李旭勤,周 純,張鳳春,熊 倩,龔粵梅,陳 想,李 斌,吳一帆
(1.成都工業(yè)學(xué)院 材料與環(huán)境工程學(xué)院,成都 611730;2.火箭軍裝備部駐西安地區(qū)第六軍事代表室,西安 710072)
三維針刺碳-碳化硅復(fù)合材料(3DN C/SiC)因其優(yōu)異的耐熱性和機(jī)械性能,被認(rèn)為是高溫結(jié)構(gòu)材料中最有潛力的材料之一[1]。3DN C/SiC以其耐高溫、耐磨、抗沖擊性能好,廣泛使用在固體火箭發(fā)動(dòng)機(jī)的噴射口[2]、機(jī)翼前緣[3]和制動(dòng)系統(tǒng)[4-5]等領(lǐng)域。在這些組件的設(shè)計(jì)過(guò)程中,試樣組裝不可避免要開(kāi)孔、開(kāi)槽,導(dǎo)致試樣應(yīng)力場(chǎng)變化[6],因而有必要了解其機(jī)械性能。張立同等[7]通過(guò)粘貼應(yīng)變片的方法對(duì)材料的拉伸行為進(jìn)行分析,得到碳-碳化硅(C/SiC)復(fù)合材料的增韌機(jī)理主要有纖維拔出、界面脫粘、裂紋偏轉(zhuǎn)、纖維橋聯(lián)以及裂紋分叉等。黃喜鵬等[8]利用聲發(fā)射技術(shù)對(duì)試樣的拉伸變形進(jìn)行了全程實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè),發(fā)現(xiàn)3DN C/SiC復(fù)合材料主要損傷模式為基體開(kāi)裂、界面脫粘、界面滑移、纖維斷裂和纖維束斷裂。陳俊等[9]利用高溫散斑制作技術(shù)和三維變形光學(xué)測(cè)試系統(tǒng),基于數(shù)字圖像相關(guān)技術(shù)測(cè)試原理,在高溫下實(shí)時(shí)表征分析3DN C/SiC復(fù)合材料力學(xué)性能,發(fā)現(xiàn)隨溫度升高,材料的斷裂韌性與斷裂強(qiáng)度均減小,斷裂形式由脆性斷裂演變成塑性,呈現(xiàn)出不同形式的斷裂形貌。
目前,力學(xué)性能測(cè)試最大困難之一是不能實(shí)時(shí)監(jiān)控全場(chǎng)演變情況,傳統(tǒng)的應(yīng)變片測(cè)量方法只能測(cè)量小尺度區(qū)域和特定方向的位移,局限性大,難以獲得表面全場(chǎng)演變情況[10-11]。而且由于材料并非獨(dú)立成件,而是由很多零件配合,必須對(duì)零件進(jìn)行開(kāi)孔加工,才能連接。然而對(duì)材料進(jìn)行開(kāi)孔加工會(huì)影響其性能,造成應(yīng)力集中等現(xiàn)象,影響構(gòu)件疲勞壽命。在有孔和槽口的加工零件周?chē)l(fā)現(xiàn)了很大的剪切應(yīng)力[12]。由于3DN C/SiC的剪切強(qiáng)度小于其扭轉(zhuǎn)和壓縮強(qiáng)度,在具有孔和槽口的這些組件中剪切破壞可能占主導(dǎo)地位[13]。為了安全有效地使用3DN C/SiC復(fù)合材料,全面了解材料在扭轉(zhuǎn)時(shí)的剪切性能至關(guān)重要。
數(shù)字圖像相關(guān)技術(shù)(Digital Image Correlation,DIC)是一種基于光學(xué)的非接觸式高精度全場(chǎng)表面位移和應(yīng)變測(cè)量方法。通過(guò)攝像機(jī)記錄不同時(shí)間被測(cè)物體上覆蓋的隨機(jī)斑點(diǎn)圖案,存儲(chǔ)并借助DIC算法處理,以獲得目標(biāo)表面的位移場(chǎng)和應(yīng)變場(chǎng)信息[14-16]。本文使用DIC作為全場(chǎng)測(cè)量工具對(duì)試樣的表面應(yīng)變進(jìn)行了實(shí)時(shí)監(jiān)控,分析3DN C/SiC的扭轉(zhuǎn)性能和陶瓷基復(fù)合材料(Ceramic Matrix Composite,CMC)的變形規(guī)律。研究了開(kāi)孔周?chē)膽?yīng)變分布和演化情況,觀察分析試樣表面裂紋的萌生和擴(kuò)展過(guò)程。本文的主要貢獻(xiàn)是通過(guò)開(kāi)孔周?chē)膽?yīng)變分布、試樣表面的X和Y方向的正應(yīng)變響應(yīng)以及剪切應(yīng)變響應(yīng),分析其扭轉(zhuǎn)損傷演化機(jī)理。
本實(shí)驗(yàn)所用3DN C/SiC復(fù)合材料均由西北工業(yè)大學(xué)超高溫結(jié)構(gòu)復(fù)合材料重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室制備[17],其制備流程如圖1所示。
