值相等但符號(hào)相反時(shí),例如(a1)與(d1)、(b1)與(c1),能流密度的x 方向分布會(huì)發(fā)生旋轉(zhuǎn),但橫向能流密度和總能流密度的分布保持不變。這是由于當(dāng)拓?fù)潆姾傻姆?hào)改變時(shí),光束的旋轉(zhuǎn)方向也會(huì)相應(yīng)改變,導(dǎo)致能流密度的x 方向分布發(fā)生旋轉(zhuǎn),而橫向能流與總的能流密度的分布特征表現(xiàn)出恒定性,這一現(xiàn)象與拓?fù)潆姾傻姆?hào)無(wú)關(guān),其原因在于,能量通量的計(jì)算遵循特定的數(shù)學(xué)程序:即對(duì)各分量進(jìn)行平方運(yùn)算后累加,再取平方根。因此,可以認(rèn)為,在這種情況下渦旋光束的拓?fù)浜稍谧笥覂蓚?cè)相等且非零,即可產(chǎn)生純橫向能流的效果。

        2.3偏振階數(shù)對(duì)能流密度分布的影響

        接下來(lái),系統(tǒng)地分析偏振階數(shù)對(duì)能流密度的影響。計(jì)算結(jié)果如圖4 所示,當(dāng)兩側(cè)入射光束的偏振階數(shù)m 相同時(shí),若拓?fù)浜蒷 非零,則能流密度的分布主要受橫向分量的支配。在這一條件下,縱向能流密度與橫向分量相比,顯著較小為0,因此可以近似認(rèn)為能流為純橫向分布。此外,隨著m 的增加,能流密度的幅度相應(yīng)增大。

        2.4偏振橢圓的橢偏度對(duì)能流密度分布的影響

        進(jìn)一步,系統(tǒng)地探討了偏振橢圓的橢偏度對(duì)能流密度分布的影響。如圖5所示,當(dāng)偏振橢圓的橢偏度保持恒定時(shí),能流密度主要由橫向分量決定。橢偏度的大小對(duì)于縱向能流密度并無(wú)顯著影響,后者與橫向分量相比較小,可以近似視為純橫向能流。此外,隨著橢偏度絕對(duì)值的增大,能流密度的幅度也相應(yīng)增強(qiáng),但縱向能流密度依然接近于零。

        2.5偏振階數(shù)和拓?fù)潆姾删C合作用下,對(duì)能流密度的影響

        通過(guò)計(jì)算分析,探討了偏振階數(shù)和拓?fù)潆姾删C合作用下對(duì)能流密度分布的影響。如圖6 所示,當(dāng)拓?fù)浜蒷 為零時(shí),橫向與縱向能流密度相差不大。然而,當(dāng)l 不等于零時(shí),無(wú)論偏振階數(shù)m的數(shù)值如何,橫向能流密度的數(shù)值顯著大于縱向能流密度。此外,隨著|m|的增加,橫向能流密度的光斑更為緊湊,且差異更為明顯。這一現(xiàn)象歸因于光束在緊聚焦過(guò)程中自旋?軌道相互作用的結(jié)果。

        2.6偏振階數(shù)和偏振橢圓的橢圓率綜合作用下,對(duì)能流密度的影響

        本節(jié)探討了偏振階數(shù)和偏振橢圓的橢圓率對(duì)能流密度分布的綜合影響。如圖7所示,當(dāng)拓?fù)浜蒷 保持不變時(shí),橢圓率σ的絕對(duì)值決定了橫向坡印廷矢量的大小、亮斑的數(shù)量以及旁瓣的數(shù)量。在所有情況下,縱向能流密度與橫向相比,數(shù)值較小近似為零。當(dāng)橢圓率的絕對(duì)值增至最大,即σ=±1時(shí),橫向坡印廷矢量呈現(xiàn)為焦點(diǎn)上下的兩瓣?duì)罘植?。在其他情況下,橫向坡印廷矢量則表現(xiàn)為四瓣分布。特別地,當(dāng)橢圓率為零時(shí),并未觀察到旁瓣;而當(dāng)橢圓率絕對(duì)值為0.5時(shí),則出現(xiàn)了4個(gè)旁瓣。此外,當(dāng)橢圓率保持不變,增大渦旋拓?fù)浜傻慕^對(duì)值,橫向坡印廷矢量的兩瓣?duì)罘植紩?huì)遠(yuǎn)離焦點(diǎn)位置。

