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        基于光譜診斷的氧化物活性TIG焊電弧特征分析

        2023-01-05 01:52:40李春凱丁彬石玗顧玉芬代悅
        關(guān)鍵詞:涂覆空域譜線

        李春凱 丁彬 石玗 顧玉芬 代悅

        (1.蘭州理工大學(xué)省部共建有色金屬先進(jìn)加工與再利用國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,甘肅 蘭州 730050;2.蘭州理工大學(xué)溫州泵閥工程研究院,浙江 溫州 325100;3.北京石油化工學(xué)院機(jī)械工程學(xué)院,北京 102617)

        鎢極氬弧焊(TIG焊)具有電弧穩(wěn)定性高、熱輸入精確可控、易于實(shí)現(xiàn)自動化等優(yōu)點(diǎn),在壓力容器、石油管道、航空航天等領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用[1]。然而受制于鎢極的電流承載能力,TIG焊的焊接效率低,焊縫熔深淺,制約了該方法的進(jìn)一步發(fā)展和應(yīng)用。烏克蘭巴頓焊接研究所的Gurevich等[2]首次提出了活性TIG焊(A-TIG焊),即通過在母材表面預(yù)先涂覆一層活性劑后再進(jìn)行焊接。相比于傳統(tǒng)的TIG焊,A-TIG焊能夠大幅增加焊縫熔深2~4倍,并改善焊縫的組織結(jié)構(gòu)和力學(xué)性能[3]。

        從20世紀(jì)80年代開始,國內(nèi)外學(xué)者就針對A-TIG焊活性劑的配方展開了大量的研究工作[4-5],先后開發(fā)了不銹鋼、碳鋼、鈦合金等材質(zhì)的各類氧化物、氟化物、氯化物單一及多組元活性劑配方,并取得了較好的效果,但關(guān)于活性劑增加熔深的機(jī)制目前仍存在一定爭議。其中,關(guān)于氧化物活性劑的爭議最多。學(xué)術(shù)界普遍認(rèn)為氧化物增加熔深的機(jī)制有兩種:表面張力理論[6]和電弧收縮理論[7]。表面張力理論認(rèn)為氧化物在焊接過程中分解出的氧元素能夠影響熔池行為,使熔池表面張力溫度梯度由負(fù)變正,引起熔池內(nèi)部馬蘭格尼對流模式和傳熱方式的轉(zhuǎn)變,形成窄而深的焊縫。這種理論目前在氧化物影響熔池行為的數(shù)值模擬[8]及工藝試驗(yàn)[9]中得到了證實(shí)。然而,受制于現(xiàn)有電弧監(jiān)測技術(shù)(如高速攝影幀率、曝光率及濾光片波長等不同)和數(shù)學(xué)計(jì)算模型假設(shè)條件過多等因素,不同學(xué)者對于氧化物影響電弧行為的機(jī)制的看法并不一致,甚至出現(xiàn)相反的結(jié)論。

        電弧光譜信息中包含了大量的能夠反映電弧熱物理行為的特征譜線,例如活性劑粒子的解離、電離狀態(tài)、電弧電子溫度等[10-11]。文中搭建了一套電弧形態(tài)與電弧空域光譜同步采集系統(tǒng),對3種典型氧化物活性劑下A-TIG焊的電弧空域光譜特征及對電弧行為的影響機(jī)制進(jìn)行了分析。

        1 試驗(yàn)方法及測量原理

        1.1 試驗(yàn)方法

        母材選用尺寸為100 mm×80 mm×8 mm的304不銹鋼,其成分如表1所示。試驗(yàn)選用的焊接方法為定點(diǎn)直流正接TIG焊。焊前對母材表面進(jìn)行打磨、乙醇擦拭處理,并涂覆3種單一氧化物活性劑(SiO2、TiO2、B2O3),活性劑的熱物理性能參數(shù)[12]如表2所示。試驗(yàn)選用的焊接工藝參數(shù)如表3所示。

        表1 304不銹鋼成分1)Table 1 Composition of 304 stainless steel

        表2 3種氧化物活性劑的熱物理性能參數(shù)Table 2 Thermophysical parameters of three oxide active agents

        表3 焊接試驗(yàn)參數(shù)Table 3 Experimental welding parameters

        圖1 光譜信息采集系統(tǒng)Fig.1 Acquisition system of spectrum information

        表4 光譜儀技術(shù)參數(shù)Table 4 Technical parameters of spectrometer

        1.2 電弧形態(tài)與電弧空域光譜同步采集系統(tǒng)

