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        濕法刻蝕對(duì)背鈍化多晶電池的影響

        2023-02-21 10:27:08李雪方申開愉
        山西化工 2023年1期
        關(guān)鍵詞:絨面多晶硅硅片

        郭 衛(wèi),李雪方,申開愉

        (山西潞安太陽(yáng)能科技有限責(zé)任公司,山西 長(zhǎng)治 046000)

        引言

        制絨工藝是背鈍化多晶電池生產(chǎn)的第一道工藝,在鏈?zhǔn)皆O(shè)備中使用HF/HNO3(氫氟酸/硝酸)對(duì)單個(gè)硅片進(jìn)行雙面腐蝕,在達(dá)到一定的減重量后,不僅可以去除多晶硅片表面的損傷層和各種雜質(zhì),同時(shí)能夠?qū)⒍嗑Ч杵砻嬷苽涑商囟ǖ慕q面,制絨后的多晶硅片正面反射率能夠降低至17.3%,可以有效提高太陽(yáng)光吸收率,從而提高多晶電池轉(zhuǎn)換效率。由于多晶硅片在制絨工藝時(shí)正、背面均進(jìn)行腐蝕,硅片背面與正面有類似的絨面外觀,這與目前車間其它背鈍化產(chǎn)品要求硅片提高背面反射率的要求不一致,因此,需要對(duì)背鈍化多晶電池工藝進(jìn)行優(yōu)化,提高多晶硅片背面反射率,進(jìn)一步提高多晶電池轉(zhuǎn)換效率。背鈍化多晶電池在背面工藝處理過(guò)程中,硅片正面也會(huì)繞鍍沉積一些工藝副產(chǎn)物,還需要對(duì)這些副產(chǎn)物進(jìn)行化學(xué)品刻蝕去除,在處理過(guò)程中,化學(xué)品會(huì)對(duì)硅片正面進(jìn)行再次腐蝕,這樣就會(huì)破壞原先硅片正面形成的絨面結(jié)構(gòu),進(jìn)而影響電池片正面外觀和轉(zhuǎn)換效率[1]。

        1 實(shí)驗(yàn)材料和工藝

        實(shí)驗(yàn)中,使用砂漿切割的多晶硅片,外觀尺寸均為156 mm×156 mm,厚度為200 um,電阻率為1 Ω·cm~3 Ω·cm。生產(chǎn)工藝為:刻蝕1+背鈍化+刻蝕2+后續(xù)工藝,其中刻蝕1 和刻蝕2 均使用HF 和HNO3的混合溶液對(duì)硅片進(jìn)行處理,通過(guò)改變其溶液配比和控制參數(shù)等,得到制絨舊工藝和制絨新工藝兩個(gè)不同的路線。舊工藝條件下,刻蝕1 的主要作用是清洗硅片和多晶硅片絨面制備,降低正面反射率,刻蝕2 的主要作用是去除鈍化副產(chǎn)物。制絨新工藝條件下,刻蝕1 的主要作用是清洗硅片,提高多晶硅片背面反射率,刻蝕2 的主要作用是絨面制備。在實(shí)際生產(chǎn)中,絨面制備的減重量(0.42 g)通常大于去除鈍化副產(chǎn)物的時(shí)的減重量(0.13 g),因此在新工藝刻蝕2的調(diào)試時(shí),絨面制備完成后,就可以達(dá)到去除副產(chǎn)物的效果。

        2 實(shí)驗(yàn)結(jié)果與討論

        2.1 制絨舊工藝

        在制絨舊工藝的調(diào)試步驟下,刻蝕1 后的多晶硅片正、背面反射率為17.3%和19.5%,但是經(jīng)過(guò)刻蝕2后,硅片正面反射率降低至16.6%和18.3%,經(jīng)過(guò)測(cè)試,電池片轉(zhuǎn)換效率與開路電壓分別為18.81%和0.627 6 V。舊工藝刻蝕2 后硅片外觀和電池片EL 圖像,如圖1 所示。

        圖1 舊工藝刻蝕2 后硅片外觀和電池片EL 圖像

        刻蝕2 后硅片正面外觀出現(xiàn)了大量的“絨絲”,這類電池片不符合公司成品檢驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn),判定為降級(jí)片。絨絲部分經(jīng)過(guò)觀察測(cè)試,是大量細(xì)小暗紋團(tuán)聚在一起形成不規(guī)則的深色區(qū)域,在EL(電致發(fā)光)測(cè)試下,電池片部分區(qū)域也出現(xiàn)了絨絲團(tuán)聚的現(xiàn)象,參考文獻(xiàn)[2]中指出,這些暗紋區(qū)域容易被酸制絨體系腐蝕,在經(jīng)過(guò)刻蝕1、2 兩次化學(xué)品腐蝕后,出現(xiàn)了過(guò)度腐蝕的現(xiàn)象,原先正常的絨面結(jié)構(gòu)被破壞,出現(xiàn)了圖中絨絲團(tuán)聚的現(xiàn)象。在過(guò)度腐蝕的情況下,不僅硅片正面外觀出現(xiàn)異常,同時(shí)也限制了電池轉(zhuǎn)換效率的進(jìn)一步提升。需要對(duì)兩次刻蝕工藝進(jìn)行優(yōu)化,解決過(guò)度腐蝕導(dǎo)致的問(wèn)題。

