劉 宏,桑元華,孫德輝,王東周,王繼揚(yáng),4
(1.山東大學(xué),晶體材料國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,濟(jì)南 250100;2.濟(jì)南大學(xué),前沿交叉科學(xué)研究院,濟(jì)南 250022;3.濟(jì)南量子技術(shù)研究院,濟(jì)南 250101;4.天津理工大學(xué),功能晶體研究院,天津 300384)
鈮酸鋰晶體(LiNbO3,簡(jiǎn)稱(chēng)LN)是一種傳統(tǒng)的多功能晶體,且具有成本低、熱學(xué)和化學(xué)穩(wěn)定性高、易于加工等市場(chǎng)化優(yōu)勢(shì),是少數(shù)歷久彌新、不斷開(kāi)辟應(yīng)用新領(lǐng)域的重要功能材料。
LN晶體是一種傳統(tǒng)的電光晶體[1-4],電光系數(shù)γ33=30.9×10-12mV-1。自從鈦擴(kuò)散、反質(zhì)子交換技術(shù)在LN晶圓上實(shí)現(xiàn)波導(dǎo)以來(lái),LN開(kāi)啟了在集成光學(xué)領(lǐng)域應(yīng)用的大門(mén)[5]。與其他集成光子材料相比,LN的電光性質(zhì)是其最大優(yōu)勢(shì),故而LN基高速調(diào)制解調(diào)器、光通信的波導(dǎo)信號(hào)放大器等[6-7]在現(xiàn)代通信系統(tǒng)中占據(jù)了較大市場(chǎng)。LN基電光調(diào)制器,具有很小的啁啾效應(yīng)、良好的消光比和優(yōu)越的器件穩(wěn)定性,可獲得高達(dá)40 GHz的帶寬。但是這種同質(zhì)材料通過(guò)離子注入等方式改性造成的折射率差通常小于0.1,光限域較低,限制了器件的集成度以及傳輸帶寬等性能的進(jìn)一步發(fā)展。
LN具有優(yōu)良的壓電性能,在表面聲波(SAW)器件、壓電換能器件等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。SAW器件以LN、鉭酸鋰晶體為基片,利用其壓電特性把電波的輸入信號(hào)轉(zhuǎn)變成為機(jī)械能,再將機(jī)械能轉(zhuǎn)變成電的信號(hào),從而對(duì)信號(hào)進(jìn)行過(guò)濾。由于晶體較強(qiáng)的熱釋電效應(yīng),在器件制備過(guò)程中易在晶體表面積累大量熱釋電電荷。當(dāng)靜電場(chǎng)的能量達(dá)到一定程度之后,放電現(xiàn)象會(huì)損壞叉指電極,從而限制了叉指電極的優(yōu)化范圍,即限制了SAW器件的工作頻率。通過(guò)化學(xué)還原,Standifer等[8]實(shí)現(xiàn)了LN基片的“黑化”,提高了晶體電導(dǎo)率近5個(gè)數(shù)量級(jí),顯著抑制了熱釋電效應(yīng),拓寬了LN、鉭酸鋰在SAW上的應(yīng)用頻率范圍。但是隨著通信技術(shù)的發(fā)展,濾波器向片式化、小型化、高頻化發(fā)展,目前晶圓基SAW器件的Q值、溫度系數(shù)、集成度等性能仍不能滿(mǎn)足新一代通信系統(tǒng)的要求。
LN晶體疇工程,通過(guò)周期性反轉(zhuǎn)疇調(diào)制晶體的非線性極化率來(lái)補(bǔ)償由于色散造成的基頻光與倍頻光之間的失配相位,即準(zhǔn)相位匹配(quasi-phase matching, QPM),在非線性光學(xué)領(lǐng)域占有非常重要的位置[9]。目前,LN疇工程已經(jīng)遍及1維、2維、3維材料,結(jié)合波導(dǎo)技術(shù)在非線性光學(xué)、非線性光學(xué)成像、量子通信等應(yīng)用領(lǐng)域發(fā)揮重要作用[10]。
LN晶體在電光調(diào)制、SAW器件等光電集成領(lǐng)域的重要作用,以及新一代通信系統(tǒng)對(duì)器件性能的高需求,催動(dòng)了LN單晶薄膜的發(fā)展。應(yīng)用器件的發(fā)展,正推動(dòng)LN晶體與半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)接軌,引發(fā)光電集成器件的革新。另一方面,LN的疇工程的多元化發(fā)展,正在拓展LN在非線性光學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用范圍。本文僅通過(guò)介紹近年來(lái)LN晶體的新發(fā)展和新應(yīng)用,對(duì)LN晶體研究的發(fā)展進(jìn)行了簡(jiǎn)單探討。
