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        MoO3/WO3復(fù)合薄膜的制備及其電致變色性能

        2023-03-22 04:00:12楊繼凱郝志旭趙東旭王云鵬王國(guó)政宦克為
        材料工程 2023年3期
        關(guān)鍵詞:電致變色著色

        成 明,楊繼凱,郝志旭,趙東旭,王云鵬,王 飛,王 新,王國(guó)政,宦克為

        (1 中國(guó)科學(xué)院 長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所發(fā)光學(xué)及應(yīng)用國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,長(zhǎng)春130033;2 長(zhǎng)春理工大學(xué) 理學(xué)院,長(zhǎng)春 130022)

        電致變色材料具有良好的導(dǎo)電性、高對(duì)比度和較長(zhǎng)的使用壽命等優(yōu)點(diǎn),在智能窗、太陽(yáng)能電池等領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用[1-6]。WO3,MoO3,TiO2,V2O5等是目前最常用的電致變色材料[7-12]。

        WO3材料在電致變色方面[13]的優(yōu)點(diǎn)包括:明顯的變色響應(yīng)、高循環(huán)穩(wěn)定性、高著色效率等,但也存在著光學(xué)調(diào)制范圍小、響應(yīng)速率慢等缺點(diǎn)[14];MoO3通常具有α和β兩種晶向[15],在電致變色方面具有變色響應(yīng)時(shí)間短、吸收光譜在可見光區(qū)域趨于平緩,吸收峰與其他變色材料相比更接近人眼敏感波段等優(yōu)點(diǎn),但也存在著著色效率相對(duì)較低,與基底結(jié)合不牢,很容易脫落等問(wèn)題,對(duì)光電器件的穩(wěn)定性和壽命有一定影響[16-19]。

        因?yàn)閱我浑娭伦兩牧洗嬖谥鲜鲆恍┤秉c(diǎn),這使得越來(lái)越多的人開始對(duì)復(fù)合薄膜進(jìn)行研究。Faughnan和Crandall將WO3,MoO3通過(guò)不同容器共蒸發(fā)法制成混合氧化物薄膜,研究證明混合氧化物膜的光學(xué)性質(zhì)為電色系的間隔過(guò)渡模型提供了強(qiáng)有力的支撐,并且獲得了更有效的電致變色顯示器的方法[20]。Ivanova等利用溶膠-凝膠技術(shù)得到MoO3/WO3復(fù)合薄膜,使電致變色智能窗的生產(chǎn)成本降低,適用于大規(guī)模,大面積和低成本的應(yīng)用[21]。Ahmed等研究了MoO3/WO3復(fù)合薄膜的光致變色性質(zhì),結(jié)果顯示復(fù)合薄膜比單一WO3,MoO3薄膜具有更高的著色效率[22]。Kharade等采用溶膠-凝膠技術(shù)和氣相沉積技術(shù)通過(guò)改變制備條件,獲得了具有不同電致變色效果的MoO3/WO3復(fù)合薄膜,在著色效率和響應(yīng)時(shí)間方面均比單一WO3納米棒薄膜要好[23]。Yao等通過(guò)真空蒸發(fā)法得到MoO3/WO3復(fù)合材料[24],并研究其電致變色特性,觀察到電致變色吸收的藍(lán)移。雖然上文提到的團(tuán)隊(duì)都成功地制備了MoO3/WO3復(fù)合薄膜,但存在著操作繁瑣、設(shè)備昂貴、實(shí)驗(yàn)環(huán)境和技術(shù)要求較高等問(wèn)題。因此,找到一種操作簡(jiǎn)單、成本低廉的MoO3/WO3復(fù)合薄膜制備方法,是非常有意義的。

        本工作采用簡(jiǎn)單、經(jīng)濟(jì)的水熱法制備WO3納米棒薄膜,再使用電化學(xué)沉積法,以WO3納米棒薄膜為基底,電沉積MoO3薄膜,從而獲得一個(gè)具有立體結(jié)構(gòu)的MoO3/WO3復(fù)合薄膜。通過(guò)掃描電子顯微鏡對(duì)MoO3/WO3復(fù)合薄膜的表面形貌進(jìn)行分析,并對(duì)復(fù)合薄膜的電致變色性能以及光譜進(jìn)行測(cè)試。

