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        C與Na摻雜AlN電子結(jié)構(gòu)與光學(xué)性質(zhì)的第一性原理研究

        2024-01-19 07:04:42蘇爾琴劉紀(jì)博李夢娜于憲省郭思嘉張麗麗趙旭才雷博程
        原子與分子物理學(xué)報 2024年2期
        關(guān)鍵詞:體系

        蘇爾琴, 劉紀(jì)博, 李夢娜, 于憲省, 郭思嘉, 張麗麗, 趙旭才, 雷博程

        (伊犁師范大學(xué) 物理科學(xué)與技術(shù)學(xué)院 新疆凝聚態(tài)相變與微結(jié)構(gòu)重點實驗室, 伊寧 835000)

        1 引 言

        隨著科技水平的進步,科研工作者對半導(dǎo)體材料的研究興趣越來越強烈[1-3]. AlN作為第三代半導(dǎo)體材料的代表,在室溫下AlN為六方纖鋅礦結(jié)構(gòu),是良好的光電材料,具有較高的化學(xué)穩(wěn)定性,高電子遷移率以及良好的壓電和介電性能,除此之外,AlN帶間躍遷波長可進入藍(lán)綠光、紫外光、深紫外光區(qū)域,這使其主要應(yīng)用在光學(xué)材料、電子元器件以及功率半導(dǎo)體器件領(lǐng)域[4-8]. 但是對于本征AlN,其禁帶寬度為6.2 eV,使得電子在體系中躍遷難度較大,這對材料的電子性能有巨大的影響[9-11],因此對體系進行摻雜改性,對于更好地提升材料的光電性質(zhì)有著十分重要的意義[12].

        自從科學(xué)家發(fā)現(xiàn)能夠通過不同元素?fù)诫s從而改變本征化合物的的物理性質(zhì)以來,摻雜改性成為了對半導(dǎo)體材料進行優(yōu)化的重要方式[13,14]. 在對AlN摻雜改性的研究中,科學(xué)家[15,16]通過對(Ge、Ag)等金屬單摻AlN做了研究,結(jié)果表明金屬單摻后的AlN體現(xiàn)出來一定的金屬性,有效降低電子和空穴的復(fù)合概率,增強了體系的導(dǎo)電能力,增強了對長波的吸收強度,并且吸收帶邊發(fā)生紅移,但是金屬元素?fù)诫s結(jié)合能較高,穩(wěn)定性較差. 之后,科學(xué)家[17-19]用非元素(Si、C、P)對AlN進行摻雜,發(fā)現(xiàn)非金屬摻雜可以使體系產(chǎn)生極化,吸收邊向低能移動,能量損耗減小,禁帶寬度由于非金屬元素介入大大降低,且體系的光導(dǎo)率、吸附能力、以及其折光率都得到了提高,改善了體系在可見光區(qū)的吸收,但是非金屬摻雜原子間的排斥作用大,很難與其他原子成鍵. 為了結(jié)合金屬與非金屬單摻的優(yōu)點,人們開始嘗試共摻的方式去優(yōu)化半導(dǎo)體材料. 例如在(Mg-O、Cd-O、Cu-O、Li-O)共摻AlN體系中[20-23]發(fā)現(xiàn)金屬與非金屬共摻體系可以使晶格收縮,禁帶寬度減小,體系穩(wěn)定性提高,并且體系呈現(xiàn)出p型特性. 徐百勝等人[24]對Na和O元素?fù)诫sAlN做了計算研究,數(shù)據(jù)表明Na-AlN的價帶頂態(tài)密度具有較強的局域化特性,不利于摻雜濃度的提高:與Na-AlN相反,Na和O共摻AlN的價帶頂態(tài)密度局域化特性明顯減弱,受主能級變淺,體系的穩(wěn)定性加強,有利于AlN的p型摻雜. 綜上所述,可以發(fā)現(xiàn)在關(guān)于不同體系摻雜改性的研究中共摻體系得出來的效果更加優(yōu)越[25,26]. 由于研究C、Na共摻AlN體系電子結(jié)構(gòu)和光學(xué)性質(zhì)的具體性質(zhì)尚不明確,所以對C、Na摻雜AlN的電子結(jié)構(gòu)以及光學(xué)性質(zhì)具有一定的研究意義.