由于鈦擴(kuò)散、反質(zhì)子交換技術(shù)所制備的波導(dǎo)的局限性,LN單晶薄膜波導(dǎo)吸引了眾多科學(xué)家的研究興趣。從20世紀(jì)70年代開(kāi)始,化學(xué)氣相沉積法[11]、分子束外延[12]、磁控濺射[13]等外延方法被用來(lái)制備LN薄膜,但是受到薄膜質(zhì)量的限制,LN薄膜并沒(méi)有獲得應(yīng)用。直到1998年,Levy等利用“離子切片”(ion-slicing)技術(shù),首次獲得了厚度900 nm的LN單晶薄膜[14];Pastueaud等于2007年利用硅片鍵合和熱解離技術(shù)首次獲得了厚度約為500 nm的LN單晶薄膜,實(shí)現(xiàn)了技術(shù)的突破[15]。2009年,胡卉等將LN晶圓與半導(dǎo)體硅-二氧化硅鍵合,制備LN單晶薄膜[16],稱(chēng)為L(zhǎng)NOI(lithium niobate on insulator)(見(jiàn)圖1),薄膜厚度在300~900 nm可調(diào)[17]。
圖1 離子切片法制備LNOI示意圖Fig.1 Schematic diagram of ion-slicing process for LNOI
圖2 LN薄膜電光調(diào)制器與傳統(tǒng)電光調(diào)制器[19]Fig.2 LNOI based electro-optic modulator and traditional electro-optic modulator[19]
LNOI可實(shí)現(xiàn)光波導(dǎo)的包-芯折射率差達(dá)到1.2以上,大大增強(qiáng)了光限域能力,提高了光學(xué)器件的性能和集成度。2017年,Zhang等[18]利用ICP等離子刻蝕技術(shù)在LNOI上制備了波長(zhǎng)尺度的脊型波導(dǎo),首次實(shí)現(xiàn)傳輸損耗低于2.7 dB/m,從此開(kāi)啟了LNOI集成光學(xué)器件商品化的進(jìn)程。2018年,Wang等[19]在LN單晶薄膜上實(shí)現(xiàn)了集成LN電光調(diào)制器,數(shù)據(jù)傳輸速度高達(dá)210 Gbit/s,在將數(shù)據(jù)帶寬提升至100 GHz的同時(shí),器件表面積比傳統(tǒng)器件縮小約100倍(見(jiàn)圖2)。2019年,He等[20]制備了硅-LN混合集成的Mach-Zehnder電光調(diào)制器,實(shí)現(xiàn)了3 dB調(diào)制帶寬為70 GHz,低插入損耗為2.5 dB,調(diào)制速率高達(dá)112 Gbps。目前,硅基LN單晶薄膜的研究成為集成光學(xué)領(lǐng)域的一大熱點(diǎn)[21],電光調(diào)制、聲光調(diào)制、非線性變頻調(diào)制等多種光學(xué)調(diào)制方式陸續(xù)在硅基LN單晶薄膜上實(shí)現(xiàn)[22]。
此外, LNOI擁有特殊的硅基鍵合結(jié)構(gòu),在SAW器件上也有優(yōu)越的表現(xiàn)。近年來(lái),日本村田基于LN薄膜制備了超級(jí)高性能IHP SAW[23],由于硅基底的優(yōu)勢(shì),IHP SAW具有高Q值、低頻率溫度系數(shù)(TCF)、良好的散熱性。IHP SAW濾波器可以將LN產(chǎn)生的熱量高效地傳導(dǎo)到硅基底上,利用硅良好的導(dǎo)熱性,從而避免溫度的升高。低TCF和良好的散熱性,保證了IHP SAW濾波器在高溫下頻響穩(wěn)定性。此外,薄膜體聲波諧振器(FBAR)是使用薄膜半導(dǎo)體工藝在空氣中形成電極-壓電薄膜-電極的微結(jié)構(gòu)器件[24],可實(shí)現(xiàn)更低的插入損耗、更精確的頻率位置,而且其體積小、兼容硅工藝、可集成化。