張娟,連忠平 ,袁景追,喻嵐,王帥星 *,杜楠
(1.中國航發(fā)貴州紅林航空動力控制科技有限公司,貴州 貴陽 550009;2.南昌航空大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院,江西 南昌 330063;3.中國航發(fā)中傳機械有限公司,湖南 長沙 410200)
鈦合金由于密度低、比強度高、耐蝕性好等特點,常作為飛機和航天器的主要結(jié)構(gòu)材料[1-2]。但鈦合金存在硬度低(通常不超過350 HV)、耐磨性差、導(dǎo)熱性不良等缺點,在使用過程中易產(chǎn)生“鈦火”故障。因此,往往需要進行表面處理以提高硬度和改善耐磨性?;瘜W(xué)鍍鎳、電鍍硬鉻、復(fù)合電鍍等是航空鈦合金部件常用的表面處理工藝[3-6]。然而,鈦合金表面往往存在一層致密的氧化膜,去除后依舊會快速氧化,形成新的氧化膜,嚴重影響其導(dǎo)電性和化學(xué)活性,使得施鍍困難、鍍層結(jié)合力差。因此,適當?shù)念A(yù)處理是鈦合金表面獲得良好鍍層的前提。
通常而言,鈦合金鍍前處理有兩大類:一類是“活性膜”法,包括氫化、氟化、氟化物-磷酸鹽轉(zhuǎn)化等[7-9];另一類是金屬底層法,包括浸鋅、預(yù)鍍鎳、膠體鈀活化等[10-12]。一般認為,采用氫化法、氟化法等在去除鈦合金表面原有氧化膜的同時還能形成與基體結(jié)合良好的催化活性膜[9,13],顯著提高鍍層與基體之間的結(jié)合強度。對于浸鋅和預(yù)鍍鎳,雖然多數(shù)研究認為主要是通過在鈦合金表面沉積金屬膜層來提高后續(xù)鍍層的結(jié)合力[10-11],但有關(guān)二次浸鋅過程中鈦合金表層微觀結(jié)構(gòu)的變化及鋅層的形成機理目前尚不清晰。
本文擬通過電化學(xué)測試技術(shù)、掃描電鏡分析等手段研究二次浸鋅過程中鈦合金表面電位的變化規(guī)律及浸鋅層的形成過程,同時研究采用堿性化學(xué)預(yù)鍍鎳作為前處理工藝時在化學(xué)鍍鎳初始階段鎳的沉積行為,進而探討二次浸鋅改善鍍層結(jié)合力的基本原理。本研究的結(jié)果有助于加深對二次浸鋅的認識,也可為二次浸鋅工藝的優(yōu)化提供一定的指導(dǎo)。
采用TC4鈦合金,其尺寸為50 mm × 25 mm × 2 mm,主要化學(xué)成分(以質(zhì)量分數(shù)計)為:Al 5.5% ~ 6.8%,V 3.5% ~ 4.5%,Ti余量。其金相組織為典型的初生α + β組織和次生α組織,如圖1所示。
圖1 TC4鈦合金的金相組織Figure 1 Metallographic structure of TC4 titanium alloy
鈦合金電鍍工藝流程為:化學(xué)除油→活化→一次浸鋅→退鋅→二次浸鋅→化學(xué)鍍鎳→電鍍鎳。每道工序之后用去離子水徹底清洗試樣。
1.2.1 化學(xué)除油
氫氧化鈉60 ~ 80 g/L,磷酸三鈉20 ~ 40 g/L,碳酸鈉20 ~ 40 g/L,硅酸鈉5 ~ 10 g/L,溫度60 ~ 70 ℃,時間3 ~ 5 min。
1.2.2 活化
65%(質(zhì)量分數(shù),下同)硝酸100 ~ 150 mL/L,40%(質(zhì)量分數(shù),下同)氫氟酸30 ~ 40 mL/L,室溫,時間30 ~ 60 s。
1.2.3 浸鋅
七水合硫酸鋅15 g/L,40%氫氟酸80 mL/L,乳酸20 mL/L,室溫,一次浸鋅時間2 ~ 3 min,二次浸鋅時間1 min。
