周宣伯 李秀梅 黃艷菊 于洋
(通化師范學院,吉林 通化 134001)
近年來,隨著我國經(jīng)濟的快速發(fā)展,如何治理環(huán)境和保證現(xiàn)有環(huán)境不被污染是我們現(xiàn)在面臨的重大問題,廢水處理技術作為當今消除環(huán)境污染物的主要手段,備受人們的關注。當前,光催化降解是解決廢水污染物最具前景的方法之一。過去幾年,許多光催化劑被開發(fā)出來,但由于其在光催化反應系統(tǒng)中存在可見光吸收能力低、對人類健康和環(huán)境有害等缺點,大大限制了這些光催化劑在實際中的應用。因此該技術的關鍵是尋找一種低成本、高效率,綠色環(huán)保的光催化劑。g-C3N4作為一種非金屬有機半導體材料,其化學性質(zhì)穩(wěn)定,與大多數(shù)半導體材料相比具有無毒無害且廉價易得的優(yōu)點,成為光催化領域中的熱點材料。然而,純相g-C3N4仍存在許多不足之處,例如比表面積低,光生電子和空穴的復合率高等。將純相g-C3N4與其他輔助催化劑相結(jié)合是提高光催化效率的一種重要方法。2017 年,Jin 等人采用水熱方法成功地合成了不同重量比的g-C3N4/Ag2MoO4納米復合材料,實驗結(jié)果表明,當兩者重量比為80%時,納米復合材料具有最佳的光催化性能,是單純g-C3N4催化性能的3.92 倍。Li 課題組采用光輔助方法成功地合成了界面緊密結(jié)合的II 型異質(zhì)結(jié)構g-C3N4/ZnO 納米棒陣列,用于光催化制氫領域。
二維納米材料MoS2作為當今最有前途的半導體光催化劑之一,不僅成本低,而且具有較大的比表面積、復雜的邊緣結(jié)構和高度不飽和的性能,在光催化劑、超級電容器和傳感器等方面也有著廣闊的應用前景。報道研究顯示,MoS2可以結(jié)合半導體形成異質(zhì)結(jié)結(jié)構加速光催化析氫,在光催化中具有重要意義。g-C3N4和MoS2的有效結(jié)合對于電子的快速轉(zhuǎn)移至關重要,理想的g-C3N4/MoS2光催化劑在很大程度上取決于它們的制備方法。近年來,越來越多的MoS2與g-C3N4復合材料被成功合成,并將其應用在能源、催化等領域。2019 年,吳等人通過水熱方法在g-C3N4上成功地原位生長了MoS2納米片,當MoS2納米片的厚度小于10nm,可以提高光降解過程中光產(chǎn)生電荷的傳輸速率。且g-C3N4和MoS2之間形成的異質(zhì)結(jié)界面,顯著提高了催化劑的穩(wěn)定性。
本論文通過簡單的水熱方法將MoS2與g-C3N4復合,并將其應用于光催化降解領域。水熱后g-C3N4形貌發(fā)生改變,由塊狀轉(zhuǎn)變?yōu)榧{米管狀。且MoS2納米花緊密地結(jié)合在g-C3N4納米管表面,二者緊密結(jié)合,有利于光生電子和空穴的有效轉(zhuǎn)移。最后,在可見光照射下催化降解污染物甲基橙(MO),對所制備納米材料的光催化活性進行評估。
利用熱聚合三聚氰胺的方法合成了體相g-C3N4。方法如下:將5g三聚氰胺放入坩堝中,在馬弗爐中于500°C 和520°C 下分別煅燒2h,將所得樣品冷卻至室溫,研磨,所得到的淡黃色粉末記為g-C3N4。
通過水熱法制備MoS2/g-C3N4納米催化劑,具體步驟如下:將0.05g g-C3N4粉末加入20mL 蒸餾水中,超聲,向其中加入0.394g Na2MoO4·2H2O,攪拌半小時,用離心機離心,然后用蒸餾水、乙醇清洗所得樣品,接著將得到的樣品溶于20mL蒸餾水中,加入0.1g硫代乙酰胺(TAA),攪拌1h,最后置于反應釜中,于180°C 下反應18h,所得樣品記為MoS2/g-C3N4納米催化劑。為了進行對比,在不加入鉬酸鈉和硫代乙酰胺的情況下,直接將g-C3N4粉末置于反應釜中于180°C 下反應18h。
為了證明樣品被成功制備,通過XRD 考察了樣品的晶相結(jié)構。圖1 為g-C3N4及MoS2/g-C3N4樣品的XRD 譜圖,位于13.1°和27.6°處展示出兩個衍射峰,這兩個衍射峰分別歸屬于純相g-C3N4結(jié)構的平面內(nèi)衍射峰和層間衍射峰。然而,從納米復合物MoS2/g-C3N4的XRD 圖譜中并沒有觀察到明顯MoS2的衍射峰,這是由于在所合成的納米材料中MoS2的含量較低,且MoS2在g-C3N4表面分散性良好所致的。
純相g-C3N4直接水熱的TEM 照片如圖2A 所示,從圖中可以看出水熱后的g-C3N4具有均勻的納米管狀結(jié)構。圖2B 為單純MoS2樣品的TEM 照片,可見利用水熱法合成出了粒徑均勻的MoS2納米花,由圖2B 右下角放大的電鏡照片也可以清晰的看到MoS2是由諸多納米片堆成的納米花狀結(jié)構。所制備的復合材料MoS2/g-C3N4的透射電鏡照片如圖2C-D 所示,可見MoS2納米花包裹在g-C3N4納米管表面,二者緊密結(jié)合,這對其光催化性能的提高是十分有益的。
g-C3N4和MoS2/g-C3N4納米催化劑在可見光照射下降解污染物MO 的C/C0 與時間的變化關系如圖3 所示,照射時間為40min 時,純相g-C3N4對污染物MO 的降解效率不大。然而在MoS2/g-C3N4納米復合催化劑存在的反應系統(tǒng)中,污染物MO 幾乎被完全降解。當可見光照射40min 時,MoS2/g-C3N4對污染物MO 的催化降解效率高達98.6%。納米復合催化劑具有優(yōu)異的光催化性能主要歸因于MoS2與g-C3N4緊密結(jié)合,促進電子和空穴的有效轉(zhuǎn)移,使復合物的催化性能提升。
通過采用水熱法成功合成了MoS2/g-C3N4光催化劑,其降解污染物MO 的效率高達98.6%,這是由于所形成的納米復合物中MoS2納米花緊密地包裹在g-C3N4納米管表面,二者緊密結(jié)合,有利于光生電子和空穴的快速轉(zhuǎn)移,從而提高了納米催化劑的光催化活性。當前,MoS2和g-C3N4納米催化劑在光催化領域的應用及研究相對較少,所以開發(fā)出同類型納米復合材料,并將其應用于光催化降解領域尤為重要。新型MoS2/g-C3N4復合材料作為高效光催化劑,可作為一種極具前景的環(huán)境應用材料,且二次污染小,成本較低。