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        響應(yīng)曲面法優(yōu)化還原型特利加壓素氧化工藝研究

        2022-07-24 08:41:22史文青葛傳軍董世建李增禮王榮海
        科學(xué)技術(shù)創(chuàng)新 2022年21期
        關(guān)鍵詞:特利加壓素還原型

        史文青 葛傳軍 陳 冉 董世建 李增禮 王榮海 許 培*

        (安徽安科生物工程<集團>股份有限公司,合肥 安徽 230088)

        特利加壓素(Terlipressin)為化學(xué)合成多肽化合物,臨床用于治療嚴重急性食管靜脈曲張破裂出血,嚴重急性胃、十二指腸潰瘍出血,急性糜爛性胃炎或出血性胃炎,對肝硬化頑固性腹水具有一定療效,聯(lián)合白蛋白治療可以顯著提高Ⅰ型肝腎綜合征的緩解率、減低死亡率[1-3]。

        其分子式為:C52H74N16O15S2,分子量為1227.4。

        結(jié)構(gòu)式為:H-Gly-Gly-Gly-c(Cys-Tyr-Phe-Gln-Asn-Cys)-Pro-Lys-Gly-NH2

        還原型特利加壓素肽鏈上不同位置的半胱氨酸之間形成的二硫鍵,可以將肽鏈折疊成特定的空間結(jié)構(gòu)。二硫鍵是蛋白質(zhì)或多肽分子中兩個不同位點半胱氨酸(Cys)的巰基(-SH)被氧化形成的S-S 共價鍵。二硫鍵在維持多肽的空間立體結(jié)構(gòu)及由此決定的生物活性中發(fā)揮著重要的作用,特利加壓素需要二硫鍵的存在才具有活性。形成二硫鍵的方法有很多:空氣氧化法,DMSO 氧化法,過氧化氫氧化法等[4-6]。本研究采用30%過氧化氫為氧化劑對還原型特利加壓素進行氧化過程研究。

        QbD(質(zhì)量源于設(shè)計)重要理念之一是產(chǎn)品的質(zhì)量無法通過檢驗賦予,而是通過設(shè)計賦予的。研究者應(yīng)對工藝路線及工藝參數(shù)進行全面的篩選研究,以加強對產(chǎn)品性能知識的了解。如ICH Q8 中提出,研究者可以對工藝參數(shù)進行風(fēng)險評估后加以調(diào)整和優(yōu)化,明確各個變量的重要性及其潛在的相互作用。一旦確定了重要參數(shù),可以對其作進一步研究(如通過試驗設(shè)計組合、數(shù)學(xué)模型或相關(guān)的機理研究),從而對工藝有更深的了解[7]。在藥品研發(fā)工作中,常需要研究響應(yīng)值y 究竟如何依賴于自變量,進而找到自變量的設(shè)置,使得響應(yīng)值得到最佳值(望大、望小或望目)。響應(yīng)曲面法(RSM)是目前國際上較為流行的試驗設(shè)計及數(shù)據(jù)分析方法,可用于定量分析各因子及交互作用對響應(yīng)值的影響[8-9]。本研究以氧化率為響應(yīng)值,通過響應(yīng)曲面法,獲得還原型特利加壓素的最佳氧化工藝。

        1 材料與方法

        1.1 材料與試劑

        還原型特利加壓素(批號211201-F01-01, 肽含量68%)由安徽安科生物工程(集團)股份有限公司提供。

        醋酸特利加壓素(批號150701-202002)購自中國食品藥品檢定研究院;30%過氧化氫(分析純)購自國藥集團化學(xué)試劑有限公司;冰醋酸(分析純)購自天津市永大化學(xué)試劑有限公司;氫氧化鈉(藥用輔料)購自湖南爾康制藥股份有限公司;磷酸二氫鈉(分析純)購自國藥集團化學(xué)試劑有限公司;磷酸(HPLC 級)購自美國ACS 科恩化學(xué)公司;乙腈(HPLC 級)購自美國TEDIA 公司。

        1.2 儀器與設(shè)備

        ML304T/02 型電子天平購自瑞士 METTLER TOLEDO 公 司;FE28 型pH 計 購 自 瑞 士METTLER TOLEDO 公司;DF-101S 型集熱式磁力攪拌器購自常州國宇儀器制造有限公司;KDC-0510 型低溫恒溫槽購自南京肯凡電子科技有限公司;LC-20AT 型高效液相色譜儀購自日本Shimadzu 公司。

        1.3 方法

        1.3.1 含量測定

        1.3.1.1 色譜條件

        采用十八烷基硅烷鍵合硅膠為填充劑;流動相A 為0.067mol/L 磷酸二氫鈉(用磷酸調(diào)pH 值至3.5),流動相B 為乙腈;線性梯度洗脫:0~4min:8%B→8%B,4~18min:8%B→15%B,18~30min:15%B→20%B,30~30.1min:20%B→8%B,30.1~40min:8%B→8%B;檢測波長為210nm;柱溫:28℃。

