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        陰極掃描法恢復(fù)三氧化鎢光電化學(xué)水氧化性能及其機(jī)制*

        2022-02-17 12:28:38吳發(fā)超孫文周高彩云
        功能材料 2022年1期
        關(guān)鍵詞:光電流制氫電解

        李 東,李 瑞,吳發(fā)超,孫文周,高彩云,4

        (1. 北方民族大學(xué) 材料科學(xué)與工程學(xué)院,銀川 750021;2. 工業(yè)廢棄物循環(huán)利用及先進(jìn)材料“國(guó)際合作基地”,銀川 750021;3. 北方民族大學(xué) 化學(xué)與化學(xué)工程學(xué)院,銀川 750021;4. 北方民族大學(xué) 國(guó)家民委化工技術(shù)基礎(chǔ)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,銀川 750021)

        0 引 言

        能源短缺和環(huán)境污染的問(wèn)題日益嚴(yán)重,綠色能源的開(kāi)發(fā)和使用迫在眉睫。太陽(yáng)能資源不僅取之不盡用之不竭,而且具有清潔、經(jīng)濟(jì)和安全等優(yōu)點(diǎn),有著巨大的開(kāi)發(fā)潛力。利用太陽(yáng)能PEC分解水制氫具有系統(tǒng)結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、成本低的優(yōu)點(diǎn),而且在PEC分解水制氫的同時(shí)可以完成光能和電能的轉(zhuǎn)化,將成為潔凈能源生產(chǎn)和環(huán)境污染治理的重要技術(shù)手段[1-3]。研究表明,組成PEC池電極的光陽(yáng)極決定了PEC分解水制氫的效率,因此光陽(yáng)極材料的合理選擇是PEC分解水制氫的技術(shù)關(guān)鍵。1972年,TiO2作為光陽(yáng)極材料用于PEC分解水制氫被首次報(bào)道,繼此已經(jīng)有不同的半導(dǎo)體材料被用作PEC光解水制氫的光陽(yáng)極[4-10]。

        1976年,N型半導(dǎo)體三氧化鎢(WO3)首次被用于PEC分解水體系后,引起了眾多科學(xué)家的關(guān)注。相對(duì)于TiO2和ZnO等光陽(yáng)極材料(-3.4 eV),WO3具有窄的禁帶寬度(2.5 ~2.8 eV),既可以利用更寬波長(zhǎng)的太陽(yáng)光,又保證了WO3良好的耐光腐蝕性。同時(shí),在酸性條件下,WO3具有良好的化學(xué)穩(wěn)定性,因此是較為理想的PEC光陽(yáng)極材料之一,并已經(jīng)被廣泛的報(bào)道[11-20]。但隨著PEC分解水的進(jìn)行,WO3光陽(yáng)極電流會(huì)發(fā)生極大的衰減。這主要是因?yàn)椋娊馑倪^(guò)程中WO3表明形成了不具有光催化活性的過(guò)氧化物,該結(jié)論已經(jīng)在1986年被首次證實(shí)[21]。針對(duì)這一問(wèn)題,目前的研究主要集中在改變結(jié)構(gòu)[22-23]、貴金屬負(fù)載[24-26]或者元素?fù)诫s[27-32]來(lái)控制過(guò)氧化化物的形成,進(jìn)而改善WO3的PEC性能。但這些方法均不能從根本上杜絕過(guò)氧化物的形成,隨著電解的進(jìn)行,仍然會(huì)出現(xiàn)PEC活性的下降。作者在研究過(guò)程中發(fā)現(xiàn),PEC分解水的過(guò)程中,當(dāng)WO3的光陽(yáng)極電流衰減后,施加一個(gè)負(fù)方向的掃描電位后在再施加正方向掃描,WO3的PEC活性將會(huì)得到恢復(fù),可以達(dá)到循環(huán)使用的目的。然而,目前關(guān)于陰極掃描恢復(fù)WO3光電催化活性的研究還未見(jiàn)報(bào)道。

