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        基于子域法的雙勵磁雙調(diào)制軸向式磁場調(diào)制永磁齒輪磁場分析

        2022-10-31 13:56:04葛研軍王大明馬雪祺
        中國機械工程 2022年20期
        關(guān)鍵詞:有限元區(qū)域

        葛研軍 劉 放 王大明 馬雪祺 于 涵

        大連交通大學機械工程學院,大連,116028

        0 引言

        磁場調(diào)制永磁齒輪(field modulated permanent magnetic gears,F(xiàn)MPMG)是一種新型傳動裝置,在風力渦輪機[1]、船舶推進系統(tǒng)[2]等應(yīng)用場合都具有傳統(tǒng)機械齒輪不可替代的優(yōu)勢。FMPMG具有永磁體利用率高、電磁轉(zhuǎn)矩大及自動過載保護等優(yōu)點。FMPMG可分為徑向式FMPMG(radial FMPMG,RFMPMG)及軸向式(axial FMPMG,AFMPMG)兩種結(jié)構(gòu)[3]。

        RFMPMG具有結(jié)構(gòu)緊湊、傳動效率高等優(yōu)點[4],但由于該裝置有三層轉(zhuǎn)子、兩層氣隙,且調(diào)磁極塊結(jié)構(gòu)復雜,因而其樣機制造困難,目前鮮有應(yīng)用;而AFMPMG無需精確對中,且調(diào)磁極塊結(jié)構(gòu)簡單,軸向距離小[5],樣機制造容易,易于應(yīng)用于生產(chǎn)實際中。

        AFMPMG的主要缺點是軸向及切向磁路不封閉,存在較嚴重漏磁,導致其轉(zhuǎn)矩密度偏低(一般不大于70 kN·m/m3)。為此本文提出一種雙勵磁、雙調(diào)制的AFMPMG結(jié)構(gòu)(dual-excitation modulation AFMPMG,DEM-AFMPMG)。DEM-AFMPMG在AFMPMG基礎(chǔ)上增加了一個調(diào)磁環(huán),使低速永磁轉(zhuǎn)子同時受到兩個調(diào)磁環(huán)的雙向調(diào)制作用,增加的調(diào)磁環(huán)可將AFMPMG氣隙中的漏磁通轉(zhuǎn)化為有效諧波并再次作用在低速永磁轉(zhuǎn)子上,進一步提高了低速永磁體的利用率,增大其輸出轉(zhuǎn)矩及轉(zhuǎn)矩密度。經(jīng)3D有限元計算,DEM-AFMPMG轉(zhuǎn)矩密度可高達130 kN·m/m3以上,約為現(xiàn)有AFMPMG的1.9倍。

        另外,現(xiàn)有AFMPMG的氣隙磁通密度及電磁轉(zhuǎn)矩一般采用3D有限元方法計算,與2D有限元相比,3D有限元雖然計算精度高,但計算速度慢,需耗費大量計算機資源[6-7]。為此,本文提出一種基于子域法計算DEM-AFMPMG氣隙磁場及電磁轉(zhuǎn)矩的模型。與3D有限元法相比,本文方法計算速度快且耗時少。

        1 DEM-AFMPMG結(jié)構(gòu)分析

        圖1所示為現(xiàn)有AFMPMG的機械結(jié)構(gòu),其工作原理如下:當AFMPMG調(diào)磁極塊數(shù)目為高速永磁轉(zhuǎn)子與低速永磁轉(zhuǎn)子磁極對數(shù)之和時,調(diào)磁環(huán)可對高速永磁轉(zhuǎn)子和低速永磁轉(zhuǎn)子形成的氣隙磁場進行調(diào)制[8],使磁極對數(shù)不同的高速/低速永磁轉(zhuǎn)子形成磁場耦合,進而傳遞轉(zhuǎn)速和轉(zhuǎn)矩。

        圖1 AFMPMG機械結(jié)構(gòu)Fig.1 Mechanical structure of AFMPMG

        由圖1可知,AFMPMG的軸向磁路較長,磁通線由高速永磁轉(zhuǎn)子穿過調(diào)磁環(huán)到達低速永磁轉(zhuǎn)子時的磁阻較大,使軸向及切向的端部磁路較難封閉,導致漏磁及磁損耗增大,永磁體利用率較低,所傳遞的轉(zhuǎn)矩及運行效率也偏低。

