熊亞麗,王威,2
(1.成都新欣神風(fēng)電子科技有限公司,成都 611731; 2.西南交通大學(xué) 電氣工程學(xué)院,成都 610000)
為了滿足電磁兼容試驗(yàn)要求及電源的穩(wěn)定性,用電設(shè)備輸入端常常需要使用大容量?jī)?chǔ)能器件。在電源設(shè)備開機(jī)瞬間,電容相當(dāng)于短路狀態(tài),回路上會(huì)產(chǎn)生較大的啟動(dòng)沖擊電流,該沖擊電流過大會(huì)使保險(xiǎn)絲過載熔斷甚至觸發(fā)供電電源的過流保護(hù)功能,進(jìn)而可能影響同源其他用電設(shè)備的正常運(yùn)行[1]。因此,相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)中規(guī)定了開機(jī)啟動(dòng)沖擊電流的限值,如HB 20326-2016以及GJB 181B-2012中均要求開機(jī)瞬間沖擊電流峰值不能超過其額定電流的五倍[2]。
實(shí)際應(yīng)用中最常見的開機(jī)瞬間沖擊電流抑制方法有:在電源母線上串聯(lián)負(fù)溫度系數(shù)熱敏限流電阻器(Negative Temperature Coefficient, NTC);在電源母線上串聯(lián)功率電阻[3];在母線上串聯(lián)功率電感[4]等。NTC電阻器的沖擊電流抑制效果易受工作環(huán)境溫度影響:低溫時(shí),NTC電阻值過大,啟動(dòng)時(shí)會(huì)造成源端供電電流過小,后級(jí)電子設(shè)備啟動(dòng)緩慢甚至可能無法啟動(dòng);高溫時(shí),NTC電阻值過小,開機(jī)時(shí)無法精確抑制沖擊電流。直接使用串聯(lián)功率電阻或功率電感來抑制沖擊電流,會(huì)造成回路上的損耗過大,僅適用于小功率場(chǎng)景。
本文詳細(xì)介紹了兩種目前常用的基于MOS管延時(shí)導(dǎo)通特性的開機(jī)瞬間沖擊電流抑制方法,針對(duì)其弊端提出了一種改進(jìn)型沖擊電流抑制電路,該電路通過控制MOS管DS兩端電壓來延遲開通MOS管,對(duì)后級(jí)電容容量大小、是否帶載啟動(dòng)等,均具有較強(qiáng)的兼容性,大大提高了沖擊電流抑制電路的可靠性。
文獻(xiàn)[5-6]中提到的利用MOS管延時(shí)導(dǎo)通特性抑制沖擊電流的方法,文獻(xiàn)[1]中對(duì)該方法進(jìn)行了優(yōu)化,先采用功率電阻抑制沖擊電流,后利用RC充電電路使MOS管延時(shí)開通特性將功率電阻旁路。下面逐一分析。
利用MOS管的變阻區(qū)抑制沖擊電流的方法原理框圖如圖1所示。
圖1中,C1為MOS管柵極并聯(lián)電容,R1、R2為分壓電阻,D1為鉗位MOS管柵極驅(qū)動(dòng)電壓的穩(wěn)壓二極管,C2為后級(jí)等效線間電容,Q1為串聯(lián)在負(fù)線上的N溝道MOS管,R3為MOS管Q1的驅(qū)動(dòng)電阻。開機(jī)瞬間,由于電容兩端電壓為零,電容相當(dāng)于短路,輸入電壓Vin+通過電阻R1給電容C1充電,MOS管Q1驅(qū)動(dòng)電壓從0V緩慢上升,待C1兩端電壓達(dá)到MOS管Q1導(dǎo)通門檻電壓時(shí),MOS管Q1逐漸導(dǎo)通,輸入電壓通過MOS管的可變內(nèi)阻對(duì)后端線間電容C2進(jìn)行充電,從而限制啟動(dòng)沖擊電流,抑制后的沖擊電流峰值為Vin+/R,R為MOS管Q1的可變電阻。隨著MOS管驅(qū)動(dòng)電壓持續(xù)上升,待完全導(dǎo)通后,MOS管的通態(tài)電阻極小,輸入電壓通過MOS管以極低的導(dǎo)通損耗給后級(jí)設(shè)備供電。