1.2.4 退鋅
65%硝酸500 mL/L,室溫,時間20 ~ 40 s。
1.2.5 化學(xué)鍍鎳
六水合硫酸鎳25 ~ 30 g/L,次磷酸鈉15 g/L,氯化銨50 g/L,檸檬酸鈉60 g/L,pH 8.5 ~ 9.5(以氨水調(diào)節(jié)),溫度80 ~ 85 ℃,時間5 min。
1.2.6 電鍍鎳
氨基磺酸鎳150 ~ 250 g/L,硼酸35 g/L,六水合氯化鎳5 g/L,十二烷基硫酸鈉0.1 g/L,pH 3.5 ~ 4.5,溫度55 ~ 60 ℃,電流密度2.5 ~ 3.0 A/dm2,時間30 min。
采用上海辰華CHI 604D電化學(xué)工作站測試TC4鈦合金在浸鋅溶液中的開路電位(OCP)。參比電極為飽和甘汞電極(SCE),輔助電極為鉑電極,工作電極為TC4鈦合金試樣(暴露面積1 cm2,其余部位用環(huán)氧樹脂封閉)。文中所有電位均相對于SCE。
采用QUANTA-200場發(fā)射掃描電鏡(FESEM)觀察浸鋅層和鎳鍍層的表面微觀形貌,采用INCA X-Max50型能譜儀(EDS)分析樣品表面的元素組成。
采用中國科學(xué)院蘭州化學(xué)物理研究所的WS-2005型劃痕儀檢測鍍層(厚度約10 μm)與鈦合金基體之間的結(jié)合力。使用金剛石探針(120°錐體,半徑為200 μm)沿鍍層表面進行刻劃,界面開裂瞬間對應(yīng)的載荷指定為臨界載荷(Fc),加載速率20 N/min,載荷0 ~ 40 N,臨界載荷由聲發(fā)射信號(AES)記錄。鍍層與基體界面的結(jié)合強度(τ)按式(1)和式(2)[14]計算。
式中R為劃針頭的半徑,A為劃針頭與鍍層的接觸半徑,F(xiàn)c為臨界載荷,H為基體的硬度,K為無量綱常數(shù)(取0.15)。
圖2為TC4鈦合金一次浸鋅和二次浸鋅過程的開路電位-時間曲線。
圖2 二次浸鋅過程中鈦合金的開路電位-時間曲線Figure 2 Open circuit potential vs.time curves for titanium alloy during the process of secondary zinc dipping
由圖2中曲線a可知:在TC4鈦合金放入浸鋅液中的瞬間,電極電位急劇下降;3 s后開路電位逐漸上升;30 s后開路電位趨于穩(wěn)定。據(jù)此,將鈦合金的一次浸鋅過程分為3個階段,分別為表面氧化物溶解階段、薄鋅層生長階段及鋅層生長-溶解動態(tài)平衡階段。起初(0 ~ 3 s),TC4合金表面的氧化物被浸鋅液中的氟離子迅速破壞,基體Ti裸露并被溶解,表面電位急劇負移至-1.20 V左右,同時析出大量氣泡,相關(guān)反應(yīng)如式(3)-(5)所示[10,13]。另外,TC4鈦合金基體溶解導(dǎo)致電極/溶液界面的Ti4+濃度迅速上升,Zn2+與新鮮的鈦合金基體發(fā)生置換反應(yīng)而在表面形成薄鋅層,如式(6)所示。隨著反應(yīng)的進行,薄鋅層在鈦合金表面的覆蓋度逐漸增大,電位逐漸上升,30 s左右時開路電位升至-0.95 V。繼續(xù)延長時間(> 30 s),由于鋅層生長減緩,加上浸鋅液的微溶解作用,鋅層的生長與溶解逐漸達到動態(tài)平衡,開路電位趨于穩(wěn)定。