        圖1所示為搭建的電弧形態(tài)與電弧空域光譜同步采集系統(tǒng)。該系統(tǒng)由荷蘭Avantes公司生產(chǎn)的AvaSpec-ULS3648-10-USB2型10通道光譜儀、光纖探頭、擋光板、二維移動平臺、奧林巴斯i-speed 3高速攝像機(jī)、濾光片6部分組成,光譜儀技術(shù)參數(shù)如表4所示。光纖探頭安裝于二維移動平臺,光纖探頭緊貼擋光板到電弧軸線的距離d=3.5 mm,通過移動光纖探頭的位置來實(shí)現(xiàn)對電弧等離子體的空域掃描;高速攝像機(jī)位于光纖探頭的另一側(cè),采樣頻率為60幀/s。

        由于定點(diǎn)TIG焊電弧在空間上呈軸對稱分布,因而在進(jìn)行電弧空域掃描時(shí)只對電弧右半部分進(jìn)行逐點(diǎn)掃描測試。沿電弧軸線方向?qū)⒌入x子體分為3層:陽極區(qū)附近(第1層)、弧柱中心(第2層)、陰極區(qū)附近(第3層),每層距離熔池表面的高度分別為0.5、1.5、2.5mm;每一層從電弧軸線沿著水平方向以0.7 mm的步距進(jìn)行移動,電弧等離子體局部采集位置如圖2所示。

        圖2 電弧等離子體局部采集位置Fig.2 Local acquisition position of arc plasma

        1.3 特征譜線的標(biāo)定

        為研究氧化物對TIG焊電弧行為的影響機(jī)制,采用所搭建的電弧空域光譜采集系統(tǒng)對活性劑粒子及電弧空間中氬、鐵等主要帶電粒子的特征譜線進(jìn)行測量及標(biāo)定。

        由于Si、Ti、B為活性劑中所特有的元素,因此將SiI(288.15nm)、BI(249.77nm)、TiI(280.24nm)分別作為SiO2、B2O3、TiO2活性劑的追蹤元素(如圖3所示)。

        圖3 活性粒子的特征譜線Fig.3 Characteristic spectral lines of active particles

        由于ArⅡ和FeⅡ主要集中于370~480nm和220~290nm波段之間(如圖4所示),同時(shí)考慮到特征譜線一般是選擇波段中強(qiáng)度最強(qiáng)的譜線,因此分別將434.80nm的ArⅡ和274.93nm的FeⅡ作為電弧空間中氬、鐵帶電粒子的特征譜線。

        圖4 Ar和Fe離子的特征譜線Fig.4 Characteristic spectral lines of Ar and Fe ions

        1.4 電弧電子溫度計(jì)算

        采用Boltzmann作圖法計(jì)算電弧空間不同位置的電弧電子溫度。選取分布在380~480nm波段的5條ArⅡ譜線作為特征譜線,對照NIST數(shù)據(jù)庫,找出特征譜線波長對應(yīng)的躍遷幾率、特征強(qiáng)度及激發(fā)態(tài)能量。所選取的5條特征譜線參數(shù)如表5所示。

        表5 特征譜線參數(shù)Table 5 Parameters of characteristic spectral lines

        根據(jù)Boltzmann作圖法計(jì)算電弧等離子體溫度的原理[13],電弧等離子體發(fā)射系數(shù)與粒子密度之間的關(guān)系可以表示為

        式中,εv為發(fā)射系數(shù),Ajk為躍遷幾率,h為普朗克常數(shù),vjk為能級j到能級k的躍遷光子的頻率,Z(T)為粒子分配函數(shù),gj為統(tǒng)計(jì)權(quán)重,K為玻爾茲曼常數(shù),Ej為低能級電離能,T為等離子體中的電子溫度,n為粒子位于每一個(gè)能級的總粒子數(shù)密度。化解、整理公式,最后將等式兩邊同時(shí)取對數(shù),得

        式中,I為特征強(qiáng)度,λ為波長,D為常數(shù),與譜線種類無關(guān)。將選取的5條ArⅡ特征譜線的參數(shù)代入式(2),可獲取各特征譜線所對應(yīng)的縱坐標(biāo)ln[Iλ/(Ajkgj)]值,再進(jìn)行線性擬合得到斜率-1/(kT),進(jìn)而求得電弧電子溫度。

