伏文,周洋,劉松松,呂馥丞
(1.山東環(huán)發(fā)瑞清環(huán)境有限公司,山東 濟南 250100;2.華電電力科學(xué)研究院有限公司山東分院,山東 濟南 250002;3.華電淄博熱電有限公司,山東 淄博 255054;4.華電青島發(fā)電有限公司,山東 青島 266031)
離子交換除鹽是傳統(tǒng)的鍋爐補給水處理系統(tǒng)中應(yīng)用最為廣泛、技術(shù)最為成熟、工程經(jīng)驗最為豐富的工藝。隨著《水污染防治行動計劃》開始實施,作為用水大戶的發(fā)電企業(yè),離子交換除鹽工藝的弊端與當(dāng)今社會日新月異的技術(shù)進步相悖。填充床電滲析器(EDI)是一種在電滲析器淡室及隔板中裝填陰、陽樹脂的新型處理裝置,取代了傳統(tǒng)離子交換除鹽工藝,是生產(chǎn)高純水的無污染水處理新工藝。EDI巧妙的將電滲析和離子交換技術(shù)相結(jié)合,利用兩端電極高壓使水中帶電離子移動,并配合離子交換樹脂及選擇性樹脂膜以加速離子移動去除,從而達到水純化的目的[1-3];同時EDI還可以使失效的樹脂得到同步的再生,從而連續(xù)得到高品質(zhì)的除鹽水。然而,隨著EDI裝置的運行,也會出現(xiàn)出水水質(zhì)惡化,產(chǎn)水流量下降等問題[4-8]。
本文以某電廠鍋爐補給水處理系統(tǒng)的EDI裝置為例,針對該EDI裝置產(chǎn)水流量下降問題進行分析,找出原因并采取針對性措施,使EDI裝置產(chǎn)水流量恢復(fù)到正常值。
某公司鍋爐補給水處理系統(tǒng)由超濾(UF)、反滲透(二級RO)和電除鹽(EDI)系統(tǒng)組成,除鹽水處理系統(tǒng)設(shè)計額定出力4×96 m3/h(20 ℃,以EDI出力計),最大出力4×115 m3/h。
鍋爐補給水處理系統(tǒng)流程為:高密度沉淀池→空氣擦洗濾池→生水加熱器→自清洗過濾器→超濾裝置→一級反滲透裝置→二級反滲透裝置→EDI裝置→除鹽水。系統(tǒng)連接方式:超濾、EDI裝置采用母管制連接,一級、二級反滲透采用單元制連接。其中EDI裝置主要參數(shù)如表1所示。
表1 EDI主要參數(shù)
EDI裝置運行異常情況如表2所示。由表2可看出,8月7日00:28至8月7日15:53,當(dāng)EDI入口壓力由0.33 MPa提高至0.42 MPa,EDI產(chǎn)水流量也相應(yīng)由194 t/h提高至218 t/h;8月7日15:53至8月7日21:29,當(dāng)EDI入口壓力維持0.42 MPa不變,EDI產(chǎn)水流量明顯下降,由218 t/h下降至154 t/h;8月7日21:29至8月7日23:26,EDI入口壓力由0.42 MPa再次提高至0.50 MPa,EDI產(chǎn)水流量由154 t/h又相應(yīng)提高至218 t/h;8月7日23:26至8月8日07:00,EDI入口壓力維持0.50 MPa不變,EDI產(chǎn)水流量又出現(xiàn)明顯下降情況,由218 t/h下降至194 t/h??傮w上看,在EDI給水泵入口壓力提高和維持不變情況下,EDI產(chǎn)水母管流量呈明顯下降趨勢。
表2 EDI產(chǎn)水流量情況
調(diào)取EDI運行參數(shù)DCS曲線,對EDI入口pH值、電導(dǎo)率數(shù)據(jù)進行采集,如表3所示;EDI入口pH值、電導(dǎo)率采集數(shù)據(jù)變化趨勢,如圖1所示。在EDI入口pH都約為8.0時,電導(dǎo)率由9.12 μS/cm增加至17.6 μS/cm,電導(dǎo)率增加了近一倍,上升趨勢明顯。通常情況下二級反滲透入口加堿會影響EDI入口pH值和電導(dǎo)率,EDI入口同pH值下其電導(dǎo)率應(yīng)基本不變,分析此期間二級反滲透加堿帶來其他雜質(zhì)貢獻了增量的電導(dǎo)率。
圖1 EDI入口pH值、電導(dǎo)率變化趨勢
表3 EDI入口pH值、電導(dǎo)率數(shù)據(jù)
取樣二級反滲透入口所加堿液進行化驗分析,化驗結(jié)果如下表4所示。對比GB/T 11199—2006 《高純氫氧化鈉》標準要求[9],主要指標NaOH含量遠不足標準要求,雜質(zhì)NaCl遠遠高于標準要求,雜質(zhì)Na2SO4略低于標準要求。
表4 二級反滲透入口所加堿液化驗分析