由圖2的曲線b可知,二次浸鋅時鈦合金的表面電位也先急劇下降至-1.0 V左右,之后迅速上升,最后穩(wěn)定在-0.95 V左右,總體規(guī)律與一次浸鋅類似,但最低電位和生長時間方面存在顯著的差異。可以判斷,退鋅并未把基體表面的一次浸鋅層除盡,在二次浸鋅時鋅會在一次浸鋅層表面繼續(xù)沉積,并且沉鋅量很少,很快就達到生長-溶解動態(tài)平衡。因此,二次浸鋅過程中上升至穩(wěn)定電位所需的時間很短暫。
由圖3a可知,酸洗后鈦合金表面的自然氧化膜被去除,試樣表面較為平坦;但從放大的SEM圖像及EDS分析結(jié)果可知,由于TC4鈦合金中α相和β相在化學(xué)組成及活性上的差異,酸洗后局部存在凸起的晶粒,主要為白色富釩塊狀物(V的質(zhì)量分數(shù)為11.04%)。由圖3b可知,一次浸鋅后基體表面長出了一層晶須狀的鋅,但晶須較短,末端較粗大,分布較為稀疏,覆蓋度不高。退鋅后基體表面的晶須狀浸鋅層發(fā)生了一定程度的溶解,但并未被完全去除,如圖3c所示。從圖3d可以看出,相比于一次浸鋅,二次浸鋅層的晶須更修長,末端更尖銳,晶須得到完全生長,且分布均勻、致密;浸鋅層在基體表面的覆蓋度更大,更有利于后續(xù)鎳在基體表面的沉積,進而得到結(jié)合力良好的鎳鍍層。
圖3 不同前處理后TC4鈦合金的表面形貌Figure 3 Surface morphologies of TC4 titanium alloy after different pretreatment steps
從圖4的曲線c可以看出,鈦合金酸洗后直接化學(xué)鍍鎳的初始電位為-0.38 V,且初期開路電位基本保持不變,之后呈緩慢上升趨勢。由曲線d可知,經(jīng)過二次浸鋅的鈦合金在化學(xué)鍍鎳溶液中的開路電位-時間曲線明顯不同:初始開路電位約為-0.67 V,隨著反應(yīng)的進行,開路電位先上升再下降,在28 s(如圖4中A1點所示)時達到極大值-0.58 V,在80 s(如圖4中A2點所示)后穩(wěn)定在-0.89 V左右。分析認為,酸洗后鈦合金表面極易在空氣中氧化形成新的氧化膜,使其化學(xué)活性降低,導(dǎo)致鎳的沉積較慢,甚至無法進行[10]。二次浸鋅后鈦合金表面形成了一層均勻致密的鋅(如圖3d所示),鋅層可有效防止鈦合金表面氧化并保持良好的化學(xué)活性[10-11],故其初始開路電位更負并可保證鎳沉積的順利進行。以下對圖4的曲線d進行詳細探討:
圖4 采用不同工藝預(yù)處理時鈦合金表面化學(xué)鍍鎳的開路電位-時間曲線Figure 4 Open circuit potential vs.time curves for electroless nickel plating on titanium alloy pretreated by different methods
(1) 0 ~ 28 s時,鍍液中的Ni2+主要與浸鋅層發(fā)生置換反應(yīng)[10,15-16],在晶須上率先沉積形成金屬鎳核,隨著反應(yīng)的進行,鎳層將晶須狀的浸鋅層逐漸覆蓋,開路電位逐漸上升。如圖5a所示,在反應(yīng)初期(10 s時),鎳優(yōu)先在晶須狀的鋅層上沉積形成如黃豆般的鎳核;在較長的晶須上鎳核會沿著晶須縱向生長,像一串串糖葫蘆;在少數(shù)較短的晶須上鎳核沿著基體表面橫向生長。這種縱橫交錯的鎳核生長方式有利于鎳層的快速覆蓋,進而形成均勻致密的鎳層。
(2) 28 ~ 80 s時,隨著浸鋅層不斷被鎳層覆蓋,置換反應(yīng)逐漸減弱,但置換反應(yīng)得到的鎳核具有自催化活性[4,10-11],鍍液中的次磷酸根離子開始發(fā)生氧化反應(yīng),同時鈦合金表面附近大量的Ni2+被還原,鍍液中的Ni2+不能及時得到補充,大量帶負電的配離子在鈦合金表面富集,造成開路電位下降。
