劉 健
(1.河北煤炭科學(xué)研究院有限公司,河北 邢臺 054000;2.河北省礦井物探工程研究中心,河北 邢臺 054000)
高密度電法探測地點為承德市雙灤區(qū)生活垃圾處理場及其周邊一定范圍,由于該地區(qū)作為生活垃圾處理場,其地下填埋了大量的生活垃圾,以至于可能或已經(jīng)對該地區(qū)地下一定范圍內(nèi)造成了污染,直接或間接對周邊居民的生活產(chǎn)生了一定的影響,為查明該地區(qū)地下一定范圍內(nèi)的裂隙情況,以便協(xié)助該地區(qū)的土地污染防治工程,2021 年7 月,河北煤炭科學(xué)研究院有限公司地質(zhì)物探中心對該地區(qū)進(jìn)行了現(xiàn)場探測。
勘查區(qū)地處冀北燕山東段,位于燕山沉陷帶與高原后背斜過度帶,區(qū)內(nèi)主要河流為灤河,灤河北岸寬闊平坦,發(fā)育河流Ⅰ級階地。南岸大部分緊鄰山地,地形陡峻。主要地貌單元有,剝蝕構(gòu)造低山亞類、侵蝕堆積河谷平原亞類。
1.2.1 地層巖性出露與分布
根據(jù)地質(zhì)調(diào)查及鉆探成果,區(qū)內(nèi)地層由老到新有,中生界侏羅系后城組(J2h)、新生界第四系。
(1) 中生界侏羅系。
在調(diào)查區(qū)西部灤河兩岸分布廣泛,巖性單調(diào),層位穩(wěn)定。全部巖系以河流相紅色砂礫巖為主,地層厚度變化較大,層頂埋深7 ~9 m。
(2) 新生界第四系。
全新統(tǒng)(O4al+pl):主要分布在灤河河漫灘與河床,在各支溝谷也有分布。在灤河河谷地段上部為沖洪積粉土或粉砂、下部為砂卵石層,以圓礫為主,中粗砂充填,局部有粉砂等砂類土透鏡體。在各支溝谷中上部多以沖洪積粉土為主,下部為砂礫石,充填物多以粉土為主。
上更新統(tǒng)(O3al+pl):分布在山麓邊緣,灤河二級階地中。由紅色、紅褐色含礫狀亞砂土、亞粘土組成,層厚0 ~30 m。
1.2.2 地質(zhì)構(gòu)造
調(diào)查區(qū)內(nèi)主要斷裂為偏橋子—偏嶺斷裂帶,屬尚義—平泉深斷裂東段,由2 ~4 條近平行的斷層構(gòu)成,在平面上呈蛇狀彎曲。斷裂帶中為中元古界長城系地層,擠壓扭曲發(fā)育,旁側(cè)羽狀斷層多,為右行壓性斷裂。
1.2.3 巖漿巖
區(qū)內(nèi)的巖漿巖巖體主要為中生代侏羅紀(jì)早世石英正長斑巖類,以巖基和巖株的形式侵入,有的出露于地表,有的隱伏于地下。該類巖體出露在區(qū)域的北部張富溝—十八盤一帶,出露面積約為6.0 km2,其山體多風(fēng)化成平緩的饅頭狀山丘。其富水性受巖性、地形地貌及構(gòu)造條件的綜合控制,尤其以構(gòu)造控水最為明顯。
1.3.1 含水巖組
根據(jù)含水層巖性,水源地地下水含水巖組有松散巖類含水巖組和基巖裂隙含水巖組。
(1) 松散巖類孔隙水含水巖組。
松散巖類孔隙水分布于灤河二級階地、一級階地及山間溝谷中,含水介質(zhì)主要為第四系全新統(tǒng)沖洪積松散巖,巖性主要為含砂粘土、砂、砂卵礫石等。
(2) 基巖裂隙水含水巖組。
根據(jù)調(diào)查區(qū)地下水埋藏條件、賦存空間、補給來源,該區(qū)基巖裂隙水主要為基巖風(fēng)化裂隙水。
1.3.2 地下水類型
根據(jù)該區(qū)含水介質(zhì)、水力特征和地下水賦存條件,該區(qū)地下水劃分為2 種類型,松散巖類孔隙水和基巖裂隙水。區(qū)內(nèi)第四系松散巖類孔隙水埋藏淺,易開采,開發(fā)利用程度較高;基巖裂隙水因埋藏深、水量貧乏,開發(fā)利用程度較低。
1.3.3 地下水補給、徑流、排泄條件
(1) 松散巖類孔隙水。
松散巖類孔隙水主要補給來源為大氣降水補給,其次是基巖山區(qū)側(cè)向徑流補給,區(qū)內(nèi)該類型地下水排泄方式主要以側(cè)向徑流補給地表水和人工開采為主。山間溝谷孔隙潛水排泄方式除蒸發(fā)排泄外,主要消耗于人工開采和向下游方向徑流排泄。
(2) 基巖裂隙水補給、徑流、排泄條件。