        為減小AFMPMG漏磁及磁損耗,筆者在圖1所示AFMPMG低速轉(zhuǎn)子的右側(cè)再增加一個圖2所示的調(diào)磁環(huán)(以下稱外調(diào)磁環(huán)),此時原有調(diào)磁環(huán)仍處在高速永磁轉(zhuǎn)子與低速永磁轉(zhuǎn)子之間(以下稱內(nèi)調(diào)磁環(huán))。

        圖2 DEM-AFMPMG機械結(jié)構(gòu)Fig.2 Mechanical structure of DEM-AFMPMG

        由圖2可知,外調(diào)磁環(huán)的引入使低速永磁轉(zhuǎn)子夾在內(nèi)、外兩個調(diào)磁環(huán)之間,減小了內(nèi)、外調(diào)磁環(huán)調(diào)制磁通線時的磁阻,使更多磁通線穿過低速永磁轉(zhuǎn)子,提高了低速永磁體利用率;另外,外調(diào)磁環(huán)的引入還將AFMPMG軸向漏磁通調(diào)制轉(zhuǎn)化為有用諧波,并再次作用在低速永磁轉(zhuǎn)子上,較好地解決了AFMPMG漏磁大、轉(zhuǎn)矩密度及傳動效率低等問題。

        2 基于子域法建立DEM-AFMPMG的2D解析模型

        2.1 模型假設(shè)

        為方便分析,設(shè)圖2所示DEM-AFMPMG所有轉(zhuǎn)子的內(nèi)、外半徑均相等;另外,為使內(nèi)、外調(diào)磁環(huán)達到相同的調(diào)制效果,令內(nèi)調(diào)磁極塊、外調(diào)磁極塊結(jié)構(gòu)相同且數(shù)量相等。

        若設(shè)DEM-AFMPMG高速永磁轉(zhuǎn)子與低速永磁轉(zhuǎn)子的磁極對數(shù)分別為ph及pl,各轉(zhuǎn)子的內(nèi)、外半徑及平均半徑均為R1、R2及Rm,內(nèi)、外調(diào)磁極塊數(shù)均為N,即

        (1)

        將圖2所示模型在Rm處展開,可得圖3所示的DEM-AFMPMG 2D解析模型。

        圖3 DEM-AFMPMG 2D解析模型Fig.3 2D analytical model of DEM-AFMPMG

        2.2 子域劃分

        將圖3所示的DEM-AFMPMG 模型劃分為7個區(qū)域。其中,Ⅰ為高速轉(zhuǎn)子永磁體區(qū)域;Ⅱ為高速側(cè)氣隙區(qū)域;Ⅲ為內(nèi)調(diào)磁環(huán)區(qū)域;Ⅳ為低速側(cè)內(nèi)氣隙區(qū)域;Ⅴ為低速轉(zhuǎn)子永磁體區(qū)域;Ⅵ為低速側(cè)外氣隙區(qū)域;Ⅶ為外調(diào)磁環(huán)區(qū)域。

        圖3所示模型為恒定磁場,其磁矢位應(yīng)滿足泊松方程或拉普拉斯方程,因此,圖3中的有源磁動勢可采用泊松方程求解,而無源磁動勢則采用拉普拉斯方程求解。

        在區(qū)域Ⅰ和Ⅴ中應(yīng)用泊松方程,有

        2A=-μ0j

        (2)

        式中,A為磁動勢;μ0為真空磁導率;j為磁化電流密度。

        在區(qū)域Ⅱ、Ⅲ、Ⅳ、Ⅵ和Ⅶ中應(yīng)用拉普拉斯方程,有

        2A=0

        (3)

        軸向及切向氣隙磁通密度可分別表達為[9]

        (4)

        (5)

        3 氣隙磁場及電磁轉(zhuǎn)矩理論計算

        3.1 區(qū)域Ⅰ和區(qū)域Ⅴ氣隙磁通密度計算

        區(qū)域Ⅰ中應(yīng)用泊松方程,有

        (6)

        0≤z≤z10≤θ≤2π

        式中,Mz為軸向磁化強度。

        Mz可通過傅里葉變換得到:

        (7)

        (8)