        本文對C-AlN和Na-AlN以及C-Na-AlN體系晶體進行電子結(jié)構(gòu)和光學(xué)性質(zhì)的理論計算及分析,基于密度泛函理論(DFT)的平面波超軟贗勢法進行計算,以期待為實驗研究提供理論參考.

        2 理論模型與計算方法

        2.1 理論模型及計算方法

        本文應(yīng)用密度泛函理論(Density functional theory,DFT)框架下廣義梯度近似(General gradient approximate,GGA)[27,28],用平面波贗勢方法[29]描述離子實與價電子的相互作用. 經(jīng)收斂性測試布里淵區(qū)的K格點和平面波截斷能Ecut最終選取為5×5×2和520 eV. 自洽精度(SCF)采用2.0×10-6eV/atom,晶體優(yōu)化后的最大位移收斂精度2×10-4nm,單原子受力小于5×10-3eV/nm,內(nèi)應(yīng)力收斂標(biāo)準(zhǔn)為0.1 GPa.

        AlN室溫下六方纖鋅礦結(jié)構(gòu)能夠穩(wěn)定存在,其空間群為P63mc(No.186),晶格參數(shù)為a=b=0.3112 nm,c=0.4981 nm. AlN晶胞由兩個hcp(六方密堆積結(jié)構(gòu))格子套構(gòu)而成,圖1(a)-(d)為本征AlN、C-AlN、Na-AlN以及C-Na-AlN的結(jié)構(gòu)模型;在摻雜時,用C原子替換AlN中的一個N原子,Na原子替換一個Al原子. 其電子組態(tài)為Al(3s2p),N(2s2p4),C(2s22p2),Na(3S1).

        圖1 AlN摻雜前后的晶胞模型(a)AlN;(b)C-AlN;(c)Na-AlN;(d)C-Na-AlNFig. 1 Cell models before and after AlN doping:(a)pure AlN;(b)C single doped AlN;(c)Na single doped AlN;(d)C-Na Co-doped AlN

        3 結(jié)果與討論

        3.1 晶格常數(shù)與穩(wěn)定性分析

        對AlN摻雜前后的體系的研究中通過幾何結(jié)構(gòu)優(yōu)化,得到具體的晶格常數(shù)和能量,如表1所示,其中a、c為單胞的晶胞參數(shù),V0為超晶胞的體積,AlN晶胞結(jié)構(gòu)優(yōu)化后所得到的晶胞參數(shù)與實驗值和其他理論計算值進行比較,晶格常數(shù)與Paszkowicz等人[30]的實驗數(shù)據(jù)誤差不超過0.8%,摻雜后各體系的體積較AlN發(fā)生了明顯的增大. 由于C原子的原子半徑為0.077 nm,比N的原子半徑0.074 nm大,摻雜后體系鍵長增長導(dǎo)致其晶胞體積增大,Na原子摻雜AlN時,Na的原子半徑為0.186 nm,大于Al的原子半徑0.143 nm,所以摻雜后體積增大. Na+替換Al3+使體系產(chǎn)生了晶格畸變[31,32]. 為了進一步研究體系的穩(wěn)定性,通過對比四種體系的結(jié)合能.

        (1)

        其中EB為體系的結(jié)合能,N表示體系內(nèi)的原子總數(shù),Esum表示體系所有原子能量的總和. 結(jié)合能體現(xiàn)了體系的穩(wěn)定程度,結(jié)合能越小,體系越穩(wěn)定. 三種摻雜體系結(jié)合能均為負(fù)值,說明體系結(jié)合較穩(wěn)定,其中C-Na-AlN體系結(jié)合最穩(wěn)定.