LN薄膜機(jī)電耦合系數(shù)可達(dá)43%@2 GHz[25],遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于傳統(tǒng)AlN薄膜的6.4%@2.5 GHz[26],容易滿(mǎn)足帶寬射頻系統(tǒng)的應(yīng)用,具有更高的應(yīng)用潛力。2019年,Plessky等提出了LN薄膜側(cè)向激勵(lì)體聲波諧振器的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),實(shí)現(xiàn)了更高的機(jī)電耦合,可以在10~15 GHz的頻率范圍運(yùn)行[27]。
LN單晶薄膜在SAW器件、集成光學(xué)等領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)性能跨越發(fā)展,成為L(zhǎng)N新材料發(fā)展的里程碑,被稱(chēng)為“鈮酸鋰谷”時(shí)代來(lái)臨的標(biāo)志[28-29]。LN薄膜是從LN晶圓上剝離,依賴(lài)于LN晶圓與硅基半導(dǎo)體鍵合技術(shù);另一方面集成光路微結(jié)構(gòu)加工依賴(lài)于CMOS(互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體)工藝技術(shù)。而目前半導(dǎo)體主流產(chǎn)線設(shè)計(jì)為直徑200 mm晶圓,因此LN單晶薄膜的巨大性能優(yōu)勢(shì)正推動(dòng)LN晶體與200 mm半導(dǎo)體接軌。Wang等[30]報(bào)道了直徑150 mm Z-切LN晶體的生長(zhǎng)技術(shù),山東大學(xué)-濟(jì)南大學(xué)聯(lián)合開(kāi)發(fā)了直徑200 mm LN晶體的批量化制備技術(shù)(見(jiàn)圖3)。由于SAW器件一般選擇Y127.86切LN基底,而集成光學(xué)器件需要X切LN基底,因此Y127.86和X切等特殊切型的200 mm LN晶體生長(zhǎng)技術(shù)是滿(mǎn)足未來(lái)SAW器件、集成光學(xué)器件對(duì)基質(zhì)晶體材料需求的關(guān)鍵技術(shù)。
圖3 直徑200 mm(8英寸)CLN晶體(濟(jì)南大學(xué)提供)Fig.3 200 mm CLN single crystal (by University of Jinan)
另一方面,由于Er離子的光譜特性,摻Er LN晶體是一種常用的平面光波導(dǎo)放大器的基質(zhì)晶體材料,通常利用鈦擴(kuò)散技術(shù)制備波導(dǎo)溝道[31]。近年來(lái),科學(xué)界開(kāi)始了基于摻Er LN單晶薄膜的集成光學(xué)器件研究。Cheng等在摻Er LN單晶薄膜基底上利用化學(xué)機(jī)械拋光光刻技術(shù)制備了波導(dǎo)放大器,促進(jìn)了LN集成光子器件的實(shí)用化[32]。Chen等構(gòu)建了摻Er LN微盤(pán)諧振腔,研究了1 530 nm/1 560 nm集成光源的性能,推動(dòng)了集成光學(xué)光源器件的發(fā)展[33]。由于Er離子對(duì)泵浦光980 nm的吸收截面較小,一般采用摻入Yb離子作為敏化劑,增大對(duì)泵浦光的吸收截面,從而提高輸出效率。未來(lái)生長(zhǎng)大尺寸Er/Yb雙摻LN晶體,用于集成光學(xué)器件的研究,是非常重要的研究方向之一。
自1995年,祝世寧等首次驗(yàn)證室溫極化技術(shù)制備周期極化鈮酸鋰晶體(PPLN)[34]以來(lái),LN疇工程主要向大片晶圓級(jí)PPLN和大口徑PPLN兩個(gè)方向發(fā)展。晶圓級(jí)PPLN可以與波導(dǎo)制備技術(shù)接軌,將LN非線性光學(xué)效應(yīng)與其他光學(xué)性能集成,形成多功能集成光學(xué)芯片。PPLN波導(dǎo)可以解決量子通信和量子測(cè)量領(lǐng)域存在通信波段(1 550 nm)和探測(cè)波段(800 nm)不匹配問(wèn)題,成為量子通信用單光子探測(cè)器、面陣單光子激光雷達(dá)的核心材料。濟(jì)南量子技術(shù)研究院與山東大學(xué)合作,實(shí)現(xiàn)了液相電極法晶圓級(jí)PPLN的制備[35],制備了質(zhì)子交換PPLN波導(dǎo)[36],并利用一個(gè)PPLN波導(dǎo)芯片搭建了34通道集成化上轉(zhuǎn)化探測(cè)器芯片[37](見(jiàn)圖4)。
