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        3300 V混合SiC IGBT模塊研制與性能分析*

        2021-12-02 11:09:58楊曉菲荊海燕
        電子與封裝 2021年11期
        關(guān)鍵詞:續(xù)流二極管功耗

        楊曉菲,于 凱,董 妮,荊海燕,劉 爽

        (中車永濟電機有限公司,西安710016)

        1 引言

        絕緣柵雙極晶體管(Insulated Gate Bipolar Transistor,IGBT)結(jié)合了雙極性晶體管的輸出特性及金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)管(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor,MOSFET)驅(qū)動簡單的特點,擁有輸出功率大、開關(guān)頻率高的特性[1],是目前高壓大功率開關(guān)的最佳選擇,主要應(yīng)用于軌道牽引控制變流器、電機控制變流器、不間斷電源、焊接設(shè)備、電力轉(zhuǎn)換等領(lǐng)域[2]。

        在IGBT模塊中一般將IGBT芯片與二極管芯片進行反并聯(lián)封裝,其中二極管起續(xù)流作用,目前二極管主要采用Si基PIN結(jié)構(gòu)。當IGBT再次開啟的時候,二極管進入關(guān)斷過程,在關(guān)斷過程中由于Si基PIN二極管有方向恢復(fù)特性,導(dǎo)致其電流過沖及電壓過沖,電壓過沖會疊加到IGBT的開通過程,導(dǎo)致IGBT存在電壓尖峰。如果電路設(shè)計不好或者電壓余量不夠,很容易導(dǎo)致IGBT的過壓損壞。同時Si基PIN二極管的反向恢復(fù)損耗較大,導(dǎo)致二極管的開關(guān)損耗及整個器件的開關(guān)損耗變大。

        為了減小IGBT開通時的電壓尖峰,改善開關(guān)損耗,可以用單極型的結(jié)勢壘控制肖特基二極管(Junction Barrier Control Schottky Diode,JBS)代替PIN結(jié)構(gòu)的二極管。JBS是一種單載流子器件,相較于PIN結(jié)構(gòu)的二極管,幾乎沒有反向恢復(fù)特性,開關(guān)速度快,開關(guān)損耗小。但由于Si基的JBS器件耐壓一般較低,在幾十伏特到幾百伏特之間,限制了其在IGBT模塊中的應(yīng)用。

        碳化硅(SiC)是目前發(fā)展最成熟的寬禁帶半導(dǎo)體材料,與硅(Si)材料相比,具有高功率密度、高溫性能良好、電子遷移率高和禁帶寬度寬等優(yōu)點[1-3]。SiC基的JBS器件可以輕易達到3300 V的電壓等級甚至更高。與傳統(tǒng)的Si基PIN器件相比,SiC基的JBS器件具有更低能量損耗、更優(yōu)溫度特性和更高的工作頻率,在高壓、大功率、高溫和高頻等應(yīng)用方面具有很大的優(yōu)勢[2-4],能夠有效提高系統(tǒng)可靠性。

        國內(nèi)外已有關(guān)于Si IGBT+SiC JBS混合模塊的研究報道,包括3300 V/500 A、1700 V/1200 A等級的,而對于3300 V/1500 A等級的Si IGBT+SiC JBS混合模塊尚無報道。本文采用3300 V等級的SiC基JBS器件代替Si基PIN二極管器件,與3300 V等級的Si基IGBT芯片并聯(lián),研制3300 V/1500 A混合SiC IGBT模塊[5-6]。本文詳述了混合器件的制造工藝,具備實際生產(chǎn)的可操作性。通過測試對比傳統(tǒng)純Si基器件與Si IGBT+SiC JBS混合模塊的性能差異,并通過相同使用工況的計算對比,研究了兩者的損耗差異。研究表明,Si IGBT+SiC JBS結(jié)構(gòu)混合器件有效改善了IGBT開通時的電壓尖峰以及二極管的開關(guān)損耗。

        2 模塊結(jié)構(gòu)