        2 試驗(yàn)結(jié)果

        2.1 不同活性劑下焊縫的形貌特征

        圖5為不同氧化物活性劑作用下的焊縫截面圖。從圖中可以明顯看出:表面涂覆活性劑后得到的焊縫深而窄,而表面沒有涂覆活性劑后得到的焊縫淺而寬;涂覆了氧化物活性劑后焊縫熔深顯著增加,熔寬顯著減小,其中B2O3活性劑影響最明顯,SiO2活性劑影響次之,TiO2活性劑的影響最小。

        圖5氧化物活性劑作用下的焊縫截面Fig.5 Weld sections under the action of oxide active agents

        圖6 所示為不同氧化物活性劑作用下焊接電流對焊縫熔寬、熔深的影響??梢钥闯?,焊縫的熔寬及熔深都與焊接電流呈線性關(guān)系,隨著焊接電流的增大,焊接熔寬與熔深都隨之增大。熔深增加率Kp依次為:B2O3>SiO2>TiO2>無活性劑;無活性劑的熔寬增加率明顯大于涂覆活性劑后的熔寬增加率,熔寬增加率Kw依次為:無活性劑>TiO2>SiO2>B2O3。

        2.2 活性元素光譜的空域分布特征

        圖7為涂覆3種氧化物活性劑后Si I(288.15nm)、BI(249.77nm)、TiI(280.24nm)追蹤元素的譜線空域分布圖。對比3種追蹤元素的譜線特征,可以發(fā)現(xiàn)TiI的譜線強(qiáng)度明顯低于SiI、BI,且只在陽極區(qū)附近(第1層)中心區(qū)域檢測到非常微弱的Ti I譜線(相對強(qiáng)度不足1000,幾乎可以忽略),這說明TiO2活性劑粒子在焊接時(shí)并未進(jìn)入到電弧空間中;而對于SiI、BI兩種追蹤元素而言,陽極區(qū)附近(第1層)、陰極區(qū)附近(第3層)及弧柱中心區(qū)域(第2層)都能檢測到特征譜線,且在電弧軸線方向上都呈現(xiàn)出弧柱中心區(qū)域譜線的相對強(qiáng)度明顯高于其他兩個(gè)區(qū)域的情況,這表明SiO2、B2O3活性劑粒子在TIG焊電弧作用下蒸發(fā)并進(jìn)入到電弧空間中,且蒸發(fā)的活性劑粒子主要分布于弧柱中心區(qū)域。

        2.3 氬、鐵粒子光譜的空域分布特征

        圖8為未涂覆和涂覆3種氧化物活性劑后ArⅡ(434.80nm)譜線和FeⅡ(274.93nm)譜線的空域分布圖。未涂覆和涂覆活性劑后的ArⅡ(434.80nm)譜線相對強(qiáng)度都呈現(xiàn)出隨距陰極區(qū)距離的增加(從第3層到第1層逐漸降低)而逐漸減小的趨勢,這是因?yàn)樵娇拷帢O區(qū)(鎢極),電弧能量密度越集中,越有利于促進(jìn)Ar原子的電離;SiO2、B2O3活性劑作用下的ArⅡ譜線相對強(qiáng)度普遍高于無活性劑的情況,說明這兩種活性劑能夠促進(jìn)Ar原子的電離;與SiO2、B2O3相反,TiO2活性劑作用下ArⅡ譜線的相對強(qiáng)度明顯下降,這是因?yàn)門iO2活性劑是金屬氧化物且TiI電離能較低,使得Ti原子優(yōu)先被電離(ArⅡ電離能為27.62966eV,TiI電離能為6.82812eV),從而導(dǎo)致ArⅡ譜線相對強(qiáng)度降低,表明TiO2能夠抑制Ar粒子的電離。

        未涂覆和涂覆活性劑后的FeⅡ(274.93 nm)譜線相對強(qiáng)度在軸向的分布規(guī)律與ArⅡ(434.80 nm)相反,即從陽極區(qū)附近到陰極區(qū)附近(從第1層到第3層)譜線的相對強(qiáng)度逐漸減小,這是因?yàn)樵娇拷鄢乇砻妫枠O區(qū)附近),蒸發(fā)進(jìn)入到電弧空間的鐵蒸氣濃度越高、電離越明顯;3種氧化物活性劑的引入都會引起FeⅡ相對強(qiáng)度的降低,其中SiO2的抑制作用最明顯,B2O3次之,TiO2抑制作用最弱。

        圖7 活性劑粒子譜線的空域分布特征Fig.7 Spatial distribution characteristics of active agent particles’spectral lines

        圖8 ArⅡ和FeⅡ譜線的空域分布特征Fig.8 Spatial distribution characteristics of ArⅡand FeⅡspectral lines

