謝冬香 吳小鹿 張麟熹
(江西核工業(yè)地質局測試研究中心,江西 南昌 330002)
近年來,隨著人們環(huán)保意識的不斷提高,城市生活污水和工業(yè)廢水處理率也在不斷提高。污水處理過程中產(chǎn)生的二次污染物―污泥,污泥量不斷增加給環(huán)境保護帶來了新的問題[1]。目前圍繞污泥檢測與鑒別是環(huán)境檢測的重點,《城市污泥處理廠污泥檢驗方法》 CJ/T 221-2005和《危險廢物鑒別標準》規(guī)定了污泥中有害成分鎘、汞、鉛、鉻、砷、銅、鋅等的檢測方法,但對污泥處理過程中的有用元素硅沒有具體的檢測方法。對于經(jīng)過鑒別后不屬于危險廢物的污泥,利用污泥中硅、鋁、鐵、鈣等無機物可制成水泥、磚、陶瓷燈、納米材料等,對污泥進行資源化處置[2],如孟令友、呂遠等人研究的以污泥中硅為原料制備納米復合材料[3],且硅含量對污泥資源化后制備的陶粒性能有一定影響[4],故對污泥中硅進行檢測非常有意義。
目前,沒有污泥中硅的標準檢測方法,其他介質中硅的測定方法主要是光度法、重量法、容量法[5-6]、X射線熒光光譜法[7-8],這些方法前處理都比較復雜、步驟多,分析方法繁瑣,人為影響因素大,且勞動強度大,分析周期長,越來越不能適應現(xiàn)代化快速檢測的需求。近年來興起的X射線熒光光譜法,分為壓片法和熔片法,壓片法受限于沒有大量的相同基體污泥標準物質,結果受礦物效應和顆粒效應影響大,不能保證準確性;熔片法測量需要測定燒失量,污泥因有機質含量高,故燒失量較高,燒失量結果偏差大,影響結果準確性。同時,熔片法前處理步驟多,熔片過程中試劑氣味刺鼻,費時費力,很難滿足快速測定的要求。本文選擇相對比較簡單的堿熔法消解污泥,熔融后加酸提取過濾,殘渣用焦硫酸鉀復熔,提取液合并采用靈敏度高、測量準確的電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀(ICP-OES)測定消解液中硅的含量,通過實驗條件和儀器條件的選擇探索出一種簡單快速、精確度較高的檢測方法。
Optima 5300DV型電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀(美國PE公司);無水碳酸鈉(分析純,西隴科學股份有限公司),無水四硼酸鈉(分析純,西隴科學股份有限公司),鹽酸(分析純,西隴科學股份有限公司),焦硫酸鈉(分析純,阿拉丁試劑),無水乙醇(分析純,西隴科學股份有限公司),超純水(電導率18.25MΩ/cm)。
二氧化硅標準溶液:1000 μg/mL:稱取1.0000 g預先經(jīng)1000℃灼燒45 min,并于干燥器中冷卻至室溫的基準試劑二氧化硅(質量分數(shù)99.9%),置于加有5 g無水碳酸鈉的鉑坩堝中,混勻,在1000℃的高溫爐中熔融15 min,用50 mL的溫水在聚四氟乙烯燒杯中加熱溶解熔融物,洗出鉑坩堝,待冷卻至室溫,移入1000 mL容量瓶中,用水稀釋至刻度,搖勻,儲于聚乙烯瓶中。
預置0.8 g無水碳酸鈉于鉑坩堝中,稱取0.5 g左右試樣,用不銹鋼絲混勻,再稱取0.4 g 四硼酸鈉,再次混勻后,將鉑坩堝放入瓷坩堝中,放入已升溫至800℃的高溫爐中,升高溫度至1000℃,溫度達到1000℃后熔融10 min,取出搖勻一次,再放入熔融5min,取出冷卻,將鉑坩堝放入200 ml聚四氟乙烯燒杯中,加入40 ml(1+1)鹽酸溶液,放置在低溫電熱板上加熱溶解,洗出鉑坩堝,底部有少量沉淀,過濾,濾液接入250ml容量瓶中,用水沖洗聚四氟乙烯燒杯和濾紙各3-4次。
