陳智勇, 徐穎強(qiáng), 肖 立, 李妙玲, 李 彬, 高銘遠(yuǎn)
(1.西北工業(yè)大學(xué) 機(jī)電學(xué)院,西安 710072;2.洛陽理工學(xué)院 機(jī)械工程學(xué)院,河南 洛陽 471023)
碳纖維增強(qiáng)碳化硅(C/C-SiC)復(fù)合材料具有硬度高、強(qiáng)度大、耐磨損、耐腐蝕耐高溫、熱膨脹系數(shù)小等優(yōu)良特性[1-4],有著廣泛的應(yīng)用前景,受到國內(nèi)外研究學(xué)者的青睞。C/C-SiC復(fù)合材料已廣泛應(yīng)用于高鐵、航空航天等國防軍工領(lǐng)域,例如高鐵制動(dòng)盤、飛機(jī)制動(dòng)系統(tǒng)和渦輪葉片、高速飛行器熱防護(hù)部件、火箭發(fā)動(dòng)機(jī)噴管、喉襯和推力室等。
C/C-SiC復(fù)合材料的制備方法主要有先驅(qū)體轉(zhuǎn)換法、反應(yīng)熔滲法、熱壓法、化學(xué)氣相滲透法。先驅(qū)體轉(zhuǎn)換法是20世紀(jì)90年代發(fā)展起來的先進(jìn)的制備方法,它的出現(xiàn)是C/C-SiC復(fù)合材料快速發(fā)展的直接動(dòng)因之一。先驅(qū)體轉(zhuǎn)換法優(yōu)勢(shì)突出,制備溫度較低,不易損傷增強(qiáng)纖維,對(duì)不同的纖維預(yù)制體適應(yīng)性較強(qiáng),能夠制備大尺寸、厚壁、形狀復(fù)雜的C/C-SiC復(fù)合材料部件,且基體成分分布均勻[5-7];但先驅(qū)體在交聯(lián)固化、裂解過程中,基體收縮率很大,導(dǎo)致微結(jié)構(gòu)不致密。為獲得高致密度、高性能的材料須多次浸漬裂解,制備成本較高,如何提升材料致密度是C/C-SiC復(fù)合材料的重要研究方向。
國內(nèi)外對(duì)C/C-SiC復(fù)合材料的微觀組織結(jié)構(gòu)(開孔率、孔隙尺寸和分布等)調(diào)控等方面做了大量研究。Kumar等[8]研究了多孔體的液硅熔滲過程,認(rèn)為滲透速率由所有孔隙控制;Zhang等[9]制備了孔隙相同、C相含量不同的C/C-SiC復(fù)合材料,結(jié)果表明,隨著C相含量的增加,復(fù)合材料的彎曲強(qiáng)度和剪切強(qiáng)度逐漸提高;劉偉等[10]研究了孔隙率與C/C-SiC復(fù)合材料組成相與性能之間關(guān)系,認(rèn)為存在一個(gè)臨界孔隙率,可使材料密度和強(qiáng)度達(dá)到最大值;謝巍杰等[11]利用不同密度的預(yù)制體制備了密度相近的C/C-SiC復(fù)合材料,結(jié)果表明,隨C相含量增加,復(fù)合材料的彎曲強(qiáng)度和抗氧化性能反而下降。以上研究均表明,預(yù)制體中C含量、孔隙分布和密度均是影響滲硅的重要因素,進(jìn)而影響到C/C-SiC復(fù)合材料的性能。
利用先驅(qū)體轉(zhuǎn)換法制備C/C-SiC復(fù)合材料過程中,將短切碳纖維等混合料冷壓成型后,再經(jīng)固化、炭化制得低密度C/C復(fù)合材料,將其作為滲硅陶瓷化的骨架材料(碳纖維預(yù)制體),將液態(tài)的聚合物先驅(qū)體(如聚碳硅烷溶液或熔體)浸漬到多孔的纖維預(yù)制體內(nèi),然后經(jīng)交聯(lián)固化、裂解,先驅(qū)體原位轉(zhuǎn)化成SiC基體,SiC填充在碳纖維預(yù)制體內(nèi)部空隙處使得孔隙率逐漸降低,經(jīng)過多次“浸漬-交聯(lián)-裂解”的循環(huán)工藝,材料密度和性能逐漸提高,即制得高性能的C/C-SiC復(fù)合材料。