        1 實(shí)驗(yàn)材料與方法

        1.1 實(shí)驗(yàn)試劑及儀器

        丙酮(99.5%,質(zhì)量分?jǐn)?shù),下同)、異丙醇(99.7%)、甲醇(99.7%)、無(wú)水乙醇(99.5%)、草酸銨(99.5%)、濃鹽酸(36%~38%)、濃硫酸(分析純)、無(wú)水高氯酸鋰(純度,99.9%)、碳酸丙烯酯(純度,99.9%)均購(gòu)自麥克林公司;鎢酸鈉、鉬酸鈉購(gòu)自阿拉丁公司、氮?dú)赓?gòu)自長(zhǎng)春新光氣體有限公司;去離子水為實(shí)驗(yàn)室自制。

        1.2 實(shí)驗(yàn)方法

        1.2.1 MoO3/WO3復(fù)合薄膜的制備

        將導(dǎo)電玻璃(fluorine-doped tin oxide,F(xiàn)TO)切成1.5 cm×2.5 cm大小,再將切好的導(dǎo)電玻璃放入超聲波清洗機(jī),分別通過(guò)丙酮、異丙醇、甲醇、去離子水超聲清洗10 min,放入60 ℃烘箱中備用。

        (1)水熱生長(zhǎng)WO3納米棒薄膜

        WO3納米棒薄膜參考文獻(xiàn)中報(bào)道的方法制備[25-26],將2.31 g鎢酸鈉粉末倒入70 mL去離子水中,放在磁力攪拌器上攪拌10 min,再用3 mol/L的HCl調(diào)節(jié)溶液pH值為1.5,倒入2 g草酸銨粉末,磁力攪拌15 min,將清洗干凈的導(dǎo)電玻璃導(dǎo)電面朝下放入裝有3 mL混合溶液的反應(yīng)釜中,再將反應(yīng)釜放入120 ℃的鼓風(fēng)干燥箱中,使其在空氣均勻流通的環(huán)境下受熱4 h,取出反應(yīng)釜中長(zhǎng)有WO3納米棒薄膜的導(dǎo)電玻璃,去離子水輕輕沖洗,再用N2小風(fēng)吹干。放入升溫至450 ℃的馬弗爐內(nèi)退火60 min。

        (2)電化學(xué)沉積MoO3薄膜

        制備5 mmol/L,pH值為4的Na2MoO4電解液。使用電化學(xué)工作站,以pH值為1.5的WO3納米棒薄膜作為工作電極,采用快速循環(huán)伏安法進(jìn)行沉積,在-1 V和0.5 V的電位下,以50 mV/s的掃描速率分別沉積4,8周次和12周次,得到不同沉積周期的MoO3/WO3復(fù)合薄膜(記為:WM4,WM8和WM12),置于SYX-12-17型馬弗爐內(nèi)于350 ℃,退火120 min。

        1.2.2 表面形貌和晶型結(jié)構(gòu)表征

        使用SIGMA-500型掃描電子顯微鏡觀察所制備薄膜樣品的表面形貌,對(duì)樣品進(jìn)行X射線衍射(7000S/L型)分析。

        1.2.3 電化學(xué)性能測(cè)試

        制備1 mol/L的無(wú)水高氯酸鋰和碳酸丙烯酯混合溶液作為電解液。在電化學(xué)反應(yīng)池中,以Ag/AgCl電極作為參比電極,MoO3/WO3復(fù)合薄膜作為工作電極,對(duì)電極使用Pt網(wǎng)。利用UV-9000型紫外可見分光光度計(jì)在300~800 nm波長(zhǎng)范圍內(nèi)對(duì)MoO3/WO3復(fù)合薄膜進(jìn)行光譜測(cè)試。

        2 結(jié)果與分析

        2.1 MoO3/WO3復(fù)合薄膜的晶體結(jié)構(gòu)

        圖1為MoO3/WO3復(fù)合薄膜的XRD測(cè)試曲線。因?yàn)樗袠悠返幕拙鶠镕TO,所以FTO的衍射峰出現(xiàn)在所有樣品中。圖中顯示FTO的衍射峰與標(biāo)準(zhǔn)PDF卡(JCPDS No.46-1088)相一致;單一WO3納米棒薄膜的衍射峰與立方相WO3晶體結(jié)構(gòu)(JCPDS No.41-0905)相一致;單一MoO3薄膜為α相,與標(biāo)準(zhǔn)PDF卡(JCPDS No.75-0912)相同。從圖中可以看出,制備的復(fù)合薄膜中含有WO3和MoO3的衍射峰,證明成功制備了MoO3/WO3復(fù)合薄膜。

        圖1 FTO,MoO3薄膜,WO3納米棒薄膜和MoO3/WO3復(fù)合薄膜的XRD測(cè)試曲線Fig.1 XRD test curves of FTO, MoO3 film, WO3nanorod and MoO3/WO3composite film