分析二級反滲透入口所加堿液不符合標準要求,從EDI入口pH值和電導(dǎo)率趨勢來看,已對二級反滲透產(chǎn)水電導(dǎo)率指標產(chǎn)生一定影響,不排除所加堿液帶入的微量氧化性物質(zhì),二級反滲透產(chǎn)水也含有一定氧化性物質(zhì)進而進入EDI裝置,氧化降解EDI樹脂的可能性,由此造成EDI裝置產(chǎn)水流量下降。同時,因加入不符合標準要求的堿液,因NaOH含量低加堿量增加,雜質(zhì)NaCl帶入量也成倍增加,這些鹽類物質(zhì)在電解的化學(xué)作用下,就會產(chǎn)生額外新的物質(zhì),這些物質(zhì)會直接堆積在EDI膜塊上,引起產(chǎn)水流量降低。
EDI入口水質(zhì)排查如下表5所示。從表5可看出,部分時間段EDI入口pH值存在不合格。分析當(dāng)pH值較低時,其進水含有一定量二氧化碳,同時會間接影響EDI的產(chǎn)水電導(dǎo)率和硅含量;此外,二級反滲透入口加堿量的變化易引起產(chǎn)水電導(dǎo)率波動,并間接導(dǎo)致EDI入口電導(dǎo)率變化,進而影響EDI產(chǎn)水電導(dǎo)率;再者,從表5還可看出,EDI入口存在微量氧化性物質(zhì),其主要反應(yīng)在余氯含量不合格,此會氧化降解EDI樹脂,進行影響EDI的產(chǎn)水電導(dǎo)率和產(chǎn)水流量。
表5 EDI入口水質(zhì)排查情況
對#3EDI裝置進行模塊拆卸檢查:淡水室有離子交換樹脂填充在陰離子交換膜和陽離子交換膜之間,以形成淡水單元(圖2);檢查淡水單元整體較為清潔,未見顆粒物和其他雜質(zhì)污堵情況。對淡水室進水端樹脂(圖3)和出水端樹脂(圖4)進行外觀檢查,進水端樹脂顏色呈褐紅色,出水端樹脂顏色呈橘黃色;進水端樹脂顏色明顯比出水端暗紅一些。在相鄰的淡水單元的陰離子和陽離子交換膜之間添加樹脂,以形成濃縮室。濃縮室有明顯結(jié)垢,主要集中在出水側(cè),濃縮室垢層底部的樹脂膜還有炭黑色電灼傷痕跡(圖5)。對濃縮室出水側(cè)的垢層進行取樣,垢樣非疏松狀較為硬質(zhì),底部局部垢層呈灰白色(圖6),化驗人員用一定濃度鹽酸對垢層進行溶解,定性分析主要為碳酸鹽垢;進一步對垢層進行成分分析,主要為Ca、Mg垢成分(表6)。
圖2 淡水室
圖3 淡水室進水端樹脂
圖4 淡水室出水端樹脂
圖5 濃縮室
圖6 濃縮室有結(jié)垢
表6 垢層成分分析
淡水室進水端樹脂顏色呈褐紅色,出水端樹脂顏色呈橘黃色,進水端樹脂顏色明顯比出水端暗紅一些,分析淡水室樹脂存在氧化的跡象。樹脂氧化的原因為運行某時間段EDI進水含氧化性物質(zhì),EDI樹脂較反滲透膜受氧化性物質(zhì)影響更為脆弱。通常EDI樹脂受氧化性物質(zhì)氧化降解后,其樹脂機械強度下降,容易破損,破碎的樹脂產(chǎn)生的碎顆?;蚍勰氯麡渲g隙,增加了水流的阻力,使系統(tǒng)流量逐漸下降;EDI模塊長期在大電流和低流量下運行,會進一步造成膜片和通道的結(jié)垢,并持續(xù)形成垢層,嚴重時就會出現(xiàn)樹脂電灼傷痕跡。
(1) 8月8日11:00,二級反滲透入口所加堿液更換為合格標準堿液后,投運二級反滲透入口堿液加藥泵;
(2) 8月8日13:00,EDI入口電導(dǎo)率由20.0 μS/cm下降至12.3 μS/cm,pH值由7.4下降至7.2,EDI入口壓力由0.49 MPa下降至0.46 MPa,#1EDI產(chǎn)水流量由44 t/h上升至51 t/h,#4EDI產(chǎn)水流量由50 t/h上升至55 t/h;
(3)結(jié)合以上運行參數(shù)分析,更換二級反滲透入口堿液為合格堿液后,EDI產(chǎn)水流量有緩慢上升趨勢。
(1) 8月8日19:20,檢修人員對#3EDI裝置模塊進行更換;
(2) 8月9日15:00,#3EDI模塊更換完畢,待設(shè)備調(diào)試正常后,新?lián)Q#3EDI裝置模塊投入運行;
(3)在相同進水壓力和流量情況下,新?lián)Q#3EDI裝置產(chǎn)水流量由EDI模塊更換前60 t/h提升至更換后96 t/h,EDI產(chǎn)水流量恢復(fù)正常。
(1)對一級反滲透(RO)進水進行余氯或氧化還原電位(ORP)指標的監(jiān)測,當(dāng)余氯含量較高時投加適量還原劑亞硫酸氫鈉,控制進水余氯含量;
(2)加強二級反滲透入口所加堿液的質(zhì)量驗收工作,定期對EDI進水水質(zhì)進行排查分析,防止EDI裝置樹脂因氧化造成設(shè)備流量下降和電導(dǎo)率偏高情況;
(3)對二級反滲透入口加堿進行精準控制,加強EDI入口的pH值監(jiān)督,穩(wěn)定電導(dǎo)率指標波動;避免因加堿量不足pH值過低,造成EDI裝置產(chǎn)水電導(dǎo)率和硅含量偏高,加堿量過量導(dǎo)致EDI裝置產(chǎn)水電導(dǎo)率偏大。