        2.2 制絨新工藝

        優(yōu)化后的制絨新工藝步驟,在刻蝕1 時(shí),減少了刻蝕減重量,適當(dāng)增加HNO3的比例,提高硅片的拋光效果,僅僅達(dá)到清洗硅片,去除表面損傷,提高背面反射率的效果。通過(guò)少子壽命檢測(cè)來(lái)測(cè)試刻蝕1 后的清洗效果。新工藝刻蝕1 后減重量測(cè)試,如表1 所示。

        表1 新工藝刻蝕1 后減重量測(cè)試

        新工藝刻蝕1 后,在減重量為0.15 g 的情況下,背面反射率可以達(dá)到32.6%,少子壽命提升達(dá)到41 ms。較低的減重量情況下(0.05 g 和0.10 g),少子壽命提升幅度小,說(shuō)明在低減重量時(shí),多晶硅片表面的雜質(zhì)并未完全清洗干凈,不能達(dá)到工藝清潔要求。低減重時(shí),硅片背面反射率也比0.15 g 減重量時(shí)低,說(shuō)明較低的減重量時(shí),化學(xué)品與硅片反應(yīng)不充分,未能有良好的清洗拋光效果。

        較高的減重量情況下(0.20 g),少子壽命提升幅度比0.15 g 情況下,并沒有明顯提高,背面反射率也沒有明顯變化,說(shuō)明在保證一定的減重量就可以達(dá)到較好的清潔效果,過(guò)多的刻蝕量并沒有起到明顯提升少子壽命和反射率的效果。通常生產(chǎn)中刻蝕1 的減重量選擇0.15 g,過(guò)高的減重量會(huì)降低硅片厚度,對(duì)后續(xù)電池片生產(chǎn)可能造成碎片率增高,同時(shí),高減重量也會(huì)增加化學(xué)品的使用量,增加生產(chǎn)成本,因此,在生產(chǎn)中需要根據(jù)實(shí)際情況選擇合適的減重量[3]。

        由于新工藝刻蝕1 僅僅對(duì)硅片進(jìn)行了清洗,多晶硅片正面反射率達(dá)到了30.3%,未形成所需要的絨面結(jié)構(gòu),因此,新工藝刻蝕2 需要調(diào)整工藝,降低硅片正面的反射率,如表2 所示。

        表2 新工藝刻蝕2 后減重量測(cè)試

        新工藝刻蝕2 的減重量在0.21 g 的情況下,硅片正面反射率為17.5%,與舊工藝刻蝕1 后的反射率基本相同,能夠達(dá)到工藝控制要求。同時(shí),低減重量的情況下(0.16 g),正面反射率較高,說(shuō)明未能形成良好的絨面結(jié)構(gòu),電池片轉(zhuǎn)換效率也比0.21 g 條件下低。高減重量(0.26 g)情況下,硅片正面反射率與0.21 g 情況下基本相同,電池片轉(zhuǎn)換效率與開路電壓也基本持平,在實(shí)際生產(chǎn)中,新工藝刻蝕2 的減重量選擇0.21 g時(shí),電池片轉(zhuǎn)換效率可以達(dá)到最佳效果。

        如圖2 所示,經(jīng)過(guò)外觀檢測(cè),制絨新工藝調(diào)試后的電池片正面未出現(xiàn)大量絨絲,EL 測(cè)試也未出現(xiàn)絨絲團(tuán)聚現(xiàn)象,符合車間電池片質(zhì)量檢驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn)。電池片轉(zhuǎn)換效率也達(dá)到了19.07%,比制絨舊工藝提高了0.26%。調(diào)試優(yōu)化后的制絨新工藝不僅解決了硅片正面過(guò)度腐蝕導(dǎo)致的外觀異常,同時(shí)電池片轉(zhuǎn)換效率也有一定的提升[4]。

        圖2 新工藝刻蝕2 后硅片外觀和電池片EL 圖像

        表3 實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,新工藝調(diào)試后的背鈍化多晶電池片,與舊工藝刻蝕1 后的正面反射率基本持平,符合車間半成品控制要求,可以保證電池片正面光吸收不受影響,而電池背面反射率的提高,可以提高背面鈍化效果,提高長(zhǎng)波光穿透電池到達(dá)背面后再次反射回電池內(nèi)部,增加長(zhǎng)波光的吸收利用,從而提高電池片轉(zhuǎn)換效率[5]。從開路電壓和短路電流可以看到,制絨新工藝后的電池片轉(zhuǎn)換效率有明顯提升,證明了制絨新工藝可以得到更加優(yōu)良的背面鈍化效果和更高的光吸收。

        表3 新舊工藝對(duì)比

        3 結(jié)語(yǔ)

        1)多晶硅片正面經(jīng)過(guò)多次化學(xué)品刻蝕后,會(huì)破壞原先形成的絨面結(jié)構(gòu),出現(xiàn)絨絲團(tuán)聚的情況,在外觀和EL 測(cè)試下,都可以看到此類異常。要解決此異常,需要調(diào)整優(yōu)化刻蝕工藝,根據(jù)背鈍化多晶電池片的工藝特點(diǎn),調(diào)試出適合多次化學(xué)品處理的工藝流程。

        2)根據(jù)刻蝕1、2 的工藝要求和特點(diǎn),調(diào)整了化學(xué)品溶液配比,減重量和反射率控制參數(shù),從原先的一次制絨優(yōu)化為一次清洗+二次制絨工藝,這種新的制絨工藝路線,提高了多晶硅片背面的反射率,解決了舊工藝存在的過(guò)度腐蝕導(dǎo)致的正面外觀異常問(wèn)題。經(jīng)過(guò)測(cè)試,電池片外觀和EL 測(cè)試下,均可以達(dá)到質(zhì)量控制要求。

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