滲硅陶瓷化時(shí)的熔滲溫度、保溫時(shí)間、真空度和裂解周期對(duì)硅碳反應(yīng)和滲硅陶瓷化后SiC基體的含量和殘留Si的含量有顯著影響,并直接影響到C/C-SiC復(fù)合材料的密度、孔隙率和孔隙分布,進(jìn)而影響到C/C-SiC復(fù)合材料的強(qiáng)韌性和摩擦磨損性能[12-13]。因此,滲硅陶瓷化時(shí)的熔滲溫度、保溫時(shí)間、真空度和裂解周期對(duì)C/C-SiC復(fù)合材料致密度的影響亟須深入研究。
為制備高致密度、力學(xué)性能優(yōu)異的C/C-SiC復(fù)合材料,本工作將碳纖維預(yù)制體與聚碳硅烷浸漬固化,利用先驅(qū)體轉(zhuǎn)化法制備C/C-SiC復(fù)合材料,對(duì)試樣進(jìn)行微觀結(jié)構(gòu)分析、性能測(cè)試,研究滲硅溫度、保溫時(shí)間、真空度和裂解周期對(duì)C/C-SiC復(fù)合材料致密度的影響,進(jìn)而探索優(yōu)化的滲硅溫度、保溫時(shí)間、真空度和裂解周期區(qū)間。
增強(qiáng)纖維采用短切碳纖維,長(zhǎng)度300~500 μm;二甲苯(xylene),洛陽市化學(xué)試劑廠;二乙烯基苯(DVB),淺黃色液體,上海高橋化工廠;聚碳硅烷(PCS),黃褐色固體,國防科技大學(xué),實(shí)驗(yàn)前將PCS球磨成粉,過80目篩。
將短切碳纖維等混合料冷壓成型后,再經(jīng)固化、碳化制得碳纖維預(yù)制體,使用壓力浸漬爐將液態(tài)先驅(qū)體浸漬到碳纖維預(yù)制體內(nèi),然后在真空燒結(jié)爐中高溫交聯(lián)固化、裂解,依次進(jìn)行共14個(gè)周期的“浸漬-交聯(lián)-裂解”的循環(huán)工藝[14]。具體工藝參數(shù)如下:
(1)先驅(qū)體質(zhì)量比mxylene∶mDVB∶mPCS= 2∶3∶10,溫度40~60 ℃時(shí),先驅(qū)體溶液黏度在170~410 MPa?s[15]。
(2)固化、炭化時(shí),在15 min內(nèi)使溫度由室溫快速升至90 ℃,在90 ℃保溫60 min,使混合料均勻受熱,酚醛樹脂受熱完全包裹短切碳纖維;之后快速升溫至120 ℃,并保溫15 min,壓力設(shè)置在0.5~1 MPa,保溫結(jié)束后,升至150 ℃,保溫10 min后,施加最終壓力25 MPa,預(yù)制體纖維體積含量約30%。
(3)高溫真空熔融滲硅陶瓷化時(shí),分別選擇滲硅溫度1500 ℃、1600 ℃、1700 ℃、1800 ℃、1900 ℃,滲硅保溫時(shí)間10 min、20 min、30 min、60 min、90 min、120 min,絕對(duì)壓強(qiáng)50 Pa、100 Pa、500 Pa、1000 Pa。
(4)每經(jīng)過三周期的“浸漬-固化-裂解”,進(jìn)行一次1800 ℃、3~6 h的高溫開孔、石墨化處理。
采用S-23700N型掃描電子顯微鏡,加速電壓設(shè)置為20 kV,觀察C/C-SiC復(fù)合材料微觀形貌。
用排水法測(cè)試材料密度和孔隙率;采用AccuPyc II 1340型真密度分析儀,按照GB/T 25995—2010《精細(xì)陶瓷密度和顯氣孔率試驗(yàn)方法》測(cè)試樣品密度。表觀密度計(jì)算公式為:
顯氣孔率計(jì)算公式為:
采用AG-2000A型萬能材料試驗(yàn)機(jī),參照GB/T 23805—2009《精細(xì)陶瓷室溫拉伸強(qiáng)度試驗(yàn)方法》、GB/T 6569—2006《精細(xì)陶瓷彎曲強(qiáng)度實(shí)驗(yàn)方法》,測(cè)量樣品的拉伸強(qiáng)度、彎曲強(qiáng)度,試樣拉伸標(biāo)距和彎曲跨距30 mm,加載速率為0.5 mm/min;使用單邊切口梁法測(cè)試樣品斷裂韌度,切口深度約為試樣高度的1/3,切口寬度為0.3 mm。采用HVS-5型Vickers硬度儀,參照GB/T 16534—2009《精細(xì)陶瓷室溫硬度試驗(yàn)方法》測(cè)試樣品維氏硬度,載荷為1 kg,加載時(shí)間為15 s[16]。
分散均勻的短切碳纖維經(jīng)真空壓縮過濾,干燥后形成坯體,圖1為制備好的短切碳纖維預(yù)制體的宏觀形貌。由圖1可以看出,纖維預(yù)制體完整,沒有發(fā)現(xiàn)明顯的褶皺、開裂等宏觀缺陷。纖維在預(yù)制體中分布均勻,沒有發(fā)現(xiàn)明顯的纖維團(tuán)聚現(xiàn)象。
“浸漬-交聯(lián)-裂解”的循環(huán)工藝處理后的C/C-SiC復(fù)合材料微觀形貌用電子顯微鏡觀察。圖2是在滲硅溫度1700 ℃、保溫時(shí)間30 min、絕對(duì)壓強(qiáng)50 Pa工藝條件下,經(jīng)9、10、11次循環(huán)處理后所制備的C/C-SiC復(fù)合材料斷口微觀形貌。圖2中長(zhǎng)柱狀為短切碳纖維,SiC相為暗灰色,游離Si相為亮白色,黑色為空隙。從圖2可見,短切碳纖維縱橫交錯(cuò),說明制備的預(yù)制體中纖維分布均勻;對(duì)比圖2(a)~(c),發(fā)現(xiàn)纖維拔出越來越少,說明隨著浸漬-裂解周期數(shù)的增多,碳纖維與SiC基體結(jié)合力越來越好,碳纖維增韌補(bǔ)強(qiáng)作用明顯;黑色間隙區(qū)域逐漸減少,尤其是經(jīng)10、11次循環(huán)處理,孔隙基本消失,材料致密程度已經(jīng)沒有明顯變化;(b)和(c)圖中暗灰色的SiC相已基本無變化。因此,可以認(rèn)為11次循環(huán)周期已使預(yù)制體孔隙最大限度地被填充并碳化裂解,繼續(xù)循環(huán)處理,復(fù)合材料的致密度也不會(huì)明顯增加[17]。
圖 1 碳纖維預(yù)制體的宏觀形貌Fig. 1 Macromorphology of carbon fiber preform
圖 2 不同裂解周期的C/C-SiC復(fù)合材料微觀形貌SEM圖像 (a)9周期;(b)10周期;(c)11周期Fig. 2 SEM images of C/C-SiC composite micro morphologies with different cracking cycles (a) 9 cycles;(b) 10 cycles;(c) 11 cycles
在保溫時(shí)間30 min、絕對(duì)壓強(qiáng)50 Pa、11個(gè)裂解周期工藝條件下,分別在1500 ℃、1600 ℃、1700 ℃、1800 ℃、1900 ℃溫度條件下,對(duì)C/C復(fù)合材料進(jìn)行高溫真空熔融滲硅,制備C/C-SiC復(fù)合材料,研究滲硅溫度對(duì)C/C-SiC復(fù)合材料密度、孔隙率的影響,進(jìn)而優(yōu)選出最佳滲硅溫度[18-19]。