(3) 80 s后,電位穩(wěn)定在-0.89 V左右,鎳晶核不斷增大,形成連續(xù)的鎳層。如圖5b所示,化學(xué)預(yù)鍍鎳4 min后,基體完全被鎳層覆蓋,鎳晶粒細致、均勻。
圖5 二次浸鋅預(yù)處理后鈦合金化學(xué)鍍鎳不同時間所得鎳層的微觀形貌Figure 5 Micromorphologies of nickel coating obtained by electroless plating for different time on titanium alloy pretreated by secondary zinc dipping
由圖6可知,鈦合金酸洗后直接化學(xué)鍍再電鍍所得鎳鍍層的結(jié)合力很差,在載荷為15.2 N時鍍層就開始破裂并發(fā)生起皮、褶皺現(xiàn)象,由式(1)和(2)求得結(jié)合強度約為38.1 MPa。經(jīng)過二次浸鋅預(yù)處理后鈦合金與鍍鎳層之間的結(jié)合力明顯改善,鍍層破裂的臨界載荷約為27.5 N,并且鍍層無明顯的起皮和脫落現(xiàn)象,結(jié)合強度高達67.8 MPa。
圖6 采用不同工藝預(yù)處理的鈦合金鍍鎳后的劃痕測試結(jié)果Figure 6 Scratch test results of nickel coatings on titanium alloys pretreated by different methods
圖7是對鈦合金表面進行酸洗或二次浸鋅預(yù)處理后,再化學(xué)鍍和電鍍所得鎳鍍層的表面形貌。從中可知,采用二次浸鋅預(yù)處理時所得鎳鍍層的晶粒完整、飽滿,晶粒之間連續(xù)致密;而采用酸洗預(yù)處理時鎳鍍層未形成完整、飽滿的晶粒,并存在許多孔隙,鍍層的生長雜亂無序。連續(xù)致密、結(jié)晶均勻的鍍層有利于改善鍍層的結(jié)合力[9-10],因此采用二次浸鋅預(yù)處理時鈦合金與鎳鍍層之間的結(jié)合力更好。
圖7 采用不同工藝預(yù)處理的鈦合金表面鎳鍍層(厚度都約為10 μm)的微觀形貌Figure 7 Micromorphologies of ca.10 μm-thick nickel coatings plated on titanium alloys pretreated by different methods
(1) 鈦合金的一次浸鋅過程可分為表面氧化物的溶解、薄鋅層的生長及鋅層生長-溶解動態(tài)平衡三個階段;二次浸鋅的總體規(guī)律與一次浸鋅類似,但鋅層達到生長-溶解動態(tài)平衡的時間更短。
(2) 一次浸鋅后,鈦合金表面形成了晶須狀鋅層,但鋅層的晶須較短、末端粗大,覆蓋度不高;二次浸鋅后,晶須得到完全生長且分布均勻,致密度和覆蓋度提高。
(3) 二次浸鋅處理有利于鈦合金后續(xù)的化學(xué)鍍鎳。在化學(xué)鍍鎳的初始階段,Ni2+與鋅層發(fā)生置換反應(yīng)并優(yōu)先在二次浸鋅層的晶須上形核,長、短晶須上鎳核的縱橫生長利于化學(xué)鍍鎳層的快速覆蓋;完整均勻的化學(xué)鍍鎳層使得后續(xù)電鍍鎳層的晶粒完整、飽滿,更致密。
(4) 二次浸鋅處理顯著提高了鈦合金與鍍鎳層之間的結(jié)合強度,劃痕法結(jié)果顯示二次浸鋅并化學(xué)鍍和電鍍所得鎳層與鈦合金之間的結(jié)合強度高達67.8 MPa,遠遠高于酸洗處理的鈦合金表面鎳鍍層的結(jié)合強度。