        所以,本研究以Na2WO4·2H2O和HCl為原料,采用沉淀法合成了納米WO3樣品,然后采用刮刀涂布法制備了WO3/FTO電極。通過(guò)X射線衍射(XRD)、掃描電鏡(SEM)、X射線光電子能譜(XPS)、拉曼光譜(Raman)對(duì)WO3的結(jié)構(gòu)和形貌進(jìn)行表征。利用電化學(xué)工作站對(duì)WO3的PEC性能進(jìn)行測(cè)試,考察了電解質(zhì)溶液的pH值對(duì)PEC恢復(fù)性能的影響,闡明了電解質(zhì)溶液的pH值與PEC恢復(fù)性能的關(guān)系;通過(guò)XPS分析WO3表面原子的結(jié)合狀態(tài),考察了表面原子的結(jié)合狀態(tài)對(duì)PEC恢復(fù)性能影響,揭示了PEC性能能夠得以恢復(fù)的化學(xué)機(jī)制,進(jìn)而解決了由于WO3/FTO光陽(yáng)極電流衰減而無(wú)法循環(huán)使用的關(guān)鍵科學(xué)問(wèn)題。

        1 實(shí) 驗(yàn)

        1.1 WO3樣品的制備

        (1)稱取1.5 g的Na2WO4·2H2O放入燒杯中,在攪拌的條件下,添加30 mL去離子水直至得到透明的溶液后,緩慢滴加3 mol/L的HCl,保持?jǐn)嚢柚钡綗瓋?nèi)不再有淡黃色鎢酸沉淀生成。

        (2)將得到的懸濁液移入離心管內(nèi),在5 000 r/min的條件下離心15 min。倒出上清液,將沉淀用去離子水和無(wú)水乙醇清洗干凈后,放入80 ℃的烘箱干燥12 h,取出研磨成粉末。放入管式爐內(nèi),500 ℃下煅燒2 h后收取樣品。

        1.2 WO3/FTO電極的制備

        首先,將FTO玻璃在O3清洗機(jī)中清洗15 min。稱取0.6 g WO3粉末,0.3 g聚乙二醇,0.06 g羥丙基纖維素,添加9 mL去離子水后,緩慢攪拌直至形成粘稠均勻且無(wú)氣泡的前驅(qū)體漿料。在清洗干凈的FTO表面刮涂一層前驅(qū)體粘漿,80 ℃下干燥10 min后再刮涂一層。待全部干燥后,在500 ℃下煅燒2 h,得到WO3/FTO電極。

        1.3 樣品的性能及表征

        使用日本MiniFlexII型XRD分析樣品的晶體結(jié)構(gòu),以Cu Kα射線作為輻射光源,掃描范圍2θ是10°~50°,步幅為0.02°,設(shè)置電壓和電流分別為40 mV和40 mA。利用SEM(JEOL,TSM-6510LV,Japan)觀察樣品的表面形貌以及進(jìn)行能譜分析。利用XPS(ESCALAB Xi+)檢測(cè)樣品表面化學(xué)組成和元素存在形態(tài)。采用Raman(Horiba-Jobin-Yvon LabRAM HR)光譜確認(rèn)樣品的結(jié)構(gòu)。光電化學(xué)性能的測(cè)試在辰華660D電化學(xué)工作站中進(jìn)行,采用三電極體系,其中WO3/FTO為工作電極,鉑絲為對(duì)電極,飽和AgCl電極(Ag/AgCl) 為參比電極。WO3/FTO工作電極的工作面積為1 cm2。0.1 mol/L的磷酸緩沖液為電解液溶液(pH值 = 3.0~7.0)。測(cè)試光源為500 W氙燈(Optical ModuleX;Ushio Inc.,Japan) 擬太陽(yáng)光,L42為截止濾光片,調(diào)節(jié)光照強(qiáng)度為500 mW/cm2。

