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        靜電場(chǎng)電荷面密度與曲率關(guān)系的Matlab模擬研究

        2021-08-20 10:39:56陳曙英崔宏基
        廣西物理 2021年2期
        關(guān)鍵詞:橢球面面密度雙曲線

        陳曙英,陳 鋼,崔宏基

        (浙江工業(yè)大學(xué)應(yīng)用物理系,浙江 杭州 310023)

        1 引言

        對(duì)于避雷針并不陌生,它主要是利用尖端放電的原理引導(dǎo)雷電放電,再通過(guò)接地引線和裝置將雷電引入大地,從而達(dá)到保護(hù)建筑的目的。通過(guò)對(duì)尖端放電現(xiàn)象的研究,人們發(fā)現(xiàn)隨著導(dǎo)體表面曲率的增大,該位置的電荷密度也隨之升高。在強(qiáng)電場(chǎng)的作用下,導(dǎo)體中比較尖銳的部分則會(huì)發(fā)生放電現(xiàn)象,這就是尖端放電。

        尖端放電原理的應(yīng)用有很多,如工業(yè)煙囪的除塵裝置、電子打火裝置等[1]。雖然尖端放電現(xiàn)象的應(yīng)用很廣泛,但是大多數(shù)電磁類教科書(shū)中卻很少具體的討論表面電荷密度與導(dǎo)體曲率之間的關(guān)系。通過(guò)相關(guān)的數(shù)值模擬,分析并得到電荷面密度與曲率的關(guān)系,可以更好的豐富這些方面的研究。

        2 理論分析

        在講電荷面密度與曲率的關(guān)系前,必須先了解主曲率和平均曲率的概念。在已知曲面上取一點(diǎn)E,并且曲面在E點(diǎn)的法線為z軸,通過(guò)z軸可以得到許多剖切平面,如圖1所示,向上為z軸。曲面和每個(gè)剖切平面都相交,他們的交線是一條平面曲線,每條平面曲線在E點(diǎn)都有一個(gè)曲率半徑。不一樣的平面曲線在E點(diǎn)的曲率半徑一般是不相等的。這些曲率半徑中,找出最小和最大的曲率半徑,把這兩個(gè)稱之為主曲率半徑,分別用R1和R2表示[2]。

        圖1 曲率示意圖

        在眾多的曲面論的問(wèn)題中,起決定性作用一般都不是主曲率本身,而是由它們的平均值和乘積來(lái)決定的,即平均曲率和高斯曲率。對(duì)于一些簡(jiǎn)單的曲面,可以直接通過(guò)定義求出平均曲率和高斯曲率[3]。如式(1)所示:

        H就稱為曲面在給定點(diǎn)E 的平均曲率,K就是E 點(diǎn)的總曲率或高斯曲率。

        本文主要是利用MATLAB 模擬計(jì)算出相關(guān)曲面的曲率和其表面的電荷面密度,然后利用數(shù)值計(jì)算找出曲率與電荷面密度之間的關(guān)系。對(duì)于曲面,可以選擇橢球面、拋物面和雙曲面。并且經(jīng)過(guò)相關(guān)的公式推導(dǎo),可以得到三個(gè)曲面的曲率和電荷面密度的嚴(yán)格數(shù)學(xué)關(guān)系,其中式(2)為橢球面,式(3)為拋物面,式(4)為雙曲面。式(2)中K 為總曲率,Q 為橢球?qū)w的總電荷,a和b代表赤道半徑,c為極半徑;式(3)中σ0為拋物面頂點(diǎn)(,0,0)處電荷面密度,k為常數(shù);式(4)中a為實(shí)長(zhǎng)軸,b為實(shí)短軸,σ0為雙曲面頂點(diǎn)(,0,0)上的電荷面密度,k為常數(shù)。

        3 計(jì)算結(jié)果

        計(jì)算中選擇的導(dǎo)體的曲面為橢球面、拋物面和雙曲面,并且給定整個(gè)導(dǎo)體所帶電荷數(shù),然后利用MATLAB中的pdetool 工具模擬出電場(chǎng)的空間分布圖。其中橢球?qū)w的電場(chǎng)分布如圖2 所示。為了得到電荷面密度與曲率的關(guān)系,必須取得導(dǎo)體表面的電荷面密度,但pdetool 工具并不能直接給出電荷面密度的值。由于真空中靜電場(chǎng)中導(dǎo)體表面附近的場(chǎng)強(qiáng)滿足:

        而導(dǎo)體表面附近任一點(diǎn)的E 值已經(jīng)通過(guò)數(shù)值模擬計(jì)算得到,因此可以直接換算出該點(diǎn)的電荷面密度的值,即,可以在導(dǎo)體表面附近的空間取得若干個(gè)點(diǎn),然后依次得到各個(gè)點(diǎn)的電荷面密度。