近年來(lái),鑒于LNOI在集成光學(xué)上的優(yōu)勢(shì),LN薄膜的疇工程開(kāi)始廣受關(guān)注。2016年,Mackwitz等[38]首次在X切LNOI上獲得了橫向周期反轉(zhuǎn)疇結(jié)構(gòu)。最近報(bào)道了在X切LNOI上制備了PPLN脊型波導(dǎo),并獲得了超高歸一化效率1 550 nm激光倍頻輸出[39-40]。Stanicki等[41]總結(jié)了LN薄膜疇工程,促進(jìn)了非線性頻率調(diào)制器件的開(kāi)發(fā)。
圖4 (a)周期極化LN晶片[36]; (b)質(zhì)子交換PPLN波導(dǎo)[36];(c)34通道集成化上轉(zhuǎn)化探測(cè)器芯片[37]Fig.4 (a) Periodically polarized LN wafer[36]; (b) proton exchange PPLN waveguide[36]; (c) packaged PPLN waveguide chip with a 34-channel input and output fiber couplings[37]
另一方面,為了增加激光口徑,擴(kuò)展PPLN的強(qiáng)激光應(yīng)用領(lǐng)域,需要發(fā)展大口徑PPLN。由于LN晶體的矯頑場(chǎng)比較大,尤其是同成分LN晶體的矯頑場(chǎng)為21 kV/mm,一般通過(guò)外加電場(chǎng)法可制備厚度最大為1 mm的PPLN。Kim等[42]通過(guò)直接鍵合的方式使用兩塊1 mm厚的PPLN晶體制備了2 mm厚的晶體。而利用外加電場(chǎng)法直接制備大口徑PPLN就需要降低LN晶體的矯頑場(chǎng)。實(shí)驗(yàn)證明,摻入MgO、ZnO、In2O3等,可以改進(jìn)LN晶格結(jié)構(gòu)、降低晶體的矯頑場(chǎng),尤其是摻鎂LN晶體(MgO∶CLN)晶體(見(jiàn)圖5)晶格完整,矯頑場(chǎng)降至4.5 kV/mm,并將抗光損傷閾值提升超過(guò)2個(gè)數(shù)量級(jí)[43],極大地拓展了LN晶體在非線性光學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用。Ishizuki等獲得了5 mm×5 mm口徑的周期極化摻鎂LN(PPMgLN)晶體,通過(guò)其光參量振蕩過(guò)程獲得了77 mJ的中紅外激光輸出,轉(zhuǎn)換斜效率高達(dá)72%[44]。最近,在面向光電對(duì)抗等領(lǐng)域的高功率中紅外激光研究中心,Ishizuki等已經(jīng)制備了厚度達(dá)到10 mm的PPMgLN晶體(見(jiàn)圖6),并獲得了0.5 J的中紅外激光輸出[45]。
隨著疇結(jié)構(gòu)工程技術(shù)的發(fā)展,2018年,祝世寧等提出了飛秒激光擦除非線性系數(shù)的方案,實(shí)現(xiàn)了在LN晶體上的3D疇結(jié)構(gòu)制備(見(jiàn)圖7)[46],將LN晶體疇工程拓展到3D超晶格結(jié)構(gòu),基于3D介電體超晶格LN晶體,于2019年實(shí)現(xiàn)了高效的非線性光束整形[47]。
圖5 直徑80 mm(3英寸)摻鎂(5%摩爾分?jǐn)?shù))LN晶體(濟(jì)南大學(xué)提供)Fig.5 80 mm Mg doped LN crystal (by University of Jinan)
圖6 10 mm厚PPMgLN晶體[45]Fig.6 10 mm thick PPMgLN crystal[45]
圖7 激光疇擦除制備3D超晶格的示意圖及實(shí)際效果圖[46]Fig.7 Schematic diagram and measured images of 3D domain superlattices fabricatied with a femtosecond-laser erasing of nonlinearity[46]