        式中,δh為高速永磁轉(zhuǎn)子初始相位角;Mn為磁極化強度,n=1,2,…;Br為永磁體剩磁;αh為高速永磁體極弧比。

        由于z=0處磁場切向分量為零,加之軸向磁場分量具有連續(xù)性,因此可得邊界條件:

        AⅠ(θ,z1)=AⅡ(θ,z1)

        (9)

        將式(7)和式(8)代入式(6),根據(jù)邊界條件式(9)可獲得區(qū)域Ⅰ的磁動勢AⅠ,進而可通過式(4)及式(5)獲得區(qū)域Ⅰ的軸向氣隙磁通密度BⅠz(θ,z)和切向氣隙磁通密度BⅠθ(θ,z):

        (10)

        (11)

        (12)

        (13)

        (14)

        (15)

        (16)

        (17)

        (18)

        m=1,3,5…

        同理,可求得區(qū)域Ⅴ磁動勢AⅤ、軸向氣隙磁通密度分量BⅤz(θ,z)和切向氣隙磁通密度分量BⅤθ(θ,z)。

        3.2 區(qū)域Ⅱ、區(qū)域Ⅳ和區(qū)域Ⅵ氣隙磁通密度計算

        區(qū)域Ⅱ中應(yīng)用拉普拉斯方程,有

        (19)

        z1≤z≤z20≤θ≤2π

        由于z=z2處調(diào)磁極塊與氣隙區(qū)域邊界之間的磁場具有連續(xù)性,其他位置切向磁場均為0,因此有

        (20)

        z=z1處的切向磁場也具有連續(xù)性,因此其邊界條件為

        (21)

        將式(20)及式(21)的偏微分方程解代入式(19)中可得區(qū)域Ⅱ的磁動勢AⅡ,進而根據(jù)式(4)和式(5)獲得區(qū)域Ⅱ的軸向氣隙磁通密度BⅡz(θ,z)及切向氣隙磁通密度BⅡθ(θ,z):

        (22)

        (23)

        (24)

        (25)

        (26)

        (27)

        (28)

        (29)

        (30)

        (31)

        同理,可求得區(qū)域Ⅳ的磁動勢AⅣ及區(qū)域Ⅵ的磁動勢AⅥ、區(qū)域Ⅳ的軸向氣隙磁通密度BⅣz(θ,z)及切向氣隙磁通密度BⅣθ(θ,z)、區(qū)域Ⅵ的軸向氣隙磁通密度BⅥz(θ,z)及切向氣隙磁通密度BⅥθ(θ,z)。

        3.3 區(qū)域Ⅲ和區(qū)域Ⅶ氣隙磁通密度計算

        區(qū)域Ⅲ中應(yīng)用拉普拉斯方程,有

        (32)

        z2≤z≤z3θi≤θ≤θi+β

        與空氣隙相比,調(diào)磁極塊的磁導率為無窮大,其兩側(cè)的磁場切向分量為0,因此邊界條件為

        (33)

        由于調(diào)磁極塊兩側(cè)與氣隙之間的磁場也具有連續(xù)性,故有

        (34)

        應(yīng)用分離變量法將邊界條件式(33)及式(34)分別代入式(32)中,可得區(qū)域Ⅲ的磁動勢AⅢ,進而根據(jù)式(4)和式(5)獲得區(qū)域Ⅲ的軸向氣隙磁通密度BⅢz(θ,z)及切向氣隙磁通密度BⅢθ(θ,z):

        (35)

        (36)

        k=1,2,3,…

        (37)

        (38)

        (39)

        (40)

        同理,可求得區(qū)域Ⅶ磁動勢AⅦ、軸向氣隙磁通密度BⅦz(θ,z)和切向氣隙磁通密度BⅦθ(θ,z)。

        求出DEM-AFMPMG 7個子區(qū)域的軸向及切向氣隙磁通密度后,即可基于麥克斯韋應(yīng)力張量法得到DEM-AFMPMG電磁轉(zhuǎn)矩:

        (41)

        (42)

        (43)

        式中,L為DEM-AFMPMG的軸向總長度,即L=z8-z0;TA為圖3中區(qū)域Ⅱ及區(qū)域Ⅳ內(nèi)調(diào)磁環(huán)所形成的電磁轉(zhuǎn)矩,其作用方式、作用機理及轉(zhuǎn)矩大小均與現(xiàn)有的AFMPMG相同;TD為圖3中區(qū)域Ⅵ外調(diào)磁環(huán)所形成的電磁轉(zhuǎn)矩。