該方法利用MOS管的可變電阻特性對(duì)開機(jī)瞬間沖擊電流進(jìn)行抑制,反應(yīng)速度極快,完全導(dǎo)通后MOS管的導(dǎo)通損耗極小,效率高。但該電路對(duì)MOS管參數(shù)選型要求很高,需要MOS管具有很寬的安全工作區(qū)。在后端線間電容C2充電的過程中,MOS管一直工作在安全工作區(qū),特別是270 V電源系統(tǒng)需要選擇650 V的高壓MOS管,該類型管子的安全工作區(qū)很窄,反復(fù)上電時(shí)會(huì)使MOS管擊穿損壞,影響系統(tǒng)正常工作。
文獻(xiàn)[1]對(duì)上述利用MOS管的延時(shí)開通特性抑制沖擊電流方法進(jìn)行了優(yōu)化,在MOS管的DS兩端并聯(lián)一個(gè)功率電阻,其電路圖如圖2所示。
圖2 MOS管并聯(lián)功率電阻沖擊電流抑制電
圖2中 R4為與MOS管并聯(lián)的功率電阻。其工作原理如下:開機(jī)瞬間,MOS管Q1未導(dǎo)通,輸入電壓Vin+通過功率電阻R4給后端線間電容C2充電,從而抑制開機(jī)瞬間沖擊電流。此過程中輸入電壓Vin+通過電阻R1給電容C1充電,MOS管Q1的柵極電壓即電容C1兩端電壓從0V緩慢上升,當(dāng)該電壓達(dá)到MOS管Q1的開啟門檻電壓時(shí),MOS管將逐步導(dǎo)通,將電阻R4短路。MOS管的延遲開通時(shí)間由R1和C1取值確定。電容C2的充電公式為:
式中:
UC—線間電容C2兩端電壓;
US—輸入直流電源電壓;
τ2—線間電容C2充電時(shí)間常數(shù),τ2=R4*C2。
MOS管導(dǎo)通之前,啟動(dòng)沖擊電流峰值由R4電阻確定,進(jìn)而計(jì)算R4的取值。
式中:
Ilmt—要求的沖擊電流限值,一般為穩(wěn)態(tài)工作電流的5倍。
按照式(1)可以計(jì)算出,經(jīng)過5個(gè)τ2時(shí)間常數(shù),后端線間電容C2兩端電壓會(huì)被充至輸入電壓的99 %。故C2兩端電壓充滿所需的時(shí)間為5τ2=5R4*C2。
為了保障MOS管不工作在安全工作區(qū),應(yīng)使MOS管在后端線間電容C2被充滿后才導(dǎo)通,MOS管柵極電容的充電公式:
式中:
Ug為柵極電容C1兩端電壓;
US為輸入直流電壓;
τ1為柵極電容C1充電時(shí)間常數(shù),τ1=R1*C1。
將柵極電容C1充電至MOS管開啟門檻電壓時(shí)所需的時(shí)間,記為N *τ1,又因?yàn)闃?biāo)準(zhǔn)要求沖擊電流需在0.1 s內(nèi)恢復(fù)至穩(wěn)態(tài)電流,故N*τ1需滿足:
假設(shè)選用的MOS管導(dǎo)通門檻電壓最小為2.5 V,當(dāng)輸入為28 V電源系統(tǒng)時(shí),MOS管的柵極電容充電到2.5 V需要0.08個(gè)τ1時(shí)間常數(shù);當(dāng)輸入為270 V電源系統(tǒng)時(shí),只需要0.01個(gè)τ1時(shí)間常數(shù)。根據(jù)具體項(xiàng)目的實(shí)際情況可以正確對(duì)R1、C1選型。
該沖擊電流抑制方法在熱啟動(dòng)時(shí)也會(huì)出現(xiàn)沖擊電流抑制失效現(xiàn)象,原因是反復(fù)的關(guān)機(jī)開機(jī)瞬間MOS管柵極驅(qū)動(dòng)電容C1兩端的電量尚未放完,再次開機(jī)時(shí),MOS管Q1處于導(dǎo)通狀態(tài),抑制沖擊電流的電阻被旁路,導(dǎo)致出現(xiàn)二次沖擊電流,嚴(yán)重情況下會(huì)將MOS管Q1燒壞,尤其是在直流高壓應(yīng)用場(chǎng)合或者后端電容量特別大的場(chǎng)合。