圖8 直徑80 mm(3英寸)釹鎂雙摻LN晶體(濟(jì)南大學(xué)提供)Fig.8 80 mm Nd/Mg co-doped LN crystal(by University of Jinan)
在LN晶體中摻入稀土激活離子(Nd、Yb、Er、Tm等),結(jié)合LN疇工程的非線性光學(xué)性能,在半導(dǎo)體激光器直接泵浦下可實(shí)現(xiàn)自變頻的復(fù)合功能效果。這種自變頻復(fù)合功能晶體可以有效減少激光器光學(xué)器件數(shù)量,實(shí)現(xiàn)器件小型化。Liu等生長(zhǎng)了直徑80 mm(3英寸)釹鎂雙摻LN晶體(見(jiàn)圖8),并利用外加電場(chǎng)法制備了周期極化釹鎂雙摻LN,實(shí)現(xiàn)了激光自倍頻,輸出了80 mW的542 nm連續(xù)綠光[48],Yu等利用周期極化釹鎂雙摻LN實(shí)現(xiàn)了調(diào)Q自泵浦光參量振蕩,輸出了瓦級(jí)人眼安全的1 514 nm脈沖激光,以及3.8 μm中紅外激光[49]。但是目前由于晶體熱效應(yīng)比較嚴(yán)重,這種自變頻激光器的非線性轉(zhuǎn)化效率偏低。為了實(shí)現(xiàn)激光器產(chǎn)品化,還需進(jìn)一步對(duì)晶體構(gòu)型、激光器諧振腔設(shè)計(jì)等進(jìn)行研究。
現(xiàn)在又到了發(fā)展LN的一個(gè)高峰期。LN集成光路技術(shù)的最新進(jìn)展,已經(jīng)展示了其優(yōu)越的器件性能,獲得了科研和產(chǎn)業(yè)界的廣泛關(guān)注。所幸的是,我國(guó)正在形成一條從LN單晶薄膜到集成光路技術(shù)的產(chǎn)業(yè)鏈,在如今復(fù)雜的國(guó)際形勢(shì)下,完善產(chǎn)業(yè)鏈,形成自主可控的關(guān)鍵技術(shù)顯得尤為重要。因此,當(dāng)前發(fā)展大尺寸(8~12英寸(200~300 mm))LN晶體,尤其是SAW器件、集成光學(xué)器件應(yīng)用的特殊切型LN晶圓,促使LN與半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)接軌,突破大尺寸單晶薄膜制備工藝,為L(zhǎng)N集成光路技術(shù)的發(fā)展奠定材料基礎(chǔ)。
立足當(dāng)下,放眼未來(lái)。LN晶體是一種典型的非化學(xué)計(jì)量比晶體,同成分LN晶體中存在空位和反位缺陷等本征缺陷。實(shí)驗(yàn)已經(jīng)證明近化學(xué)計(jì)量比LN晶體(SLN,見(jiàn)圖9)的Li/Nb摩爾比接近1,其多項(xiàng)晶體性能表現(xiàn)出了較大的改進(jìn):矯頑場(chǎng)降低至約4 kV/mm,有利于LN晶體疇工程;電光系數(shù)γ22提高至約10 pm/V,有利于電光器件的開(kāi)發(fā);光折變性能獲得了近一個(gè)數(shù)量級(jí)的提升(1 mW/cm2光強(qiáng)),更有利于發(fā)揮LN晶體的光折變特性。近化學(xué)計(jì)量比LN晶體具有完整的晶格結(jié)構(gòu)、特殊的光吸收特性,有望成為太赫茲關(guān)鍵材料??茖W(xué)上認(rèn)為近化學(xué)計(jì)量比LN晶體是未來(lái)LN的發(fā)展方向,等待著科研工作者對(duì)其功能進(jìn)一步開(kāi)發(fā)。另外,LN的疇工程已經(jīng)在激光器領(lǐng)域展現(xiàn)出優(yōu)勢(shì)。因此,近化學(xué)計(jì)量比LN晶體、復(fù)合多功能LN晶體等高端LN晶體仍是未來(lái)LN晶體的主要發(fā)展方向。
圖9 直徑50~80 mm(2~3英寸)光學(xué)級(jí)近化學(xué)計(jì)量比LN晶體(山東大學(xué)提供)Fig.9 50~80 mm optical grade SLN crystal (by Shandong University)
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