        因此,由式(41)可知:DEM-AFMPMG所形成的電磁轉(zhuǎn)矩由兩部分組成,其中內(nèi)調(diào)磁環(huán)形成AFMPMG模式轉(zhuǎn)矩TA,而外調(diào)磁環(huán)則形成DEM-AFMPMG模式轉(zhuǎn)矩TD,即在AFMPMG基礎(chǔ)上,DEM-AFMPMG又增加了一個附加轉(zhuǎn)矩TD。

        由式(41)還可知:T與BⅡz(θ,z)、BⅡθ(θ,z)、BⅣz(θ,z)、BⅣθ(θ,z)、BⅥz(θ,z)、BⅥθ(θ,z)均有關(guān),說明圖2(或圖3)所示的內(nèi)調(diào)磁環(huán)、外調(diào)磁環(huán)均對DEM-AFMPMG有調(diào)制作用,且外調(diào)磁環(huán)的引入,使式(41)中含有BⅥz(θ,z)與BⅥθ(θ,z)的乘積項,有效提高了DEM-AFMPMG電磁轉(zhuǎn)矩T及轉(zhuǎn)矩密度。

        4 理論值與有限元值結(jié)果比較

        表1所示為DEM-AFMPMG相關(guān)結(jié)構(gòu)參數(shù)。表1中,永磁體材料牌號為NdFe35,充磁方向為軸向;軛鐵材料為Q235。

        表1 DEM-AFMPMG結(jié)構(gòu)參數(shù)

        4.1 氣隙磁通密度

        DEM-AFMPMG主要包括軸向和切向氣隙磁通密度,其中軸向氣隙磁通密度對電磁轉(zhuǎn)矩影響最大。

        基于表1所示結(jié)構(gòu)參數(shù)建立圖2所示的DEM-AFMPMG有限元模型,并分別對高速側(cè)和低速側(cè)氣隙進行3D有限元波形掃描,獲得圖4所示DEM-AFMPMG 軸向氣隙的有限元磁通密度波形。同時,基于式(22)和式(23)獲得圖4所示的DEM-AFMPMG 軸向氣隙的理論計算磁通密度波形。

        (a)DEM-AFMPMG高速側(cè)氣隙

        (b)DEM-AFMPMG低速側(cè)內(nèi)氣隙

        (c)DEM-AFMPMG低速側(cè)外氣隙圖4 DEM-AFMPMG氣隙磁通密度Fig.4 Air-gap magnetic tightness of DEM-AFMPMG

        圖4中,3D有限元的永磁體掃描半徑為50~105 mm;掃描間距為1 mm;掃描角度為0~360°。由圖可知,3D有限元計算結(jié)果與本文所建模型的理論解基本一致。其中,圖4a所示的高速側(cè)氣隙磁場共有8個主波形,38個諧波形,分別與高速及低速永磁轉(zhuǎn)子磁極對數(shù)相匹配;圖4b及圖4c所示的低速側(cè)內(nèi)外氣隙磁場均為38個諧波形,與低速永磁轉(zhuǎn)子磁極對數(shù)相等,說明內(nèi)調(diào)磁環(huán)、外調(diào)磁環(huán)對高速及低速永磁轉(zhuǎn)子調(diào)制正確,并形成所需的傳動比傳遞轉(zhuǎn)速及轉(zhuǎn)矩。

        另外,圖4中的3D有限元高速側(cè)氣隙磁通密度為-1.53~1.53 T,低速側(cè)內(nèi)氣隙磁通密度、外氣隙磁通密度分別為-1.60~1.65 T和-1.72~1.74 T;而理論計算的高速側(cè)氣隙磁通密度為-1.50~1.53 T,低速側(cè)內(nèi)氣隙磁通密度、外氣隙磁通密度分別為-1.60~1.64 T和-1.71~1.71 T,與3D有限元結(jié)果之間的誤差不大于5%,說明本文所建模型準確度高。

        3D有限元計算時間為1 h,而本文所建模型的計算時間僅為0.2 h,且不包含3D有限元所必備的模型建立、網(wǎng)格劃分和求解設(shè)置等時間。因此,本文所建模型不僅準確度高,而且耗時短,可快速準確獲得DEM-AFMPMG氣隙磁通密度波形及其數(shù)值計算結(jié)果。