        2.7入射光束具有不同相位差,對(duì)能流密度的影響

        通過(guò)計(jì)算分析,系統(tǒng)地研究了入射光束在不同相位差條件下對(duì)能流密度分布的影響。如圖8 所示,通過(guò)對(duì)比圖8(a3)和(e3),可以看到僅當(dāng)左右兩側(cè)入射光束的相位差為0或π時(shí),傳播平面上的縱向能流密度近似為零,從而實(shí)現(xiàn)純橫向能流的產(chǎn)生。這一現(xiàn)象歸因于兩束光在空間中相位一致或完全相反時(shí),其電場(chǎng)矢量在空間中的分布特性。具體而言,當(dāng)兩束光的相位差為0時(shí),它們?cè)诳臻g中的每一點(diǎn)相位相同,而當(dāng)相位差為π 時(shí),它們?cè)诳臻g中的每一點(diǎn)相位相反。對(duì)于具有特定偏振態(tài)(如徑向偏振或角向偏振)的光束,其電場(chǎng)矢量在空間中形成特定的分布模式。在這種情況下,光束通過(guò)聚焦系統(tǒng)后,電場(chǎng)矢量的橫向分量將主導(dǎo)能流密度的分布,而縱向分量將顯著減小或消失。相反,當(dāng)相位差不為0和π時(shí),如圖8(b3)、(c3)和(d3)所示,縱向能流密度顯著不為零。這是因?yàn)樵诳臻g中某些點(diǎn),兩束光的相位部分疊加,而在另一些點(diǎn)則部分抵消,導(dǎo)致縱向能流密度不再為零,而是呈現(xiàn)出一定的非零值。

        2.8相位差和渦旋拓?fù)浜蓪?duì)能流密度的影響

        在本節(jié)中,探討了相位差和渦旋拓?fù)浜蓪?duì)能流密度分布的影響。如圖9所示,當(dāng)渦旋拓?fù)浜杀3趾愣〞r(shí),隨著相位差的增加,縱向能流密度僅在相位差為0 或π 時(shí)近似為零,而在其他情況下,其數(shù)值顯著增大。這一現(xiàn)象表明,相位差為0或π時(shí),光束的縱向能流密度最小,有利于實(shí)現(xiàn)純橫向能流的產(chǎn)生。進(jìn)一步地,當(dāng)相位差保持恒定,而增大渦旋拓?fù)浜蓵r(shí),可以看到橫向能流密度的分布呈現(xiàn)出兩瓣結(jié)構(gòu),并且隨著渦旋拓?fù)浜傻脑黾?,這兩瓣分布逐漸遠(yuǎn)離焦點(diǎn)。這一趨勢(shì)表明,渦旋拓?fù)浜傻脑黾訒?huì)導(dǎo)致橫向能流密度的分布范圍擴(kuò)大,從而影響光束的聚焦特性。此外,當(dāng)相位差不為0 或π 時(shí),隨著渦旋拓?fù)浜傻脑龃螅v向能流密度的瓣數(shù)分布增多,呈現(xiàn)出上下兩行的分布特征。同時(shí),旁瓣的分布也有所增強(qiáng)。這些結(jié)果表明,渦旋拓?fù)浜傻脑黾硬粌H影響縱向能流密度的瓣數(shù)分布,還會(huì)增強(qiáng)旁瓣的強(qiáng)度,從而對(duì)光束的能流分布產(chǎn)生顯著影響。

        3 結(jié)論

        本文采用Richards-Wolf矢量衍射理論,推導(dǎo)出了空間變化均勻橢偏度矢量渦旋光束通過(guò)4π緊聚焦系統(tǒng)后的電場(chǎng)和磁場(chǎng)分量的解析表達(dá)式模型。本文進(jìn)一步系統(tǒng)地分析了渦旋拓?fù)浜?、偏振拓?fù)浜伞⑾辔徊詈蜋E偏度對(duì)焦場(chǎng)中能流分布的影響。研究結(jié)果揭示,在特定條件下,即左右兩側(cè)入射光束的相位差為0或π,且其他光束參數(shù)保持一致時(shí),焦場(chǎng)中可產(chǎn)生近似純橫向能流的效果。這些發(fā)現(xiàn)不僅為渦旋光束的能流調(diào)控提供了理論基礎(chǔ),而且對(duì)于光學(xué)捕獲和手性粒子鑒別等應(yīng)用領(lǐng)域具有重要的實(shí)際意義。

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