待濾紙濾干,將濾紙包裹后連同沉淀放入鉑坩堝中,放在電熱板上蒸干水分,然后加入5 ml無水乙醇點火炭化,再放入馬弗爐中650℃灰化,取出稍冷后,加入1 g-2 g焦硫酸鉀,在700℃熔融5min,取出稍冷后加入5 ml水和1 ml鹽酸,放在電熱板中160℃加熱溶解,待溶解清亮后并入收集濾液的250 ml容量瓶中,定容搖勻。分取10 ml 至100 ml容量瓶中,對ICP-OES進行優(yōu)化后測量。
在測量前,對ICP-OES的射頻功率、等離子體流量、霧化氣流量、輔助氣流量等進行優(yōu)化。射頻功率從1200 W逐漸升高到1450 W,各譜線的強度逐漸升高,在1300 W后譜線的強度增量變小,故選擇射頻功率1300W。等離子體流量范圍10-17 L/min,測量元素強度,結合元素強度、冷卻效果、樣品在炬管壁的殘留等因素,等離子體流量選擇15L/min。霧化氣流量大小直接影響霧化器提升量、霧化效率、霧滴粒烴、氣溶膠在通道中的停留時間等。霧化氣的流量一般在0.4-1.0L/min,在霧化氣流量為0.8L/min時,強度達到最大,所以本實驗選擇最佳霧化氣流量為0.8L/min。輔助氣流量從0.1 L/min到0.6 L/min范圍內對樣品進行測量,在輔助氣流量為0.1L/min時,元素強度最大,但輔助氣流量太低,樣品停留時間長,造成中心管鹽分沉積;在輔助氣流量為0.2-0.6 L/min內測量,元素強度在0.2 L/min時達到最大,故實驗選擇0.2 L/min為最佳輔助氣流量。儀器射頻功率、等離子體流量、霧化氣流量、輔助氣流量與硅強度關系圖見圖3-1,選擇的儀器最佳條件見表3-1。
圖3-1 儀器射頻功率、等離子體氣流量、霧化氣流量、輔助氣流量與硅強度關系圖
表3-1 ICP-OES儀器工作參數(shù)
硅的分析波長推薦的有:251.611、212.412、288.158、252.851、221.667,在儀器最佳工作條件下測定制備好的樣品溶液,對各波長進行譜線重疊干擾和基體干擾分析,測量后檢查譜線發(fā)現(xiàn)硅的5條譜線干擾元素含量低,基本不影響測量,5條譜線樣品測量結果基本一致,故通過選擇信噪相對較高和相對標準偏差較小的譜線為最佳波長,即選擇硅 251.611。
表3-2 波長選擇結果對比
在最佳條件下,用堿熔法消解底質標準物質樣品GBW07365、GBW07407和實際污泥樣品各7份,用ICP-OES測量硅含量,測量結果見表3-3。結果表明,硅測量結果穩(wěn)定,測量結果相對標準偏差均在3 %以內,本方法測量污泥中硅樣品精密度高,穩(wěn)定性好。
表3-3 標準物質精密度測量結果
選擇底質標準物質樣品GBW07365、GBW07407,用本方法對樣品進行消解處理,在最佳測量條件下測量結果如表3-4。對結果進行分析可知,選取的底質標準物質測量結果與推薦值相對誤差在±2%以內,符合標準物質測量的質量控制要求。
表3-4 標準物質準確度測量結果
本文建立了一種采用堿熔消解-等離子體發(fā)射光譜儀快速、準確地測量污泥中硅的方法,對實驗條件和儀器條件進行最優(yōu)化選擇后,測量結果能夠滿足日常分析檢測質量要求。采用底質標準物質和實際污泥樣品進行精密度和準確度實驗,硅測量結果穩(wěn)定,測量結果相對標準偏差均在3 %以內,標準物質測量結果與推薦值相對誤差在±2%以內,滿足方法可行性評估要求。