基巖風(fēng)化裂隙水主要接受大氣降水垂直入滲補給。豐水季節(jié)大氣降水通過地表節(jié)理裂隙補給地下水之后順勢沿溝(谷) 底部向下游方向徑流,在地勢低洼部位或以泉的形式排泄,或者以潛流的方式側(cè)向補給河(溝) 谷孔隙潛水,地下水動態(tài)(水位、水溫) 受季節(jié)控制明顯。
在自然條件下,有很多因素會影響到地下巖層巖石的電阻率,主要是巖石的礦物組成成分、結(jié)構(gòu)、構(gòu)造、巖石的空隙、裂隙發(fā)育程度和含水性等。
重要的造巖礦物如云母、石英、長石等硅酸鹽類礦物的電阻率達(dá)到了106Ω·m 以上,因此礦物骨架的電阻率是非常高的,對巖石的電阻率變化起主要作用的是巖石的含水性、空隙裂隙發(fā)育程度及水的礦化度。
據(jù)此,采用高密度電法探測技術(shù),可查明該地區(qū)地下一定范圍內(nèi)巖層的裂隙情況,對探測控制范圍內(nèi)水文地質(zhì)條件做出科學(xué)評價。
銅塊打磨拋光去除表面氧化層,用乙醇和去離子水多次清洗,氮氣吹干待用。配置濃度為0.02 M硝酸銀溶液, 銅塊浸入硝酸銀溶液,控制化學(xué)鍍時間分別為10 s、20 s、30 s、60 s。取出后,用去離子水清洗表面,除去未參加反應(yīng)的硝酸銀,然后氮氣吹干待用。
為了順利完成高密度電法探測工作,施工前項目組對所使用的惠州YBD11 礦用網(wǎng)絡(luò)并行電法儀進(jìn)行了必要的檢修和維護(hù)保養(yǎng)。
根據(jù)探測目的、地質(zhì)條件及現(xiàn)場工作環(huán)境,不同探測方法選用最佳設(shè)備、工作設(shè)計和施工。此次物探設(shè)計參考施工地地質(zhì)條件、遵循目的任務(wù)。
此次施工使用的儀器為惠州YBD11 礦用網(wǎng)絡(luò)并行電法儀,發(fā)射點間距10 m,接收點間距5 m,測量深度120 m。電測深共分為14 條測線,編號1 ~14,每條測線長度均為320 m,測線總長度4480 m。
在高密度電法探測探測過程中,高密度電法探測部分測線處在山溝、山脊及部分裸露的巖石上,測點雖準(zhǔn)確的布置在了相應(yīng)的位置,但仍然可能會影響所采集的數(shù)據(jù)質(zhì)量。
通過對高密度電法探測采集的數(shù)據(jù)進(jìn)行處理和分析,結(jié)合該地區(qū)的水文地質(zhì)資料,此次高密度電法探測共圈定15 處異常區(qū),C1 ~C15。其中C1 ~C6、C8、C10、C12 ~C15 為相對低阻異常;C7、C9、C11 為相對高阻異常。
C1:位于2 線120 ~180 m,深度5 ~60 m。分析為可能含水的導(dǎo)水裂隙(圖1)。
圖1 2 線高密度電法視電阻率對數(shù)等值線斷面圖Fig.12 wire high density electrical method apparent resistivity logarithmic contour section
C2:位于4 線150 ~170 m,深度25 ~80 m。分析為可能含水的導(dǎo)水裂隙(圖2)。
圖2 4 線高密度電法視電阻率對數(shù)等值線斷面圖Fig.24 wire high density electrical method apparent resistivity logarithmic contour section
C3:位于5 線170 ~210 m,深度5 ~50 m。分析為可能含水的導(dǎo)水裂隙(圖3)。
圖3 5 線高密度電法視電阻率對數(shù)等值線斷面圖Fig.35 wire high density electrical method apparent resistivity logarithmic contour section
圖4 6 線高密度電法視電阻率對數(shù)等值線斷面圖Fig.46 wire high density electrical method apparent resistivity logarithmic contour section
C5:位于7 線200 ~220 m,深度5 ~110 m。分析為可能含水的導(dǎo)水裂隙(圖5)。