        4.2 靜態(tài)電磁轉(zhuǎn)矩

        (a)DEM-AFMPMG高速永磁轉(zhuǎn)子

        圖5所示為基于3D有限元仿真及由式(41)所得的DEM-AFMPMG高速/低速永磁轉(zhuǎn)子靜態(tài)電磁轉(zhuǎn)矩曲線。其中,圖5a所示為低速永磁轉(zhuǎn)子不動、高速永磁轉(zhuǎn)子旋轉(zhuǎn)一對磁極距時的靜態(tài)轉(zhuǎn)矩,圖5b則為高速永磁轉(zhuǎn)子不動、低速永磁轉(zhuǎn)子旋轉(zhuǎn)一對磁極距時的靜態(tài)轉(zhuǎn)矩。

        (b)DEM-AFMPMG低速永磁轉(zhuǎn)子圖5 DEM-AFMPMG靜態(tài)電磁轉(zhuǎn)矩Fig.5 Static electromagnetic torque of DEM-AFMPMG

        由圖5可知,高速永磁轉(zhuǎn)子和低速永磁轉(zhuǎn)子的靜態(tài)電磁轉(zhuǎn)矩均為正弦曲線,且本文所建模型的理論計算曲線與3D有限元曲線基本重合。圖5中,3D有限元所得的高速及低速永磁轉(zhuǎn)子最大靜態(tài)轉(zhuǎn)矩分別為27.8 N·m及130 N·m;理論計算值則分別為27 N·m和128 N·m,與3D有限元結(jié)果之間的誤差不大于5%。另外,無論是3D有限元還是理論計算,其高速、低速的永磁轉(zhuǎn)子最大靜態(tài)轉(zhuǎn)矩比值均為4.75,符合本文所設(shè)定的傳動比。

        與氣隙磁通密度的計算時間相同,圖5a和圖5b的有限元計算時間為1 h,而本文所建模型的理論計算時間則為0.2 h,同樣說明本文所建的轉(zhuǎn)矩模型不僅準確度高,而且耗時短,可快速準確地獲得DEM-AFMPMG電磁轉(zhuǎn)矩波形及其數(shù)值結(jié)果。

        另外,3D有限模型所得的轉(zhuǎn)矩密度為134 kN·m/m3,而理論計算則為132 kN·m/m3,與3D有限元結(jié)果之間的誤差為1.5%。

        5 結(jié)論

        (1)DEM-AFMPMG在AFMPMG基礎(chǔ)上引入一個外調(diào)磁環(huán),外調(diào)磁環(huán)的引入,使低速永磁轉(zhuǎn)子同時受到雙向勵磁與雙向調(diào)制作用,不僅減少了低速永磁轉(zhuǎn)子的軸向磁阻及軸向漏磁,而且還將AFMPMG的漏磁通轉(zhuǎn)化為有用諧波并再次作用在低速永磁轉(zhuǎn)子上,提高了永磁體利用率,增大了DEM-AFMPMG輸出轉(zhuǎn)矩及轉(zhuǎn)矩密度(不小于130 kN·m/m3)。

        (2)子域計算法雖然是DEM-AFMPMG 3D模型的等效2D模型,但它包括了3D有限元法的軸向及切向漏磁計算,因此其計算精度與3D有限元法相當(計算誤差不大于5%),且子域法計算速度快、耗時少(氣隙磁通密度及電磁轉(zhuǎn)矩的計算時間均較3D有限元法節(jié)省80%)。

        (3)子域法所建電磁轉(zhuǎn)矩模型表明,DEM-AFMPMG電磁轉(zhuǎn)矩由內(nèi)調(diào)磁環(huán)所形成的TA及外調(diào)磁環(huán)所形成的TD兩部分組成,其中,TA與AFMPMG模式相當,而TD則為引入外調(diào)磁環(huán)后的附加轉(zhuǎn)矩,即外調(diào)磁環(huán)的引入,可有效提高DEM-AFMPMG的電磁轉(zhuǎn)矩及轉(zhuǎn)矩密度;另外,與3D有限元法相比,基于子域法的計算模型可在參數(shù)優(yōu)化時直接替換尺寸參數(shù),不需要重新建模,便于DEM-AFMPMG不同結(jié)構(gòu)尺寸的分析與比較。

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