        對(duì)于橢球面導(dǎo)體,由于橢圓的長(zhǎng)短軸具有特殊性,因此選擇點(diǎn)1(0,0.3)和點(diǎn)2(0.5,0)兩個(gè)點(diǎn)。從圖2 中得到E1=5.31,E2=6.75。再根據(jù)σ=Eε0,可以得出兩點(diǎn)的電荷面密度σ1和σ2。同時(shí),利用數(shù)學(xué)工具,可以得到兩點(diǎn)的K值,分別為K1=1.20,K2=5.56。根據(jù)公式(5),E與σ成正比,所以,而。

        圖2 橢球面導(dǎo)體電場(chǎng)分布圖

        對(duì)于橢球面電荷密度與曲率四分之一次方成正比[5],而數(shù)值模擬給出的比值約為0.68,雖然比值之間存在誤差,但還是在誤差范圍之內(nèi)。對(duì)于造成誤差的原因主要有以下幾種:首先是數(shù)值模擬的橢圓不是真正意義上的橢圓,具有棱角;其次有限元計(jì)算時(shí)空間要進(jìn)行是三角分割,對(duì)計(jì)算有一定影響。

        對(duì)于拋物線,在取點(diǎn)之前需要先確定定義域,然后任取兩個(gè)坐標(biāo)點(diǎn)。分別以兩個(gè)坐標(biāo)點(diǎn)為中心,得出附近點(diǎn)的具體坐標(biāo)值和對(duì)應(yīng)的電壓值。通過(guò)數(shù)據(jù)的篩選,選擇拋物線的頂點(diǎn)坐標(biāo)(0,0),并且隨機(jī)取得坐標(biāo)(0.3,0.09),得出兩個(gè)點(diǎn)曲率之比為,數(shù)值計(jì)算得到的兩點(diǎn)的電荷面曲率之比為,數(shù)值計(jì)算和理論分析符合的非常好。

        對(duì)于雙曲線,選擇的模型為(y+1)2-x=1,定義域?yàn)閇-1,1],得到雙曲線模擬坐標(biāo)三角形分割圖,如圖2。對(duì)于坐標(biāo)點(diǎn)的選擇,選擇雙曲線下半部分的頂點(diǎn)(0,0)和上半部分的一點(diǎn)(0.30,0.04)。經(jīng)過(guò)計(jì)算,得出兩點(diǎn)電荷面密度之比為,理論分析給出的曲率的四分之一次方之比為。通過(guò)不同坐標(biāo)點(diǎn)的電荷面密度和曲率的比值,發(fā)現(xiàn)公式(5)仍然得到滿足。通過(guò)橢圓模型、雙曲線模型和拋物線模型的建立,證明了在誤差允許的范圍內(nèi),橢圓、拋物線和雙曲線表面的電荷密度均與該處曲率的四分之一成正比。

        圖3

        之前的實(shí)驗(yàn)中,都是選取若干個(gè)點(diǎn)進(jìn)行比較,雖然最后得出了電荷面密度與曲率的關(guān)系,但說(shuō)服力不足,因此選取整條邊來(lái)進(jìn)行證明。通過(guò)數(shù)據(jù)的處理,得出拋物線、雙曲線和橢圓的一整條邊上的E值和曲率。通過(guò)Matlab 中的Cftool 工具,擬合出E值與曲率的關(guān)系圖如下:

        圖4 橢圓擬合曲線

        圖5 雙曲線擬合曲線

        圖6 拋物線擬合曲線

        通過(guò)擬合,得出擬合函數(shù)為E=a×Kb。其中,關(guān)于a和b 的取值,橢圓為a=3.847(3.772,3.923),b=0.25;雙曲線為a=3.584(3.373,3.795),b=0.25;拋物線為a=3.754(3.659,3.85),b=0.25。通過(guò)擬合曲線可以看出,E和K關(guān)系基本滿足E與K的四分之一次方成正比,所以可以推導(dǎo)出二次曲面導(dǎo)體表面電荷密度與曲率的四分之一次方成正比這一結(jié)論。

        4 結(jié)論

        利用軟件模擬出靜電感應(yīng)過(guò)程,并從中得出一系列坐標(biāo)點(diǎn)以及該點(diǎn)的電壓值。經(jīng)過(guò)數(shù)據(jù)的處理和計(jì)算,可以得到對(duì)應(yīng)點(diǎn)的電荷面密度及其表面的對(duì)應(yīng)曲率。將任意兩點(diǎn)之間的數(shù)據(jù)進(jìn)行對(duì)比,可以得出電荷面密度與曲率的對(duì)應(yīng)關(guān)系。通過(guò)本實(shí)驗(yàn)的結(jié)果,證明了通過(guò)軟件的模擬是可以更加方便的證明,對(duì)于二次曲面,電荷面密度與曲率的四分之一次方成正比。

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