圖3為不同滲硅溫度下C/C-SiC復(fù)合材料密度、孔隙率變化曲線圖。從圖3可以看出,隨著滲硅溫度的升高,材料的密度呈先加速升高后快速下降的趨勢(shì),氣孔率則呈先加速下降后快速上升趨勢(shì)。這是由于當(dāng)滲硅溫度較低時(shí),液態(tài)硅黏度較大,在坯體內(nèi)部孔隙通道中流動(dòng)性差,毛細(xì)管力較低,相對(duì)于液態(tài)硅的流動(dòng)速率,液態(tài)硅與碳源反應(yīng)生成SiC的速率比較占優(yōu)勢(shì),反應(yīng)生成SiC導(dǎo)致體積膨脹,堵塞孔隙通道,阻礙液態(tài)繼續(xù)流動(dòng),進(jìn)而導(dǎo)致所制備的C/C-SiC復(fù)合材料密度偏低、孔隙率較高;隨著滲硅溫度逐漸升高,高溫會(huì)降低液態(tài)硅的黏度,液態(tài)硅在坯體內(nèi)部孔隙通道中流動(dòng)性提高,毛細(xì)管力較大,液態(tài)硅在快速填充孔隙的同時(shí),與碳源反應(yīng)生成SiC,進(jìn)而導(dǎo)致所制備的C/C-SiC復(fù)合材料的密度逐漸增高、孔隙率逐漸降低;當(dāng)滲硅溫度繼續(xù)升高時(shí),雖然高溫有利于液態(tài)硅快速填充孔隙,但同時(shí)也會(huì)提高生成SiC反應(yīng)的速率,當(dāng)生成SiC的速率再次占據(jù)優(yōu)勢(shì)時(shí),C/C-SiC復(fù)合材料的密度會(huì)逐漸降低,孔隙率會(huì)逐步升高。當(dāng)滲硅溫度為1700 ℃時(shí),所制備的C/C-SiC復(fù)合材料密度最大、孔隙率最小。
圖 3 滲硅溫度與C/C-SiC復(fù)合材料密度和孔隙率之間的關(guān)系曲線Fig. 3 Relation curves of siliconizing temperature with density and porosity of C/C-SiC composite
在滲硅溫度為1700 ℃、絕對(duì)壓強(qiáng)為50 Pa、11個(gè)裂解周期工藝條件下,研究保溫時(shí)間對(duì)所制備的C/C-SiC復(fù)合材料的密度、孔隙率的影響,進(jìn)而優(yōu)選出最佳保溫時(shí)間[20]。
圖4為不同保溫時(shí)間下C/C-SiC復(fù)合材料的密度和孔隙率變化曲線。從圖4可看出,隨著保溫時(shí)間的增大,材料密度先增加而后降低,材料孔隙率變化趨勢(shì)與密度變化趨勢(shì)相反。在10 min至30 min保溫時(shí)間區(qū)間內(nèi),材料密度呈快速上升趨勢(shì),且增幅較大,材料孔隙率呈快速下降趨勢(shì),且降幅較大;在30 min至60 min保溫時(shí)間區(qū)間內(nèi),材料密度和孔隙率緩慢下降;在60 min至120 min保溫時(shí)間區(qū)間內(nèi),材料密度呈加速下降趨勢(shì),但降幅較小,材料孔隙率呈加速上升趨勢(shì),但增幅較小。這種變化規(guī)律是由于在10 min至30 min保溫時(shí)間區(qū)間內(nèi),隨著保溫時(shí)間的增加,液態(tài)硅有充足的時(shí)間填充孔隙,與碳源發(fā)生反應(yīng)生成SiC,因此該階段材料密度呈顯著上升趨勢(shì),孔隙率也明顯降低;在30 min至60 min保溫時(shí)間區(qū)間內(nèi),液態(tài)硅已填充孔隙完畢,與碳源發(fā)生反應(yīng)生成SiC結(jié)束,因此該階段材料密度和孔隙率幾乎不發(fā)生變化;在60 min至120 min保溫時(shí)間區(qū)間內(nèi),由于液態(tài)硅不斷高溫?fù)]發(fā),導(dǎo)致復(fù)合材料表層殘余硅蒸發(fā)流失,因此該階段材料密度和孔隙率分別緩慢下降和上升。