圖5 7 線高密度電法視電阻率對數(shù)等值線斷面圖Fig.57 wire high density electrical method apparent resistivity logarithmic contour section
C6:位于8 線0 ~20 m,深度5 ~90 m。分析為可能含水的導(dǎo)水裂隙。
C7:位于8 線300 ~320 m,深度5 ~120 m。分析為不含水的導(dǎo)水裂隙。(圖6)。
圖6 8 線高密度電法視電阻率對數(shù)等值線斷面圖Fig.68 wire high density electrical method apparent resistivity logarithmic contour section
C8:位于9 線0 ~20 m,深度20 ~100 m。分析為可能含水的導(dǎo)水裂隙。
C9:位于9 線0 ~20 m,深度5 ~120 m。分析為不含水的導(dǎo)水裂隙(圖7)。
圖7 9 線高密度電法視電阻率對數(shù)等值線斷面圖Fig.79 wire high density electrical method apparent resistivity logarithmic contour section
C10:位于10 線110 ~230 m,深度30 ~70 m。分析為可能含水的導(dǎo)水裂隙。
C11:位于10 線300 ~320 m,深度5 ~120 m。分析為不含水的導(dǎo)水裂隙(圖8)。
圖8 10 線高密度電法視電阻率對數(shù)等值線斷面圖Fig.810 wire high density electrical method apparent resistivity logarithmic contour section
C12:位于11 線190 ~300 m,深度5 ~50 m。分析為可能含水的導(dǎo)水裂隙(圖9)。
圖9 11 線高密度電法視電阻率對數(shù)等值線斷面圖Fig.911 wire high density electrical method apparent resistivity logarithmic contour section
C13:位于12 線200 ~320 m,深度25 ~40 m。分析為可能含水的導(dǎo)水裂隙(圖10)。
圖10 12 線高密度電法視電阻率對數(shù)等值線斷面圖Fig.1012wire high density electrical method apparent resistivity logarithmic contour section
C14:位于13 線150 ~170 m,深度5 ~80 m。分析為可能含水的導(dǎo)水裂隙(圖11)。
圖11 13 線高密度電法視電阻率對數(shù)等值線斷面圖Fig.1113wire high density electrical method apparent resistivity logarithmic contour section
C15:位于14 線30 ~120 m,深度25 ~40 m。分析為可能含水的導(dǎo)水裂隙(圖12)。
圖12 14 線高密度電法視電阻率對數(shù)等值線斷面圖Fig.1214wire high density electrical method apparent resistivity logarithmic contour section
通過在承德市雙灤區(qū)生活垃圾處理場及周邊一定范圍內(nèi)進(jìn)行的高密度電法探測工作可以看出,采用干密度大電法技術(shù)對地下一定范圍內(nèi)巖層的裂隙情況探測效果明顯,通過對高密度電法技術(shù)進(jìn)行現(xiàn)場探測和數(shù)據(jù)的后期整理分析可以準(zhǔn)確的判斷出,勘察區(qū)探測范圍內(nèi)的相對異常區(qū)的位置及范圍,很好的了解了勘察區(qū)地下一定范圍內(nèi)巖層的裂隙情況,為后期在該位置進(jìn)行的土壤污染防治工程工作的開展提供了一定的數(shù)據(jù)支持及技術(shù)依據(jù)。