        本文采用與成熟的純Si基3300 V/1500 A IGBT模塊(130 mm×140 mm×38 mm,HiPak封裝)相同的結(jié)構(gòu)作為基礎(chǔ),采用Si基IGBT芯片+SiC基JBS芯片的形式進行3300 V/1500 A混合Si/SiC模塊的研制,Si/SiC混合模塊的外形結(jié)構(gòu)如圖1所示,電氣原理如圖2所示。

        圖1 混合SiC模塊外觀

        圖2 電氣原理

        Si/SiC混合模塊內(nèi)部結(jié)構(gòu)如圖3所示,使用ABB的IGBT芯片(5SMY12J1721,3300 V/62.5 A)和南京電子器件研究所自主研發(fā)的SiC JBS芯片(3300 V/30 A)。Si/SiC混合模塊由6個子單元組成,每個子單元由4個Si基IGBT芯片和8個SiC基JBS芯片組成。采用氮化鋁(AlN)陶瓷材料的陶瓷覆銅基板可降低模塊熱阻,同時熱膨脹系數(shù)更接近于芯片材料[7-8],有利于可靠性的提高。

        圖3 混合SiC模塊子單元結(jié)構(gòu)

        除子單元外,Si/SiC混合模塊主要部件還包括底板、外殼、頂蓋、電路板、電極、子單元等。

        3 仿真分析

        利用有限元分析法對Si/SiC混合模塊的熱分布進行仿真,優(yōu)化了其中芯片位置布局,Si/SiC混合模塊的熱分布如圖4所示。IGBT芯片功耗為69.1 W,SiC JBS芯片功耗為6.57 W,模塊采用強制水冷散熱,熱導(dǎo)率為2000 W/(m·K),對于模型材料屬性的賦值,均按實際情況給予設(shè)定,主要材料熱導(dǎo)率如表1所示。

        圖4 Si/SiC混合模塊熱仿真分布

        表1 主要材料熱導(dǎo)率

        仿真結(jié)果顯示IGBT芯片表面溫度最高,最高溫度為82.4819℃,原因是IGBT芯片功耗較大,越靠近中間熱源越集中;二極管芯片由于功耗較小、溫度較低以及熱傳導(dǎo)的作用,靠近IGBT芯片的二極管溫度相對較高;底板的溫度分布與芯片的溫度分布類似,是由于芯片的熱傳導(dǎo)所致。底板邊緣溫度最低,最低溫度為38.7930℃。從熱分布上看,最高溫度遠低于芯片的最高結(jié)溫150℃,所以該Si/SiC混合模塊熱分布合理,滿足模塊散熱要求。

        4 封裝測試

        Si/SiC混合模塊封裝工藝包括芯片焊接、鋁線鍵合、聚酰亞胺涂敷、子單元焊接、外殼安裝、線路板安裝、線路板鍵合、頂蓋安裝、硅凝膠灌封、電極折彎。

        對封裝完成的Si/SiC混合模塊進行測試,靜態(tài)測試結(jié)果見表2,動態(tài)測試結(jié)果見表3。

        表2 Si/SiC混合模塊靜態(tài)測試

        表3 Si/SiC混合模塊動態(tài)測試

        5 對比分析

        圖5 為Si/SiC混合模塊二極管反向恢復(fù)曲線,從中可以看出二極管幾乎沒有過沖反向恢復(fù)電流,圖6為Si/SiC混合模塊IGBT開通曲線,從圖中可以看到IGBT開通電流幾乎沒有尖峰。與之對比的Si模塊的二極管反向恢復(fù)電流有明顯過沖,Si模塊二極管反向恢復(fù)曲線如圖7所示;圖8為Si模塊IGBT開通曲線圖,其中IGBT開通電流有明顯尖峰。