圖 4 保溫時(shí)間與C/C-SiC復(fù)合材料密度和孔隙率之間的關(guān)系曲線Fig. 4 Relation curves of holding time with density and porosity of C/C-SiC composite
圖5為不同保溫時(shí)間下C/C-SiC復(fù)合材料中殘留硅的變化曲線圖。從圖5可以看出,隨著保溫時(shí)間增加,殘留硅的含量呈持續(xù)下降趨勢(shì)。這是由于當(dāng)保溫時(shí)間由10 min增加至30 min時(shí),液態(tài)硅不斷地與碳源反應(yīng)生成SiC被消耗,殘留硅的含量降低;當(dāng)保溫時(shí)間進(jìn)一步增加時(shí),復(fù)合材料表層殘余硅蒸發(fā)流失,導(dǎo)致殘留硅的含量進(jìn)一步降低[21]。
圖 5 保溫時(shí)間與C/C-SiC復(fù)合材料殘留硅關(guān)系曲線Fig. 5 Relationship between holding time and residual silicon in C/C-SiC composite
綜合分析圖4和圖5可知,在滲硅溫度為1700 ℃的前提下,保溫時(shí)間為30 min時(shí),所制備的C/CSiC復(fù)合材料密度最大、孔隙率最小。
在滲硅溫度1700 ℃、保溫時(shí)間30 min、11個(gè)裂解周期工藝條件下,研究真空度對(duì)所制備的C/CSiC復(fù)合材料密度和孔隙率的影響,優(yōu)選出最佳真空度[22]。
圖6分別為不同真空度下C/C-SiC復(fù)合材料的密度和孔隙率的變化曲線。從圖6可看出,隨著燒結(jié)真空度的提高(絕對(duì)壓強(qiáng)減?。?,材料密度增大,孔隙率減小。這是由于提高真空度可為液態(tài)硅提供更強(qiáng)大的熔滲動(dòng)力,液態(tài)硅連續(xù)填充孔隙并與碳源反應(yīng),進(jìn)而不斷提升材料致密度[23]。
圖 6 真空度與C/C-SiC復(fù)合材料密度和孔隙率關(guān)系曲線Fig. 6 Relationship of vacuum degree with density and porosity of C/C-SiC composite
從圖6可知,在滲硅溫度1700 ℃、保溫時(shí)間30 min的前提下,絕對(duì)壓強(qiáng)50 Pa時(shí),所制備的C/C-SiC復(fù)合材料密度最大、孔隙率最小。
在滲硅溫度1700 ℃、保溫時(shí)間30 min、絕對(duì)壓強(qiáng)50 Pa工藝條件下,研究裂解周期對(duì)所制備的C/C-SiC復(fù)合材料密度和孔隙率的影響,優(yōu)選出最佳裂解周期[24]。