        2.2 MoO3/WO3復(fù)合薄膜的表面形貌

        圖2顯示了WO3納米棒薄膜、MoO3薄膜、MoO3/WO3復(fù)合薄膜的SEM圖像。圖2(a)為單一WO3納米棒薄膜的SEM圖像,可以看出生長(zhǎng)的WO3呈磚塊狀結(jié)構(gòu),且生長(zhǎng)致密,WO3納米棒薄膜平均長(zhǎng)度約為0.58 μm,平均寬度約為0.17 μm。圖2(b)為單一MoO3薄膜的SEM圖像,可以看出制備的MoO3呈塊狀結(jié)構(gòu),且塊狀結(jié)構(gòu)大小不一,平均寬度約為0.21 μm。圖2(c)~(e)分別為沉積4,8周次和12周次MoO3的MoO3/WO3復(fù)合薄膜(WM4,WM8和WM12)的SEM圖像,由于MoO3薄膜非常薄,涂敷在WO3納米棒薄膜上后并未對(duì)WO3納米棒薄膜的形貌造成明顯改變。從圖中可以發(fā)現(xiàn)沉積循環(huán)由4周次增加到8周次時(shí),MoO3薄膜涂敷在WO3納米棒薄膜表面,使WO3納米棒表面變得較光滑;隨著沉積周期的增加,復(fù)合薄膜中的MoO3的含量也隨之增加,當(dāng)增加至12周次時(shí),WO3納米棒薄膜的間隙被填滿,復(fù)合薄膜的塊狀結(jié)構(gòu)變大。從SEM結(jié)果可以證明MoO3/WO3復(fù)合薄膜制備成功,這與X射線衍射測(cè)試結(jié)果是一致的。

        圖2 WO3納米棒薄膜(a),MoO3薄膜(b)和MoO3/WO3復(fù)合薄膜WM4(c),WM8(d),WM12(e)的SEM圖Fig.2 SEM images of WO3 nanorod (a), MoO3 film (b) and MoO3/WO3composite film WM4 (c), WM8 (d), WM12(e)

        2.3 漫反射測(cè)試

        圖3為所有樣品的漫反射光譜和間接帶隙圖。通過(guò)漫反射測(cè)試,確定了MoO3/WO3復(fù)合薄膜、WO3納米棒薄膜和MoO3薄膜的帶隙和吸收的變化情況。發(fā)現(xiàn)在可見光的300~800 nm范圍內(nèi)MoO3/WO3復(fù)合薄膜的吸收強(qiáng)度高于其他樣品。通過(guò)Kubelka-Munk公式變換,得到測(cè)試樣品的間接帶隙曲線,如圖3(b)所示。從圖中可以看到MoO3/WO3復(fù)合薄膜的帶隙約為2.71 eV,WO3納米棒薄膜的帶隙約為2.89 eV,MoO3納米棒薄膜的帶隙約為3.27 eV,這可能是由于WO3納米棒薄膜上電沉積了MoO3薄膜,導(dǎo)致WO3納米棒薄膜的間隙和形貌發(fā)生了變化,光吸收特性發(fā)生了改變,使得MoO3/WO3復(fù)合薄膜的帶隙小于單一WO3和MoO3薄膜的帶隙,但是光譜響應(yīng)范圍更寬。

        圖3 MoO3/WO3復(fù)合薄膜、WO3納米棒薄膜和MoO3薄膜的漫反射光譜(a)和間接帶隙圖(b)Fig.3 Diffuse reflectance spectra (a) and determination of indirect interband transition energies (b) of MoO3/WO3 composite film, WO3 nanorod and MoO3 thin film

        2.4 MoO3/WO3復(fù)合薄膜電化學(xué)性能

        通過(guò)循環(huán)伏安測(cè)試、計(jì)時(shí)電流測(cè)試和計(jì)時(shí)電量測(cè)試對(duì)MoO3/WO3復(fù)合薄膜、WO3納米棒薄膜和MoO3薄膜的Li+注入抽出能力進(jìn)行研究。在測(cè)試過(guò)程中Li+的注入和抽出都會(huì)導(dǎo)致薄膜顏色發(fā)生改變,預(yù)期的電化學(xué)反應(yīng)式為:

        WO3-MoO3+xLi++xe-?LiyWO3-LizMoO3

        (1)