        圖5 Si/SiC混合模塊二極管反向恢復(fù)曲線

        圖6 Si/SiC混合模塊IGBT開通曲線

        圖7 Si模塊二極管反向恢復(fù)曲線

        圖8 Si模塊IGBT開通曲線

        在同等測試條件下對比Si/SiC混合模塊與傳統(tǒng)Si基IGBT模塊的主要參數(shù),表4為對比結(jié)果。從表中可以發(fā)現(xiàn),由于SiC基JBS在反向恢復(fù)特性上的優(yōu)勢,使得Si/SiC混合模塊的特性得到提升。各項對比如圖9~12所示,與傳統(tǒng)Si基IGBT模塊相比,Si/SiC混合模塊的VF增加了72.2%,但由于Irr減小了91.9%,Erec減小了98.3%,所以使得Si/SiC混合模塊的Eon減小了24.1%,同時trr也減小了97.5%。特性方面的改善使得Si/SiC混合模塊在實際應(yīng)用中自身損耗減小,發(fā)熱量減小、可靠性得以提升;也可以在不改變散熱條件的情況下先提升模塊的開關(guān)頻率。

        表4 Si/SiC混合模塊與純Si模塊主要參數(shù)對比

        圖9 二極管飽和壓降對比

        圖10 二極管反向恢復(fù)電流、反向恢復(fù)能量對比

        在相同運行工況條件下,Si/SiC混合模塊和Si模塊的續(xù)流二極管損耗對比情況見表5。

        圖11 IGBT開關(guān)損耗對比

        圖12 二極管反向恢復(fù)時間對比

        表5 運行工況

        計算公式如下。

        IGBT芯片靜態(tài)損耗:

        IGBT芯片動態(tài)損耗:

        續(xù)流二極管芯片靜態(tài)損耗:

        續(xù)流二極管芯片動態(tài)損耗:

        其中,Eon為Tvj=125℃時的開通損耗;Eoff為Tvj=125℃時的關(guān)斷損耗;fPWM為開關(guān)頻率,此處為1000 Hz;VCEsat為Tvj=125℃時IGBT的飽和壓降;Icp為峰值電流;VF為Tvj=125℃時二極管的導(dǎo)通壓降;D為占空比;cos θ為功率因數(shù)。

        根據(jù)上述工況及公式對兩種模塊的各部分功耗進行計算,計算結(jié)果見表6。從計算結(jié)果中可以看到,Si/SiC混合模塊的續(xù)流二極管為JBS結(jié)構(gòu),通態(tài)壓降較大,導(dǎo)致其通態(tài)損耗比Si模塊大,但是其動態(tài)損耗只有Si模塊的1.69%,因此Si/SiC混合模塊的續(xù)流二極管總功耗相對于Si模塊減少了62.1%。得益于SiC JBS二極管的優(yōu)良特性,Si/SiC混合模塊的IGBT開通損耗減小,使得Si/SiC混合模塊IGBT部分的功耗比Si模塊的總功耗減少11.1%。

        表6 功耗計算

        6 結(jié)論

        本文針對3300 V/1500 A等級Si/SiC混合模塊(Si IGBT+SiC SBD)開展了研究工作,由于SiC JBS的優(yōu)越性能,其反向恢復(fù)過程的峰值電流、損耗幾乎可以忽略,從而提升了混合模塊的性能。與傳統(tǒng)的Si基IGBT模塊相比,125℃時,Si/SiC混合模塊的VF增加了72.2%,但由于Irr減小了91.9%,Erec減小了98.3%,所以使得Si/SiC混合模塊的Eon減小了24.1%,同時trr也減小了97.5%。特性方面的改善使得Si/SiC混合模塊在實際應(yīng)用中自身損耗減小、發(fā)熱量減小、可靠性得以提升;也可以在不改變散熱條件的情況下先提升模塊的開關(guān)頻率。

        本文在相同的工況條件下對不同模塊進行了功耗計算,Si/SiC混合模塊的續(xù)流二極管為JBS結(jié)構(gòu),通態(tài)壓降較大,導(dǎo)致其通態(tài)損耗線比Si模塊大,但是其動態(tài)損耗只有Si模塊的1.69%,因此Si/SiC混合模塊的續(xù)流二極管總功耗相對Si模塊減少了62.1%。得益于SiC JBS二極管的優(yōu)良特性,Si/SiC混合模塊的IGBT開通損耗減小,使得Si/SiC混合模塊的IGBT部分的功耗比Si模塊的總功耗減少11.1%。

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