圖1 3DN C/SiC復(fù)合材料制備流程
圖2 3DN C/SiC復(fù)合材料預(yù)制體結(jié)構(gòu)
圖3 開(kāi)孔試樣的幾何形狀和尺寸
在本實(shí)驗(yàn)中利用MTS試驗(yàn)機(jī)對(duì)試樣施加不同比例的扭轉(zhuǎn)載荷,進(jìn)行室溫扭轉(zhuǎn)實(shí)驗(yàn),并通過(guò)位移控制0.5 mm/min恒定加載速度進(jìn)行加載,當(dāng)試樣加載到失效為止,進(jìn)而研究材料在扭轉(zhuǎn)應(yīng)力狀態(tài)下的力學(xué)行為與失效機(jī)制。為得到實(shí)驗(yàn)過(guò)程中試樣的失效過(guò)程,實(shí)驗(yàn)同時(shí)使用攝像機(jī)并結(jié)合DIC進(jìn)行算法處理,可用于監(jiān)測(cè)有效區(qū)域表面全場(chǎng)的位移及應(yīng)變分布。
在DIC測(cè)量過(guò)程中,首先對(duì)攝像機(jī)的數(shù)字成像系統(tǒng)進(jìn)行校準(zhǔn)。在校準(zhǔn)過(guò)程之后,目標(biāo)表面的變形會(huì)被攝像機(jī)連續(xù)記錄下來(lái)??梢允褂锰幚碥浖挠涗浀膱D像中獲得位移和應(yīng)變。
試樣的應(yīng)力σ、應(yīng)變?chǔ)趴煞謩e計(jì)算:
(1)
(2)
式中:F表示扭轉(zhuǎn)載荷,N;A0表示有效區(qū)域的橫截面積,mm2;Δl表示扭轉(zhuǎn)位移,mm;l表示初始位移,mm。
而剪切應(yīng)力狀態(tài)下:
(3)
式中:P表示施加的剪切載荷,N;A表示樣品的最小橫截面面積,mm2。
為進(jìn)一步了解3DN C/SiC復(fù)合材料在扭轉(zhuǎn)載荷作用下的力學(xué)行為和應(yīng)變場(chǎng)演化過(guò)程,對(duì)應(yīng)變響應(yīng)與應(yīng)變場(chǎng)分布之間的相關(guān)性進(jìn)行了研究。通過(guò)開(kāi)孔周?chē)膽?yīng)變分布、試樣表面的X和Y方向的正應(yīng)變響應(yīng)以及剪切應(yīng)變響應(yīng),分析其扭轉(zhuǎn)損傷演化機(jī)理。
根據(jù)應(yīng)變場(chǎng)模式,表面X方向應(yīng)變場(chǎng)演變可分為4個(gè)階段。第1階段:1 ms,如圖4所示;第2階段:50~150 ms,如圖5所示;第3階段:200~450 ms,如圖6所示;第4階段:479~500 ms,如圖7所示。第1階段,應(yīng)變場(chǎng)表現(xiàn)為拉應(yīng)變且集中在負(fù)X方向,此時(shí)裂紋開(kāi)始萌生,工程應(yīng)變(Engineering Strain)值達(dá)到1.78×10-4。
圖4 1 ms時(shí)X方向的正應(yīng)變場(chǎng)分布
第2階段是X正方向應(yīng)變場(chǎng)的擴(kuò)大過(guò)程,隨著載荷的增加X(jué)正方向應(yīng)變場(chǎng)逐漸擴(kuò)大,50~100 ms最大應(yīng)變值由2.45×10-4增大到3.3×10-4,150 ms時(shí)應(yīng)變值1.5×10-5~5.25×10-5(黃色區(qū)域)幾乎擴(kuò)展到整個(gè)DIC觀測(cè)區(qū)域。
(a)50 ms (b)100 ms
第3階段隨著試樣扭轉(zhuǎn),DIC觀測(cè)區(qū)域內(nèi)X軸距離減小,覆蓋的隨機(jī)斑點(diǎn)圖案之間X方向距離減小,應(yīng)變逐漸減小。可以發(fā)現(xiàn),在該階段應(yīng)力-應(yīng)變響應(yīng)變?yōu)榉蔷€性。
(a)200 ms (b)250 ms
第4階段從應(yīng)變演變可以看出,表面裂紋的擴(kuò)展至失效是該階段的主要特征。區(qū)域1的裂紋擴(kuò)展趨勢(shì)減緩,X方向斑點(diǎn)圖案之間距離減小,使得應(yīng)變小于區(qū)域2的應(yīng)變。表面裂紋的應(yīng)變?cè)谪?fù)Y方向(區(qū)域3)達(dá)到8.1×10-3、正X方向迅速增加至-3×10-4,區(qū)域2均為負(fù)的應(yīng)變??焖贁U(kuò)展的表面裂紋導(dǎo)致應(yīng)變突變,然后趨于平穩(wěn)。
(a)479 ms (b)480 ms