        1.3.1.2 測定法

        取本品適量,精密稱定,加水溶解并稀釋制成每1ml中約含特利加壓素0.2mg 的溶液,精密量取20μl 注入液相色譜儀,記錄色譜圖;另取醋酸特利加壓素對照品適量,同法測定。按外標法以峰面積計算,即得。

        1.3.2 氧化率

        由1.3.1 測定樣品含量,氧化率如下式計算:

        1.3.3 還原型特利加壓素氧化工藝

        將一定量還原型特利加壓素置于洗凈并干燥的燒杯,加入一定量純化水?dāng)嚢枞芙?攪拌轉(zhuǎn)速500 轉(zhuǎn)/min),完全溶解(目測無可見不溶顆粒)后,用1mol/L 氫氧化鈉水溶液將粗品溶液pH 調(diào)節(jié)至設(shè)定值,加入30%雙氧水,控制好氧化劑與樣品摩爾比(以還原型特利加壓素計算),以500 轉(zhuǎn)/min 轉(zhuǎn)速在一定溫度條件下攪拌反應(yīng)液,反應(yīng)結(jié)束后,用冰醋酸將粗品溶液pH 調(diào)節(jié)至3.0 終止氧化反應(yīng),即刻取樣檢測樣品含量。

        1.3.4 還原型特利加壓素氧化工藝部分析因試驗

        根據(jù)部分析因試驗的基本原理[8],以氧化率為響應(yīng)值,對氧化工藝進行因子篩選試驗,運用分析軟件進行試驗設(shè)計,并對試驗結(jié)果進行分析,比較反應(yīng)時間、樣品濃度(以還原型特利加壓素計算)、反應(yīng)pH、氧化劑與樣品摩爾比(以還原型特利加壓素計算)、反應(yīng)溫度對氧化工藝的影響。

        1.3.5 響應(yīng)曲面法優(yōu)化還原型特利加壓素氧化工藝

        根據(jù)Box-Benhnken 的中心組合試驗設(shè)計原理[8],以氧化率為響應(yīng)值,對氧化工藝進行優(yōu)化,運用分析軟件進行試驗設(shè)計,并對試驗結(jié)果進行分析,獲得最優(yōu)氧化條件。

        2 結(jié)果與分析

        2.1 還原型特利加壓素氧化工藝因子篩選試驗

        通過風(fēng)險評估確定還原型特利加壓素氧化工藝的五個主要因子:反應(yīng)時間、樣品濃度(以還原型特利加壓素計算)、反應(yīng)pH、氧化劑與樣品摩爾比(以還原型特利加壓素計算)、反應(yīng)溫度分別用X1,X2,X3,X4,X5表示。根據(jù)部分析因試驗的基本原理,以氧化率為響應(yīng)值,對氧化工藝的五個因子進行五因子二水平三中心點(分辨度Ⅴ)的因子篩選試驗。

        根據(jù)表1,設(shè)計不同的反應(yīng)時間、樣品濃度(以還原型特利加壓素計算)、反應(yīng)pH、氧化劑與樣品摩爾比(以還原型特利加壓素計算)、反應(yīng)溫度,進行19 次試驗,試驗設(shè)計與結(jié)果見表2。

        表1 部分析因試驗因子水平及編碼

        表2 部分析因試驗設(shè)計與結(jié)果

        采用分析軟件對表2 數(shù)據(jù)進行回歸分析,得到回歸模型如下:

        Y(%)=1.055-0.00130X1-0.0443X2-0.0279X3-0.00002 X4-0.00013X5+0.000560X1X2+0.000044X1X3-0.000025X1X4+0.000006X1X5+0.00580X2X3-0.000365X2X4-0.000355X2X5+0.000149X3X4+0.000100X3X5+0.000006X4X5+0.04752CtPt,模型方差分析見表3。

        表3 回歸模型方差分析

        由表3 可以看出,一次項,X3顯著;X1,X5具有一定顯著性;其余項均不顯著,將雙因子交互作用刪除,優(yōu)化后的模型如下:

        Y(%)=0.9243-0.000314X1-0.00194X2-0.008753X3-0.000226X4+0.000253X5+0.04752CtPt,模型方差分析見表4。

        表4 回歸模型方差分析

        由表4 可以看出,X1,X3,X5均顯著;X2,X4不顯著。

        2.2 響應(yīng)曲面法優(yōu)化還原型特利加壓素氧化工藝

        2.2.1 還原型特利加壓素氧化工藝響應(yīng)曲面因子的確定

        根據(jù)因子篩選試驗結(jié)果,采用響應(yīng)曲面設(shè)計試驗,根據(jù)Box-Benhnken 的中心組合試驗設(shè)計原理,選擇對還原型特利加壓素氧化工藝有顯著影響的三個因素:反應(yīng)時間(X1)、反應(yīng)pH(X3)、反應(yīng)溫度(X5),進行三因子三水平的響應(yīng)曲面試驗。本次研究以氧化率為響應(yīng)值,見表5。