        2.4.1 循環(huán)伏安(cyclic voltammetry,CV)測(cè)試

        圖4為不同樣品的CV曲線。測(cè)試條件為掃描速度50 mV/s,施加電壓在+1 V和-1 V之間。當(dāng)施加電壓為負(fù)時(shí),發(fā)生還原反應(yīng),MoO3/WO3復(fù)合薄膜吸收Li+和e-,使樣品發(fā)生著色變化;相反,在施加電壓為正時(shí),發(fā)生氧化反應(yīng),Li+和e-從樣品中抽出,使樣品發(fā)生褪色變化。從圖4中可以看出,復(fù)合薄膜WM8曲線的閉合曲線面積最大且峰值最高,證明與其他樣品相比在施加相同電壓時(shí),WM8對(duì)Li+和e-的注入與抽出速率更快且容量更大。同時(shí)也可以看出,當(dāng)沉積MoO3的周期越多,CV閉合曲線面積開始變小,這表明了樣品此時(shí)對(duì)Li+和e-的注入和抽出速率開始降低且容量也隨之變小。

        圖4 WO3納米棒薄膜、MoO3薄膜、MoO3/WO3復(fù)合薄膜循環(huán)伏安測(cè)試曲線Fig.4 Cyclic voltammetry test curve of WO3 nanorod film,MoO3 film and MoO3/WO3composite film

        圖5為樣品的循環(huán)穩(wěn)定性測(cè)試曲線,從圖5(a)中可以看出,單一WO3納米棒薄膜在連續(xù)循環(huán)100周次時(shí),CV曲線面積未發(fā)生明顯變化,從圖5(b)中可以看出,MoO3薄膜在連續(xù)循環(huán)50周次時(shí),CV曲線面積發(fā)生了明顯的變化,而從圖5(c)中可以看出,循環(huán)測(cè)試100周次時(shí),復(fù)合薄膜的CV曲線面積仍未發(fā)生明顯變化,說(shuō)明復(fù)合薄膜具有良好的穩(wěn)定性和較長(zhǎng)的使用壽命。

        圖5 WO3納米棒薄膜(a)、MoO3薄膜(b)和MoO3/WO3復(fù)合薄膜(c)的循環(huán)穩(wěn)定性測(cè)試曲線Fig.5 Cycle stability test curves of WO3 nanorod film (a),MoO3 film (b),MoO3/WO3 composite film (c)

        2.4.2 計(jì)時(shí)電流(chronoamperomet,CA)測(cè)試

        圖6為樣品的計(jì)時(shí)電流測(cè)試曲線,施加電壓在-1.0 V和1.0 V之間變化。在測(cè)試過(guò)程中,對(duì)所有樣品的響應(yīng)時(shí)間進(jìn)行了計(jì)算(其中,系統(tǒng)達(dá)到完全調(diào)制的90%時(shí)所需要的時(shí)間,叫作響應(yīng)時(shí)間)。所有樣品的tc(著色響應(yīng)時(shí)間)和tb(褪色響應(yīng)時(shí)間)值均列于表1。通過(guò)表1中數(shù)據(jù)可以看出,與其他樣品相比,復(fù)合薄膜WM8具有更快的著色和褪色響應(yīng)時(shí)間,其著色響應(yīng)時(shí)間為8.37 s,褪色響應(yīng)時(shí)間為4.77 s。

        圖6 WO3納米棒薄膜、MoO3薄膜、MoO3/WO3復(fù)合薄膜計(jì)時(shí)電流測(cè)試曲線Fig.6 Chronoamperometric curves of WO3 nanorod film,MoO3 film and MoO3/WO3 composite film

        表1 WO3納米棒薄膜、MoO3薄膜和MoO3/WO3復(fù)合薄膜的電化學(xué)性能參數(shù)Table 1 Electrochemical performance parameters of WO3nanorod film,MoO3 film and MoO3/WO3 composite film

        2.4.3 計(jì)時(shí)電量(chrono coulometry,CC)測(cè)試

        圖7為不同樣品的CC測(cè)試曲線,測(cè)試樣品在持續(xù)50 s的1V和-1V電壓下,抽出電荷(Qdi)和注入電荷(Qi)情況。樣品的可逆性值為抽出電荷與注入電荷的比值,樣品的可逆性越好,比值越高,計(jì)算公式如下:

        Reversibility=(Qdi/Qi)×100%

        (2)

        由表1中所列樣品的可逆性值可以看出,復(fù)合薄膜WM8的可逆性比單一MoO3薄膜和單一WO3納米棒薄膜的可逆性值都要高。因此可以證明,所有樣品中,復(fù)合薄膜WM8的可逆性最好。MoO3/WO3復(fù)合薄膜的著色率為153.16 cm2/C。

        圖7 WO3納米棒薄膜、MoO3薄膜、MoO3/WO3復(fù)合薄膜計(jì)時(shí)電量測(cè)試曲線Fig.7 Chronocoulometry curves of WO3 nanorod film, MoO3film and MoO3/WO3 composite film