表面Y方向應(yīng)變場(chǎng)演變可分為4個(gè)階段。第1階段:1 ms,如圖8所示;第2階段:50~200 ms,如圖9所示;第3階段:250~400 ms,如圖10所示;第4階段:450~500 ms,如圖11所示。第1階段,應(yīng)變場(chǎng)整體表現(xiàn)為正應(yīng)變且集中在區(qū)域1,應(yīng)變值達(dá)到3.05×10-4。
圖8 1 ms時(shí)Y方向的正應(yīng)變場(chǎng)分布
第2階段是應(yīng)變場(chǎng)的擴(kuò)大過(guò)程。在第2階段,隨著載荷的增加應(yīng)變場(chǎng)逐漸擴(kuò)大至整個(gè)觀測(cè)區(qū)域,但最大應(yīng)變值逐漸減小,由4.35×10-4減小到9×10-5。這一階段盡管應(yīng)變演變不均勻,但由于全局載荷共享特性的影響應(yīng)變逐漸分布至整個(gè)區(qū)域。
(a)50 ms (b)100 ms
(a)250 ms (b)300 ms
第4階段,表面裂紋的擴(kuò)展至失效是該階段的主要特征。表面裂紋的最大負(fù)應(yīng)變?cè)趨^(qū)域3由-6.25×10-4迅速增加到-8.2×10-3,區(qū)域1、2最大正應(yīng)變由4.1×10-4增加至1.9×10-3??焖贁U(kuò)展的表面裂紋導(dǎo)致應(yīng)變突變,然后趨于平穩(wěn)。
(a)450 ms (b)479 ms
根據(jù)應(yīng)變場(chǎng)模式,表面剪切應(yīng)變場(chǎng)演變可分為4個(gè)階段。第1階段:1 ms,如圖12所示;第2階段:50~200 ms,如圖13所示;第3階段:250~450 ms,如圖14所示;第4階段:479~500 ms,如圖15所示。第1階段,觀測(cè)區(qū)域內(nèi)剪切應(yīng)變場(chǎng)表現(xiàn)為較小應(yīng)變,正應(yīng)變集中在負(fù)X方向(區(qū)域1下方),此時(shí)裂紋開(kāi)始萌生,應(yīng)變值為2.55×10-4。
圖12 1 ms時(shí)X、Y方向的正應(yīng)變場(chǎng)分布
第2階段應(yīng)變最大值(最小值)呈規(guī)則的高低波形,是由于針刺纖維束的存在引起的,且在不同載荷水平下最大值(最小值)的位置發(fā)生了變化,體現(xiàn)了3DN C/SiC復(fù)合材料的不均勻特性。
(a)50 ms (b)100 ms
第3階段剪切應(yīng)變隨著載荷的不斷增大,整個(gè)區(qū)域應(yīng)變逐漸減小。這一階段應(yīng)變演變不均勻,但由于整個(gè)觀測(cè)區(qū)域共同承擔(dān)載荷,應(yīng)變逐漸分布至整個(gè)區(qū)域?qū)е抡w應(yīng)變不增反減。
(a)250 ms (b)300 ms
第4階段扭轉(zhuǎn)載荷不斷增大,裂紋擴(kuò)展至最大限度,應(yīng)變迅速增加,區(qū)域1、2應(yīng)變最小區(qū),值為7×10-3,區(qū)域3為應(yīng)變最大區(qū),應(yīng)變值為3.34×10-2。圖16為試樣失效裂紋,裂紋起始位置不在開(kāi)孔周?chē)?,而是在試樣邊緣,裂紋擴(kuò)展方向朝向開(kāi)孔的周?chē)以嚇游赐耆珨嗔?,反?DN C/SiC復(fù)合材料的剪切破壞是韌性斷裂。裂紋有2種類(lèi)型的剪切斷裂,一個(gè)是缺口之間的不均勻斷裂,裂紋的起始位置在試樣的邊緣;另一個(gè)是裂紋擴(kuò)展并脫層,夾持過(guò)程中試樣受到扭轉(zhuǎn)力作用,斜裂縫始于試樣的邊緣,由外向中間擴(kuò)展。
(a)479 ms (b)480 ms
圖16 扭轉(zhuǎn)試樣表面裂紋萌生及擴(kuò)展
本文通過(guò)DIC技術(shù)研究了3DN C/SiC復(fù)合材料的面內(nèi)X、Y方向應(yīng)變場(chǎng)以及剪切行為。得到了開(kāi)孔試樣剪切應(yīng)變分布,分析了多階段X、Y方向和剪切應(yīng)變場(chǎng)的演化,探討了3DN C/SiC復(fù)合材料的特殊剪切破壞機(jī)理。主要結(jié)論如下:
1)開(kāi)孔周?chē)鶻、Y方向應(yīng)變最大(最小)值呈規(guī)則的高低波形,反映了針刺纖維束對(duì)扭轉(zhuǎn)應(yīng)變的影響。
2)應(yīng)變場(chǎng)演化可分為4個(gè)階段:彈性應(yīng)變、應(yīng)變?cè)龃?、?yīng)變減小、應(yīng)變突增直至破壞。
3)3DN C/SiC復(fù)合材料的剪切破壞是韌性斷裂,且有2種類(lèi)型的剪切斷裂:缺口之間的不均勻斷裂和裂紋擴(kuò)展并脫層。