        表5 響應(yīng)曲面試驗因子水平及編碼

        2.2.2 還原型特利加壓素氧化工藝響應(yīng)曲面試驗及方差分析

        根據(jù)表5,設(shè)計不同的反應(yīng)時間、反應(yīng)pH、反應(yīng)溫度,進行15 次試驗,試驗設(shè)計與結(jié)果見表6。

        表6 響應(yīng)曲面試驗設(shè)計與結(jié)果

        通過分析軟件進行表6 響應(yīng)曲面回歸分析,得到如下多元二次響應(yīng)曲面回歸模型:

        Y(%)=-2.101+0.00948X1+0.754X3+0.00969X5-0.0001 44X1X1-0.05065X3X3-0.000108X5X5-0.000142X1X3-0.0000 29X1X5-0.000450X3X5,模型方差分析見表7。

        由表7 可以看出,一次項,平方項,X3,X3X3,X1,X1X1顯著;X5X5具有一定顯著性,其余項均不顯著,將雙因子交互作用刪除,優(yōu)化后的模型如下:

        表7 回歸模型方差分析

        Y(%)=-1.963+0.00769X1+0.7387X3+0.00544X5-0.000144X1X1-0.05065X3X3-0.000108X5X5,模型方差分析見表8。

        表8 回歸模型方差分析

        由表8 可以看出,X1,X1X1,X3,X3X3顯著;X5X5具有一定顯著性,各個因子對還原型特利加壓素氧化率影響顯著性順序依次為反應(yīng)pH>反應(yīng)時間>反應(yīng)溫度。氧化工藝回歸模型的一次項和平方項均顯著,說明各因子對響應(yīng)值的影響不是簡單的一次線性關(guān)系;模型項顯著,說明該模型有效且具有可信性和準確性;失擬項不顯著說明模型無失擬,試驗誤差很小。

        2.2.3 還原型特利加壓素氧化工藝響應(yīng)曲面分析

        做出響應(yīng)曲面,分析反應(yīng)時間(X1)、反應(yīng)pH(X3)、反應(yīng)溫度(X5)對還原型特利加壓素氧化率的影響情況,結(jié)果見圖1。

        由圖1 可以看出,隨著反應(yīng)時間的增加,還原型特利加壓素氧化率增加,當(dāng)反應(yīng)時間達到26.72min 時,反應(yīng)基本達到平衡,繼續(xù)增加反應(yīng)時間,將會引起副反應(yīng)產(chǎn)生,降低氧化率。隨著反應(yīng)pH 的升高,還原型特利加壓素氧化率先升高后陡降,當(dāng)反應(yīng)pH 為7.29 時,氧化率最高,這是因為半胱氨酸在堿性溶液中易被氧化,但反應(yīng)pH 值過高時,將會引起副反應(yīng),降低氧化率。隨著反應(yīng)溫度的升高,還原型特利加壓素氧化率先升高后降低,當(dāng)反應(yīng)溫度為25.25℃時,氧化率最高,這是因為反應(yīng)溫度高,反應(yīng)物活性大,反應(yīng)速度加快,使得氧化率提高,但溫度過高時,將會引起副反應(yīng),降低氧化率。

        圖1 各因子影響還原型特利加壓素氧化率的響應(yīng)曲面

        通過分析軟件進行還原型特利加壓素氧化工藝參數(shù)優(yōu)化,最佳反應(yīng)條件為:反應(yīng)時間26.72min、反應(yīng)pH7.29、反應(yīng)溫度25.25℃,最高氧化率為90.14%。采用上述優(yōu)化條件進行三次驗證試驗,得到的還原型特利加壓素氧化率分別為90.29%,90.07%,90.18%。

        3 結(jié)論

        本研究采用過氧化氫氧化還原型特利加壓素,先通過部分析因方法進行因子篩選試驗,然后通過響應(yīng)曲面法的Box-Benhnken 模型對還原型特利加壓素的氧化工藝進行優(yōu)化,建立了二次多元回歸模型方程, 并對影響氧化率的各因子進行分析探討。

        試驗結(jié)果表明,在五個主要因子中,樣品濃度(以還原型特利加壓素計算)、氧化劑與樣品摩爾比(以還原型特利加壓素計算)對還原型特利加壓素氧化率的影響不顯著。反應(yīng)時間、反應(yīng)pH、反應(yīng)溫度對還原型特利加壓素氧化率的影響顯著,其中各個因子對氧化率的影響顯著性順序依次為反應(yīng)pH(X3)>反應(yīng)時間(X1)>反應(yīng)溫度(X5)。優(yōu)化后的還原型特利加壓素氧化率的二次多元回歸模型方程如下:

        Y(%)=-1.963+0.00769X1+0.7387X3+0.00544X5-0.000 144X1X1-0.05065X3X3-0.000108X5X5

        本試驗得出的最佳反應(yīng)條件為:反應(yīng)時間26.72min、反應(yīng)pH7.29、反應(yīng)溫度25.25℃,在該條件下還原型特利加壓素的氧化率為90.14%。

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