        3.2 摻雜前后的能態(tài)結(jié)構(gòu)與態(tài)密度

        計算了摻雜前后的能帶結(jié)構(gòu)與態(tài)密度,可以準(zhǔn)確分析元素的摻雜對本征AlN電子結(jié)構(gòu)的影響,如圖2所示,選取Ef處為費米能級. 其中圖中所標(biāo)識的G、F、Q、Z、G是體系布里淵區(qū)的高位對稱點,圖1((a)-(b))為本征AlN的能帶結(jié)構(gòu)圖和態(tài)密度圖,禁帶寬度為3.990 eV,此計算數(shù)據(jù)與實驗值6.2 eV[33]有較大差距,由于廣義梯度近似不能準(zhǔn)確地描述激發(fā)態(tài),存在能隙值普遍偏低的情況,但是禁帶寬度所表現(xiàn)出的趨勢是可信的[34].

        圖2 能帶結(jié)構(gòu)圖與態(tài)密度圖:(a)本征AlN能帶圖;(b)本征AlN態(tài)密度圖;(c)C-AlN能帶圖;(d)C-AlN態(tài)密度圖;(e)Na-AlN能帶圖;(f)Na-AlN態(tài)密度圖;(g)C-Na-AlN能帶圖;(h)C-Na-AlN態(tài)密度圖Fig. 2 Energy band structure diagrams and density of states diagrams :(a)intrinsic AlN energy band diagram;(b)intrinsic AlN density of states diagram;(c)C-AlN band diagram;(d)C-AlN density of states diagram;(e)Na-AlN energy band diagram;(f)Na-AlN density of states diagram;(g)C-Na- AlN energy band diagram;(h)C-Na- AlN density of states diagram

        圖1((c)-(d))分別為C-AlN的能態(tài)結(jié)構(gòu)圖和態(tài)密度圖,從圖中觀察到費米能級處出現(xiàn)了明顯的下降,使得禁帶寬度下降到3.130 eV,這主要是C-2p態(tài)和N-2p態(tài)共同作用的結(jié)果,雜質(zhì)C原子的引入使得費米能級穿過了價帶,呈現(xiàn)出p型半導(dǎo)體特征.

        圖1((e)-(f))分別為Na-AlN的能態(tài)結(jié)構(gòu)圖和態(tài)密度圖,相較于本征AlN而言,禁帶寬度同樣減少,下降到了3.387 eV,這主要是Na-3s態(tài)和Al-3s態(tài)共同作用而成. 但對于C-雜來說有明顯的擴大,通過觀察能帶圖發(fā)現(xiàn),這是由于Na摻雜AlN,使得整體的導(dǎo)帶向上移動,雖然摻雜使得價帶上移,但是導(dǎo)帶和價帶的絕對能量差比C摻雜的要小,同時也說明在C-Na-AlN所有摻雜體系中,C-AlN對于電子躍遷更加友好.

        圖1((g)-(h))分別為C-Na-AlN的能態(tài)結(jié)構(gòu)圖和態(tài)密度圖,通過能帶圖可以發(fā)現(xiàn)C-Na-AlN體系在費米能級附近下降,禁帶寬度下降到了2.818 eV,由態(tài)密度圖可知下降的主要原因是共摻體系中C-2p態(tài)和N-2p態(tài)的貢獻,使得共摻體系呈現(xiàn)p型半導(dǎo)體特征,同時C-Na-AlN體系在電子躍遷時相比于單摻雜體系更有優(yōu)勢,由此可以推測該體系導(dǎo)電性能好,光催化活性強.

        3.3 光學(xué)性質(zhì)分析

        圖3是本征AlN,C-AlN,Na-AlN和C-Na-AlN四種體系在波長為200 nm~800 nm之間的吸收光譜圖. 其中三種摻雜體系在可見光區(qū)域?qū)﹄娮佑兄黠@的響應(yīng),其中C-Na-AlN體系尤為明顯,此現(xiàn)象在圖1(g)中同樣可以得到解釋,其能帶寬度達到了2.818 eV,在對比純的AlN和單摻雜AlN體系的禁帶寬度中達到最小,有利于電子躍遷. 同時在可見光區(qū)域C-Na-AlN體系的受主能級對光子的吸收響應(yīng)能力較好,總體呈現(xiàn)上升趨勢,C-AlN體系的受主能級的吸收響應(yīng)能力則稍顯遜色,Na-AlN體系在受摻雜體系中最弱. 由圖可知摻雜后較本征AlN體系發(fā)生了紅移,這將拓寬AlN體系對光的響應(yīng)范圍,進一步增強體系的導(dǎo)電性能和增強體系的光催化活性. C-Na-AlN體系在可見光區(qū)域的光吸收能力最強,由此可以推測該體系的導(dǎo)電性最好. 在此基礎(chǔ)上本文對低能區(qū)吸收帶邊做了分析(見圖3插圖),發(fā)現(xiàn)摻雜后體系發(fā)生了明顯的紅移,這與光吸收譜圖的結(jié)果一致,增強了體系的光催化活性.