將碳纖維預(yù)制體浸漬PCS漿料(PCS∶DVB∶二甲苯 = 10∶3∶2),經(jīng)加壓浸漬、固化交聯(lián)、高溫裂解,PCS裂解產(chǎn)物SiC填充在預(yù)制體空隙處。經(jīng)14周期的“浸漬-固化-裂解”后得到C/C-SiC復(fù)合材料,對(duì)每周期的C/C-SiC復(fù)合材料留樣并測(cè)量密度、孔隙率。圖7為不同裂解周期C/C-SiC復(fù)合材料的密度和孔隙率變化曲線圖。從圖7可看出,隨著裂解周期的增加,C/C-SiC復(fù)合材料的密度呈不斷增加趨勢(shì),孔隙率呈不斷降低趨勢(shì),但可以看到密度增速和孔隙率降速都逐漸降低,經(jīng)過11周期后,密度、孔隙率幾乎都不再變化。這和顯微形貌分析結(jié)果一致,說明11周期浸漬、裂解已使制備的C/C-SiC復(fù)合材料達(dá)到了最大致密度。
圖 7 裂解周期與C/SiC復(fù)合材料的密度和孔隙率關(guān)系曲線Fig. 7 Relationship curves of cracking cycle with density and porosity of C/SiC composite
從圖7可看出,在前5輪裂解過程中,C/CSiC復(fù)合材料的密度不斷增加,這是因?yàn)镻CS高溫裂解產(chǎn)物SiC不斷填充材料內(nèi)部孔隙,使材料內(nèi)部孔隙率不斷降低,進(jìn)而導(dǎo)致材料密度不斷增加。在第5、6輪裂解過程中,材料密度曲線增速明顯降低,與之對(duì)應(yīng)的是孔隙率曲線下降速度明顯減緩。這是因?yàn)樵诘?輪裂解時(shí)進(jìn)行了高溫處理,使PCS裂解釋放更多的產(chǎn)物氣體,導(dǎo)致質(zhì)量有所損失,但有利于內(nèi)部閉氣孔打開,進(jìn)而提供更多的孔隙。這樣更有利于后期的順利浸漬裂解,使C/CSiC復(fù)合材料的密度不斷增加,孔隙率不斷降低[25]。
綜合分析圖3~圖7可以獲知,在滲硅溫度1700 ℃、保溫時(shí)間為30 min、絕對(duì)壓強(qiáng)50 Pa條件下,再經(jīng)11周期的“浸漬-固化-裂解”后,所制備的C/C-SiC復(fù)合材料密度最大、孔隙率最小,密度為2.09 g/cm3、孔隙率為7.6%。此時(shí)所制備的C/C-SiC復(fù)合材料綜合力學(xué)性能最為優(yōu)異,力學(xué)性能測(cè)試結(jié)果為:彎曲強(qiáng)度468 MPa、拉伸強(qiáng)度242 MPa、斷裂韌度19.5 MPa?m1/2、維氏硬度17.2 GPa。
(1)隨著滲硅溫度的升高,材料的致密度呈先加速升高后快速下降趨勢(shì),當(dāng)滲硅溫度為1700 ℃時(shí),材料致密度最高。
(2)隨著保溫時(shí)間的增大,材料的致密度先快速升高,保持一段時(shí)間穩(wěn)定后再緩慢降低,在滲硅溫度為1700 ℃的前提下,保溫時(shí)間為30 min時(shí),材料致密度最高。
(3)隨著燒結(jié)真空度的提高,材料的致密度加速升高,在滲硅溫度為1700 ℃、保溫時(shí)間為30 min的前提下,絕對(duì)壓強(qiáng)為50 Pa時(shí),材料致密度最高。
(4)隨著裂解周期的增加,C/C-SiC復(fù)合材料的致密度呈不斷增加趨勢(shì),且增速逐漸降低,在滲硅溫度為1700 ℃、保溫時(shí)間為30 min、絕對(duì)壓強(qiáng)為50 Pa前提下,經(jīng)過11周期的“浸漬-固化-裂解”過程后,材料致密度最高,綜合力學(xué)性能最優(yōu)。
(5)該工藝過程中,每經(jīng)過三周期的“浸漬-固化-裂解”,進(jìn)行一次1800 ℃、3~6 h的高溫開孔、石墨化處理,有利于提高材料浸漬、裂解效率,與優(yōu)化先驅(qū)體(質(zhì)量比mxylene∶mDVB∶mPCS= 2∶3∶10)配合,生產(chǎn)周期較短,制備成本低。