        2.4 電弧形態(tài)與電子溫度場空域分布特征

        圖9 為未涂覆和涂覆氧化物活性劑后TIG焊的電弧形態(tài)和進(jìn)行二值化圖像處理算法后提取的等離子體輪廓圖??梢钥闯觯钚詣㏕iO2對電弧行為的影響非常微弱,電弧形態(tài)基本不變,這與2.1節(jié)中Ti I(280.24nm)追蹤元素在電弧空間的分布規(guī)律一致(活性劑粒子并未進(jìn)入電弧空間);而活性劑SiO2、B2O3使電弧發(fā)生了明顯的收縮,對比2.1節(jié)中Si I(288.15 nm)、B I(249.77 nm)追蹤元素的分布規(guī)律,分析可知蒸發(fā)進(jìn)入電弧空間的活性劑粒子能夠引起電弧收縮。

        圖9電弧形態(tài)及等離子體輪廓Fig.9 Shapes of arc and profiles of plasma

        圖10 為采用Boltzmann作圖法計(jì)算得到的未涂覆和涂覆氧化物后陽極區(qū)附近(第1層)、弧柱中心區(qū)域(第2層)、陰極區(qū)附近(第3層)的電弧電子溫度分布圖。可以看出,從陰極區(qū)附近到陽極區(qū)附近(從第3層到第1層),電弧電子溫度逐漸降低,這與Tanaka等[14]的結(jié)論一致。此外,3種活性劑的引入并未對電弧電子溫度產(chǎn)生明顯影響,其中SiO2、B2O3使電弧電子溫度略微升高、TiO2使電弧電子溫度略微下降。這表明氧化物作用下引起的電弧收縮并不會對電弧整體溫度產(chǎn)生較大影響。

        圖10 電弧電子溫度的空域分布特征Fig.10 Spatial distribution characteristics of arc electron temperature

        3 分析與討論

        對于氧化物影響TIG焊電弧行為的機(jī)制,學(xué)術(shù)界存在兩種觀點(diǎn):負(fù)離子理論[15]及陽極斑點(diǎn)收縮理論[16]。負(fù)離子理論認(rèn)為,涂覆于熔池表面的活性劑在電弧熱源作用下解離形成氧原子、分子吸附電弧外圍的自由電子,導(dǎo)致電弧強(qiáng)制收縮。通過2.2節(jié)中對3種氧化物作用下空域光譜特征的分析可知,在涂覆TiO2活性劑的電弧空間中并未檢測到明顯的Ti I和電弧收縮現(xiàn)象,這說明TiO2并不支持負(fù)離子理論和陽極斑點(diǎn)收縮理論;而對于SiO2、B2O3,電弧空間中都檢測到了明顯的Si I、B I和電弧收縮現(xiàn)象,說明這兩種活性劑對電弧行為的影響符合負(fù)離子理論。陽極斑點(diǎn)收縮理論則認(rèn)為,高熔點(diǎn)、高電阻率的氧化物只在電弧中心溫度較高、電導(dǎo)率相對較大的區(qū)域分解和解離,導(dǎo)致陽極斑點(diǎn)收縮,進(jìn)而引起電弧導(dǎo)電通道減小,能量密度增大。由于B2O3的熔點(diǎn)遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于TiO2、SiO2,因此B2O3并不支持這種理論;對于高熔點(diǎn)SiO2,由于其鍵合形式為共價(jià)鍵,電阻率極大,因而陽極斑點(diǎn)收縮也是SiO2影響電弧行為的機(jī)制之一。

        綜上所述,氧化物對TIG焊電弧行為的影響機(jī)制與氧化物本身的性質(zhì)有關(guān)。對于低熔點(diǎn)的氧化物(B2O3)而言,其影響電弧行為的機(jī)制為負(fù)離子理論;對于高熔點(diǎn)、高電阻率的氧化物(SiO2)而言,電弧外圍形成的負(fù)離子和陽極斑點(diǎn)收縮都會影響電弧行為;同時(shí),氧化物引起的電弧收縮并不會對電弧電子溫度產(chǎn)生明顯的影響。

        4 結(jié)論

        1)TiO2并不會對TIG焊電弧行為產(chǎn)生明顯的影響;B2O3、SiO2能夠在焊接時(shí)進(jìn)入電弧空間并引起電弧收縮現(xiàn)象。

        2)B2O3、SiO2引起的電弧收縮對整個(gè)電弧電子溫度場的影響不大。

        3)氧化物活性劑對電弧行為的影響機(jī)制與活性劑本身的熔點(diǎn)、電導(dǎo)率等性質(zhì)相關(guān)。

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