        2 結(jié)果與討論

        2.1 WO3的結(jié)構(gòu)表征

        XRD(圖1(a))的測(cè)試結(jié)果表明,在2θ=23.1°,23.5°,24.2°,26.5°,28.6°,33.2°,33.8°和34.1°處得到了屬于單斜相WO3(PDF #01-083-0950)的特征峰,分別對(duì)應(yīng)于單斜相(002)、(020)、(200)、(120)、(112)、(022)、(202)、(220)晶面。圖1(b)是WO3的Raman光譜圖。從圖中可以看出,在272.8、715.2和809.3 cm-1處得到了屬于單斜WO3內(nèi)O-W-O伸縮振動(dòng)的特征峰,100 cm-1以下的峰均可歸屬于單斜WO3晶格振動(dòng)由來(lái)的特征峰[4,11,16,18-19], Raman光譜的測(cè)試結(jié)果與XRD的結(jié)論相一致,證實(shí)了單斜相WO3被成功合成。

        圖1 (a)WO3的XRD譜圖和(b)Raman譜圖

        2.2 WO3的形貌表征

        圖2所示的是WO3/FTO電極表面(a和b)和斷面(c)的SEM圖。低倍率(圖2(a))觀察時(shí),WO3/FTO電極的表面光滑,涂層整體均一性良好,且沒(méi)有明顯的裂紋出現(xiàn)。放大倍率(圖2(b))觀察后發(fā)現(xiàn),WO3/FTO的表面形貌為納米顆粒,尺寸約為10~30 nm。斷面(圖2(c))結(jié)果顯示,WO3/FTO電極斷面具有很好的均一性且與FTO基底結(jié)合良好,涂層厚度約為15 μm。

        2.3 WO3的PEC性能測(cè)試

        圖3(a)為WO3/FTO電極在pH值=4的磷酸緩沖液中(0.1 mol/L)測(cè)試的CV結(jié)果,測(cè)試范圍為-0.2~1.0 V,按-0.2 V~0 V~-1.5 V的陽(yáng)極掃描方向進(jìn)行,掃描速率為10 mV/s??梢钥闯?,當(dāng)無(wú)光照時(shí),除了在0.2 V以下得到了HxWO3/WO3氧化反應(yīng)由來(lái)的峰以外,在0.2 V以上未觀察到任何響應(yīng)。光照后,在0.2 V附近,產(chǎn)生了由于水氧化而形成的光生電流,在1.5 V處的飽和光電流為7.7 mA/cm2。圖3(b)所示的為在定電位0.8 V下,對(duì)WO3/FTO電極進(jìn)行1 h的可見(jiàn)光(λ>420 nm)PEC水分解的時(shí)間-電流(I-t)曲線。光照后,WO3/FTO電極會(huì)產(chǎn)生一個(gè)較高的瞬時(shí)光電流,為3.4 mA/cm2。經(jīng)1 h電解后,光電流衰減至0.21 mA/cm2,電解過(guò)程中光電流衰減了93.8%。分別以電解前后的WO3/FTO電極為工作電極,測(cè)試的CV結(jié)果和I-t曲線如圖3(c),(d)所示。通過(guò)對(duì)比1.5 V處的電流值發(fā)現(xiàn),與電解前WO3/FTO電極的電流值(7.7 mA/cm2)相比,電解后的電流值衰減了3.7倍(2.1 mA/cm2)。圖3(d)結(jié)果顯示,電解前WO3/FTO電極的光電流明顯高于電解后WO3/FTO電極的光電流。電解后WO3/FTO電極的瞬時(shí)光電流為0.7 mA/cm2,較電解前WO3/FTO電極的電流值(3.4 mA/cm2)減小了79.4%。在電解過(guò)程中,WO3/FTO電極產(chǎn)生的電荷總量為3.53 C,是電解后WO3/FTO電極的2.8倍(1.28 C)。WO3/FTO電極的氧氣發(fā)生量和產(chǎn)氧法拉第效率分別為7.11 μmol和77.7%,分別為電解后WO3/FTO電極的3.2倍(2.21 μmol)和1.2倍(66.7%),結(jié)果詳見(jiàn)表1。以上結(jié)論說(shuō)明,與電解前WO3/FTO電極的PEC活性相比,電解后WO3/FTO電極的PEC活性顯著降低。因此,如能將電解后WO3/FTO電極的PEC活性恢復(fù)到電解前,將會(huì)有重要的意義。