        圖8 WO3納米棒薄膜、MoO3薄膜和MoO3/WO3復(fù)合薄膜的透射光譜Fig.8 Transmission spectra of WO3 nanorod film,MoO3 film and MoO3/WO3 composite film

        2.5 MoO3/WO3復(fù)合薄膜光譜測(cè)試

        圖8為在300~800 nm波長(zhǎng)范圍內(nèi)樣品在著色狀態(tài)和褪色狀態(tài)時(shí)的透過(guò)率光譜。樣品單位面積電荷量的改變使得其光密度值(ΔOD)的大小發(fā)生變化,同時(shí),樣品的著色效率(CE)也發(fā)生了變化,可根據(jù)式(3),(4)分別計(jì)算得到:

        (3)

        (4)

        式中:Q為樣品單位面積電荷的變化量;Tb為樣品在褪色態(tài)的透過(guò)率;Tc為樣品在著色態(tài)透過(guò)率;λ=630 nm是在可見光中選擇的特定波長(zhǎng)。如表1數(shù)據(jù)所示,復(fù)合薄膜WM8的可逆性、響應(yīng)時(shí)間和穩(wěn)定性與其他樣品相比,都有明顯的提升。圖9為在波長(zhǎng)為630 nm的條件下,MoO3/WO3復(fù)合薄膜的透過(guò)率循環(huán)曲線,從圖中可以看到,在經(jīng)過(guò)第5次的著色退色循環(huán)后,在退色狀態(tài)下的透過(guò)率略微有些降低,但從總體來(lái)看MoO3/WO3復(fù)合薄膜具有很好的穩(wěn)定性。

        圖9 MoO3/WO3復(fù)合薄膜透過(guò)率的循環(huán)曲線Fig.9 Cyclic curves of transmission of MoO3/WO3 composite films

        綜合以上分析與測(cè)試結(jié)果認(rèn)為,可能有兩個(gè)原因使MoO3/WO3復(fù)合薄膜電致變色性能提高:首先,根據(jù)Kharade課題組[23]與Faughnan和Crandall課題組[20]對(duì)MoO3/WO3復(fù)合薄膜的研究,在相同電壓下,MoO3/WO3復(fù)合薄膜中存在著Mo6+,W6+,而Mo6+,W6+位點(diǎn)之間增加的額外電子相互作用,使得與單一材料的樣品相比,復(fù)合材料的電致變色性能更好。根據(jù)此結(jié)論推測(cè),本工作制備的MoO3/WO3復(fù)合薄膜同樣含有Mo6+,W6+,增加了額外電子的相互作用,使得電致變色性能同樣比單一WO3納米棒薄膜、MoO3薄膜更好。其次,復(fù)合薄膜樣品的帶隙要小于單一材料的帶隙,正如圖3(b)所示。圖10為復(fù)合薄膜的能帶結(jié)構(gòu)示意圖,WO3納米棒薄膜電沉積MoO3薄膜后,WO3導(dǎo)帶向負(fù)方向移動(dòng),MoO3/WO3復(fù)合薄膜使Li+在較低電位下更加容易進(jìn)行插入與抽出[27-28],因此復(fù)合薄膜WM8比單一薄膜的電致變色性能好。但是,一味地增加復(fù)合薄膜中MoO3的沉積時(shí)間,反而會(huì)起到抑制樣品性能的效果。這可能是因?yàn)?,隨著MoO3含量增加,WO3納米棒的間隙被填滿,如圖2(e)所示,這導(dǎo)致了復(fù)合薄膜與電解液的接觸面積減少,反應(yīng)位點(diǎn)減少,電致變色性能變差。因此,電致變色性能最好的樣品為復(fù)合薄膜WM8。

        圖10 MoO3/WO3復(fù)合薄膜的能帶結(jié)構(gòu)圖Fig.10 Energy band structure of MoO3/WO3 composite film

        3 結(jié)論

        (1)MoO3/WO3復(fù)合薄膜與單一MoO3薄膜和WO3納米棒薄膜相比,帶隙更窄且形成了異質(zhì)結(jié)結(jié)構(gòu),提高了電子和空穴的遷移速度。MoO3/WO3復(fù)合薄膜的可逆性值為62.19%,著色效率為153.16 cm2/C,均高于單一MoO3薄膜和WO3納米棒薄膜。并且縮短了響應(yīng)時(shí)間。

        (2)MoO3/WO3復(fù)合薄膜的具有很好的循環(huán)穩(wěn)定性,改善了單一MoO3薄膜附著能力差的問(wèn)題,提高了器件的使用壽命。

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