        圖3 吸收光譜圖Fig. 3 Absorption spectrogram

        圖4(a)是摻雜前后各體系的介電函數(shù)實部圖,其對應(yīng)介電常數(shù)隨著入射光能量的變化而變化,介電常數(shù)越大,對電荷的舒服能力越強,在無入射光線時,靜介電常數(shù)是介電函數(shù)實部的縱坐標(biāo),本征AlN介電常數(shù)為15.631,C-AlN的介電常數(shù)為7.108,Na摻雜的介電常數(shù)為10.643,C-Na-AlN的介電常數(shù)為17.709,此計算數(shù)據(jù)與未摻雜前的本征AlN相比,C-AlN的介電常數(shù)最低,C-Na-AlN體系的介電常數(shù)最高,由此可知,在研究摻雜AlN計算模擬中,C-Na-AlN體系的介電常數(shù)最大,同時表明此摻雜體系電荷束縛能力最強,極化能力最好.

        圖4 AlN的介電函數(shù)曲線圖:(a)介電實部;(b)介電虛部Fig.4 Dielectric function curves of AlN:(a)Dielectric real part;(b)dielectric imaginary part

        圖4(b)是本征AlN和C、Na-AlN和的C-Na-AlN雜體系的介電虛部曲線圖,對應(yīng)介質(zhì)光吸收損耗圖,從圖中可知,在0-12 eV的區(qū)間之間總共出現(xiàn)了3個較為明顯的峰,分別分布在0-1 eV,7-8 eV,10-12 eV之間,本征AlN體系,C-AlN體系、Na-AlN體系和C-Na-AlN體系分別為7.777 eV,7.3408 eV,7.715 eV,7.676 eV位置有最高峰,C-AlN體系在7.777 eV的能量坐標(biāo)下達到了四種體系的最高值為8.949,通過圖1(d)C-AlN體系的態(tài)密度圖中可以解釋說明,圖4(b)中的最高值主要是由Al-3s態(tài)貢獻的,表明C-AlN體系在這四類體系下電子受束縛較弱,躍遷能力強,光吸收能力大.

        4 結(jié) 論

        密度泛函理論的第一性原理對摻雜體系光電性質(zhì)的研究有重要意義,對C-AlN體系,Na-AlN體系,以及C-Na-AlN體系進行了研究,計算分析了摻雜前后,晶格參數(shù),電子分波態(tài)密度和光學(xué)性質(zhì). 由計算得到以下結(jié)論.

        (1)通過對體系晶格常數(shù)、體積、形成能及結(jié)合能的分析,可以得到摻雜后摻雜原子與本征AlN受摻雜體系相比較,體系發(fā)生了晶格畸變,C-Na-AlN體系共摻結(jié)合能最小,體系穩(wěn)定性最好.

        (2)摻雜體系相比于本征AlN,禁帶寬度都有不同程度的縮小,同時表明其導(dǎo)電性也有相應(yīng)增強,其中C-Na-AlN體系尤為明顯,由于共摻雜體系中帶隙寬度窄小,電子躍遷更容易發(fā)生,表明其導(dǎo)電性能在四種體系中最強.

        (3)摻雜后吸收帶邊發(fā)生了紅移,拓寬AlN體系對光的響應(yīng)范圍,進一步增強其光催化性能,C-Na-AlN體系在可見光區(qū)域光吸收能力最強,在介電函數(shù)圖的分析中可以得到,C-Na-AlN體系的介電常數(shù)最大,表明其電荷束縛能力最強,體系穩(wěn)定性強,極化能力最好,有利于電子-空穴對的分離.

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