另MOS管Q1的延遲導(dǎo)通時(shí)間是由電阻R1與電容C1的取值及MOS管的導(dǎo)通門檻電壓確定,電容C2的容量大小、是否帶負(fù)載啟動(dòng)以及負(fù)載大小等因素都會(huì)影響R1與C1參數(shù)選型。若取值不當(dāng),則有可能使得MOS管在C2尚未充滿電時(shí)導(dǎo)通,同樣會(huì)出現(xiàn)二次沖擊電流,嚴(yán)重情況下會(huì)將MOS管Q1燒壞。
在上文基于MOS管的沖擊電流抑制方案基礎(chǔ)上進(jìn)行改進(jìn),提出了一種兼容性強(qiáng)的沖擊電流抑制方法,通過檢測(cè)MOS管DS兩端電壓,使得MOS管在其DS兩端電壓較小時(shí)才導(dǎo)通,此時(shí)后端線間電容C2基本被充滿,以降低MOS管導(dǎo)通時(shí)的電應(yīng)力。該方法不僅可以精準(zhǔn)抑制開機(jī)瞬間沖擊電流,還對(duì)后級(jí)電容容量大小、是否帶載啟動(dòng)等,均具有較強(qiáng)的兼容性,特別是解決了高壓直流電源沖擊電流抑制電路中MOS管經(jīng)常損壞的問題,大大提高了沖擊電流抑制電路的可靠性。原理框圖如圖3所示,Q1為N溝道MOSFET,C2為后級(jí)濾波電容,R4為NTC熱敏電阻,電阻R1、R2、穩(wěn)壓二極管D1和電容C1形成MOS管Q1的驅(qū)動(dòng)電路,NPN三極管Q2、電阻R5、R6及R7組成MOS管Q1驅(qū)動(dòng)的控制電路。
圖3 改進(jìn)型沖擊電流抑制電路
開機(jī)瞬間,據(jù)KVL定理,有:Vin=VC2+VR4,由于電容兩端電壓為零,故開機(jī)瞬間VC2=0,VR4=Vin,VR4電壓即MOS管Q1的DS兩端電壓。電阻R6與R7分壓反饋給三極管Q2,因反饋給Q2的電壓VR大于其基極電壓Vref,即VR=VR4*R7/(R6+R7)>Vref, NPN三級(jí)管導(dǎo)通,將MOS管Q1的柵極驅(qū)動(dòng)電壓即電容C1兩端電壓拉低,MOS管Q2處于關(guān)斷狀態(tài),供電電源通過電阻R4給電容C2充電。
電容C2的充電電流(若帶載啟動(dòng),還有負(fù)載電流)全部流經(jīng)電阻R4,R4電阻用以抑制開機(jī)瞬間的沖擊電流。充電過程中,電容C2兩端電壓快速上升,則電阻R4兩端電壓(即MOS管Q1的DS兩端電壓)快速下降。當(dāng)電阻R4兩端電壓下降到一定值時(shí),即電容C2兩端電壓接近供電電壓時(shí),電阻R6與R7的分壓值即反饋給Q2的電壓VR小于其基準(zhǔn)參考電壓,即VR=VR4*R7/(R6+R7)<Vref,則三極管Q2關(guān)斷,供電電源開始通過電阻R1給電容C1充電,當(dāng)電容C1兩端電壓被充電至MOS管Q1的導(dǎo)通門檻電壓時(shí),Q1導(dǎo)通,將功率電阻R4旁路,電路以極低的導(dǎo)通損耗工作,為后級(jí)電路提供電能。
當(dāng)后級(jí)電容C2的容值發(fā)生變化時(shí),供電電源通過功率電阻R4對(duì)C2充電的時(shí)間會(huì)有所改變,但唯有當(dāng)MOS管Q1兩端電壓低于上述設(shè)定值時(shí)才會(huì)開始對(duì)驅(qū)動(dòng)電容C1進(jìn)行充電,進(jìn)而將MOS管Q1導(dǎo)通。不會(huì)出現(xiàn)后級(jí)電容C2尚未充滿時(shí)將MOS管Q1導(dǎo)通的情況,避免MOS管Q1工作在安全工作區(qū)。
當(dāng)后級(jí)負(fù)載帶載啟動(dòng)時(shí),因電容C2的充電電流被負(fù)載分流,供電電源通過功率電阻R4對(duì)C2充電的時(shí)間將延長(zhǎng),但MOS管不會(huì)出現(xiàn)提前導(dǎo)通的情況,避免MOS管Q1工作在安全工作區(qū)。