        圖3 (a)WO3/FTO電極的CV曲線,(b)WO3電極的I-t曲線,(c)電解前后WO3電極的CV曲線以及(d)電解前后WO3/FTO電極的I-t曲線

        表1 電解前后WO3/FTO電極在0.1 mol/L磷酸緩沖液(pH 值= 4.0)中的PEC水分解結(jié)果

        注:①氧氣發(fā)生量;②產(chǎn)氧的法拉第效率;③氫氣發(fā)生量;④產(chǎn)氫的法拉第效率。

        2.4 WO3的PEC恢復(fù)性能測(cè)試

        為了研究WO3的PEC恢復(fù)性能,以電解后的WO3/FTO作為工作電極,在pH值=4.0的磷酸緩沖液中進(jìn)行PEC性能測(cè)試,得到的CV曲線和I-t曲線如圖4所示。PEC恢復(fù)性能測(cè)試得到的CV曲線如圖4(a)所示,在測(cè)試過(guò)程中,電位掃描方向與PEC性能測(cè)試時(shí)相反,按0 V~-0.2 V~-1.5 V的陰極掃描方向進(jìn)行??梢钥闯觯?dāng)PEC性能恢復(fù)后,在1.5 V處的飽和光電流可以恢復(fù)到8.1 mA/cm2,是電解后WO3/FTO電極飽和光電流(2.1 mA/cm2)的3.9倍,與電解前的飽和光電流(7.7 mA/cm2)相比,恢復(fù)率達(dá)105%。利用恢復(fù)后的WO3/FTO電極再一次進(jìn)行1 h的PEC水分解,得到的I-t曲線(圖4(b))與電解前WO3/FTO電極的I-t曲線一致,同時(shí)還在電解過(guò)程中產(chǎn)生了3.62 C的電荷量和7.33 μmol氧氣發(fā)生量,見(jiàn)表1。以上結(jié)論證實(shí)了WO3/FTO電極的PEC性能得到了很好地恢復(fù),也充分說(shuō)明了經(jīng)陰極掃描后,有助于WO3/FTO電極PEC性能的恢復(fù)。

        圖4 (a)WO3/FTO電極的CV曲線和(b)WO3電極的I-t曲線

        2.5 pH值對(duì)PEC恢復(fù)性能的影響

        為了研究pH值與PEC恢復(fù)率之間的影響關(guān)系,在不同pH的電解質(zhì)溶液中,對(duì)WO3/FTO電極進(jìn)行光電化學(xué)測(cè)試,算出不同條件下的恢復(fù)率,做出pH與恢復(fù)率之間的關(guān)系曲線,如圖5所示。可以看出,光電流的恢復(fù)率隨著溶液pH的降低而逐漸升高,當(dāng)pH值小于5時(shí),光電流的恢復(fù)率甚至超過(guò)了100%。在pH值=4時(shí),光電流恢復(fù)率最高,為105%,說(shuō)明了酸性條件更有利于促進(jìn)WO3/FTO電極PEC性能的恢復(fù)。不同pH值的條件下,計(jì)算得到的光電流恢復(fù)率數(shù)值詳見(jiàn)表2。

        圖5 pH值對(duì)WO3/FTO電極PEC性能恢復(fù)率的影響

        表2 pH值對(duì)WO3/FTO 電極PEC恢復(fù)率的影響

        2.6 PEC性能恢復(fù)機(jī)制的研究

        為了揭示W(wǎng)O3/FTO電極PEC性能的恢復(fù)機(jī)制,分別對(duì)電解前后和恢復(fù)后的樣品進(jìn)行XPS分析,通過(guò)對(duì)比電解前后和恢復(fù)后WO3的表面結(jié)合狀態(tài),進(jìn)而闡明WO3/FTO電極PEC性能的恢復(fù)機(jī)理。圖6a所示的為W 4f和O 1s的高分辨圖譜,電解前后和恢復(fù)后的W 4f窄譜中,均在35.90和38.04 eV處得到了兩個(gè)峰,分別對(duì)應(yīng)于W 4f7/2和W 4f5/2,這兩個(gè)峰歸屬于W原子和氧化物中的W6+,這與之前的文獻(xiàn)報(bào)道相一致[4,11,33]。O 1s圖譜的結(jié)果表明,所有的WO3樣品中,均在530.80 eV處得到了對(duì)應(yīng)于WO3晶格中的O2-的結(jié)合能,進(jìn)一步證實(shí)了光陽(yáng)極的主要成分為WO3。此外,電解前WO3的O 1s譜中,在532.47 eV處得到了可以歸屬為典型半導(dǎo)體氧化物的表面羥基峰[34]。但在電解后,除了在530.80 eV處得到了歸屬于晶格氧的峰以外,還在533.21 eV處得到了一個(gè)較寬的峰,這個(gè)結(jié)合能有別于表面羥基的結(jié)合能,可以認(rèn)為是屬于電解后形成過(guò)氧化物的O-O結(jié)合能。當(dāng)PEC性能恢復(fù)后,位于533.21 eV處的較寬峰向低結(jié)合能區(qū)移動(dòng),在532.23 eV又出現(xiàn)屬于表面羥基的結(jié)合能。XPS的結(jié)果表明,WO3/FTO電極PEC性能恢復(fù)前后,W原子的結(jié)合狀態(tài)沒(méi)有變化,但對(duì)O原子的結(jié)合狀態(tài)產(chǎn)生了重要的影響。根據(jù)XPS的實(shí)驗(yàn)結(jié)論,構(gòu)建了如圖6(b)所示的PEC性能恢復(fù)原理圖。在電解水的過(guò)程中,WO3表面的表面羥基被氧化為羥基自由基,再進(jìn)一步地水氧化過(guò)程中,羥基自由基之間相結(jié)合,在WO3表面形成無(wú)催化活性的過(guò)氧化物,導(dǎo)致WO3的PEC催化活性下降。在PEC性能恢復(fù)實(shí)驗(yàn)過(guò)程中,施加了負(fù)的掃描電位,同時(shí)酸性條件提供了氫質(zhì)子,進(jìn)而使WO3表面形成過(guò)氧化物被還原成為羥基,從而使WO3/FTO電極的PEC性能得以恢復(fù)。

        圖6 WO3電極的(a)XPS圖譜和(b)PEC性能恢復(fù)的原理圖

        3 結(jié) 論

        (1)利用Na2WO4·2H2O和HCl反應(yīng),采用沉淀法合成了單斜相的WO3納米顆粒。

        (2)采用簡(jiǎn)單的刮刀涂布法制備了涂層厚度約15 μm的WO3/FTO電極,并表現(xiàn)出了優(yōu)越的PEC活性。

        (3)經(jīng)PEC電解后WO3/FTO電極PEC催化活性下降明顯。但經(jīng)過(guò)陰極掃描后,可以有效地恢復(fù)WO3/FTO電極PEC活性至電解前。同時(shí)發(fā)現(xiàn),酸性電解質(zhì)溶液更有利于WO3/FTO電極PEC活性的恢復(fù)。

        (4)WO3表面 O原子的結(jié)合狀態(tài)的改變對(duì)其PEC性能恢復(fù)產(chǎn)生了重要的影響。

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