因該控制方法是通過檢測(cè)MOS管兩端電壓,當(dāng)其兩端電壓低于設(shè)定值Vset時(shí)(即后級(jí)電容C2兩端電壓被充電至Vin-Vset時(shí),Vset=Vref*(R6+R7)/R7),才開始對(duì)MOS管的驅(qū)動(dòng)電容進(jìn)行充電,進(jìn)而將MOS管導(dǎo)通,故該控制方法對(duì)后級(jí)電容量的大小、是否帶載啟動(dòng)均具有較強(qiáng)的兼容性。
因此相比圖1、圖2所示的抑制方法提高了沖擊電流抑制電路的可靠性和兼容性。
以270 V供電電源為例,后端負(fù)載的電容量為22 μF,開機(jī)瞬間沖擊電流峰值要求低于12 A,恢復(fù)時(shí)間低于10 ms。
可根據(jù)式(2)計(jì)算并根據(jù)電阻標(biāo)稱值選取功率電阻R4,R4選擇兩顆47 Ω電阻并聯(lián),則可計(jì)算出沖擊電流被抑制到11.5 A,滿足低于12 A的設(shè)計(jì)要求。設(shè)定MOS管DS之間電壓為26 V左右時(shí)才讓RC充電電路給MOS管柵極電容充電。后級(jí)電容充電時(shí)間常數(shù)為0.517 ms(τ2=22 uF*23.5 Ω),則由式(1)可計(jì)算出后級(jí)電容充電至244 V(=270 V-26 V)時(shí)約為1.3 ms(2.5τ2=2.5*0.517 ms)。
又可由式(3)計(jì)算出MOS管柵極驅(qū)動(dòng)電容C1充電至其開啟門檻電壓3.5 V時(shí)需要約0.013個(gè)τ1時(shí)間常數(shù),即:
由式(5)可以計(jì)算出柵極電容的充電時(shí)間常數(shù)范圍為:
本設(shè)計(jì)中選擇時(shí)間常數(shù)τ1為109 ms,考慮電阻電容耐壓及功率,充電電阻選擇330 kΩ,MOS管柵極充電電容選擇330 nF。
依圖3所示原理圖并上文中元器件參數(shù)計(jì)算及選型,對(duì)該改進(jìn)型沖擊電流抑制電路進(jìn)行PSIM軟件仿真,仿真結(jié)果如圖4所示。圖4(a)中VC1為MOS管驅(qū)動(dòng)電壓,VC2為后級(jí)電容兩端電壓,VR4為功率電阻R4兩端電壓。圖4(b)中IC2即為沖擊電流。
圖4 仿真結(jié)果
由圖4仿真結(jié)果可以看出,270 V電源開機(jī)瞬間,回路中的最大沖擊電流被限制在約11.5 A(圖4(b)所示),MOS管在線間電容充電接近于輸入電壓時(shí)才導(dǎo)通,MOS管的漏源極兩端電壓、柵極驅(qū)動(dòng)電壓及線間電容兩端電壓如圖4(a)所示,仿真結(jié)果符合理論分析。
按照上述仿真參數(shù)及原理圖進(jìn)行試驗(yàn)驗(yàn)證,試驗(yàn)電路板如圖5所示。實(shí)驗(yàn)波形如圖6所示。圖6(a)為開機(jī)沖擊電流IC2,沖擊電流最大值為10 A左右,實(shí)測(cè)時(shí)線纜存在導(dǎo)線阻值,實(shí)測(cè)值比理論計(jì)算值偏小。圖6(b)為MOS管驅(qū)動(dòng)電壓VC1、后級(jí)電容兩端電壓VC2及功率電阻R4兩端電壓VR4波形。
圖5 實(shí)測(cè)電路板
圖6 實(shí)驗(yàn)波形
由圖6可以看出,試驗(yàn)結(jié)果與理論分析及軟件仿真結(jié)果相符合。
本文提出并分析了一種控制MOS管DS兩端電壓來延遲開通MOS管的沖擊電流抑制電路,當(dāng)后端線間電容快充滿時(shí)才導(dǎo)通MOS管,避免MOS管長(zhǎng)時(shí)間承受電應(yīng)力而損壞。該電路對(duì)后級(jí)電容量的大小、是否帶載啟動(dòng)均具有較強(qiáng)的兼容性,因此該電路兼容性強(qiáng)、功耗低,可靠性高。最后,通過軟件仿真與試驗(yàn)驗(yàn)證了該沖擊電流抑制電路的可行性。