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        基于金-銅納米復(fù)合粒子修飾的甲硝唑分子印跡傳感器的研究

        2021-01-15 01:45:56郭宣利王文廉
        分析科學(xué)學(xué)報 2020年6期
        關(guān)鍵詞:印跡甲硝唑孵育

        郭宣利, 王文廉*

        (1.中北大學(xué)儀器科學(xué)與動態(tài)測試教育部重點實驗室,山西太原 030051; 2.中北大學(xué)電子測試技術(shù)國家重點實驗室,山西太原 030051)

        甲硝唑(MNZ)是臨床常用的硝基咪唑類抗生素藥物,具有抗菌和消炎的作用[1],由于MNZ具有生長促進劑的作用,可以促進水產(chǎn)品的的生長,致使在水產(chǎn)品飼料中添加時有發(fā)生,對人體健康造成危害[2]。當前檢測MNZ的方法如色譜法[3]、質(zhì)譜法[4]和紫外分光光度法[5]存在操作繁瑣,時間冗長,成本太高等問題。分子印跡技術(shù)是指制備對某一特定目標分子具有特異選擇性聚合物的過程。在分子識別、固相萃取、色譜分離等方面得到廣泛應(yīng)用。分子印跡傳感器具有高靈敏度和高選擇性的優(yōu)點,便于自動化和現(xiàn)場檢測使用,檢測成本低,已成為研究熱點[6,7]。

        目前,分子印跡聚合物(MIPs)的制備方法主要有本體聚合、懸浮聚合、沉淀聚合等[8]。金屬納米顆粒,諸如Au、Pt、Ag、Cu、Ni,已經(jīng)成為最熱門的增加電化學(xué)活性的電催化劑[9,10]。Au納米粒子(Au NPs)與Cu納米粒子(Cu NPs)較大的比表面積可以有效增加分子的負載量,且可與生物分子良好兼容,用它作為增敏材料可有效提高電化學(xué)傳感器的靈敏度、穩(wěn)定性以及生物相容性[11]。與單一的納米粒子相比,納米合金粒子的催化特性和生物相容性更加突出,不同納米粒子雖然相互獨立,但納米合金卻不只是兩種納米粒子性能的簡單相加。而是在保持各個金屬特點的基礎(chǔ)上,具有金屬間協(xié)同作用產(chǎn)生的綜合性能[15]。本文采用電沉積法將Au-Cu合金納米粒子(AuCu NPs)修飾在玻碳電極表面,利用循壞伏安法(CV)和差分脈沖伏安法(DPV)對所修飾的MNZ分子印跡傳感器進行電化學(xué)表征。結(jié)果顯示納米Au-Cu修飾的電極信號更靈敏。通過多次實驗優(yōu)化了實驗條件,實現(xiàn)了對MNZ的測定。

        1 實驗部分

        1.1 主要儀器與試劑

        CHI660C電化學(xué)工作站(上海辰華儀器公司);三電極體系(北京眾信恒通科技有限公司):4 mm玻碳電極(GCE)為工作電極,Ag/AgCl為參比電極,Pt網(wǎng)電極為對電極;WS70-1紅外干燥箱(鄭州長城科工貿(mào)有限公司);SY360超聲清洗儀(上海寧商超聲儀器有限公司)。

        甲硝唑(MNZ)、羅硝唑、4-硝基咪唑均購于上海晶純試劑有限公司,上述三種物質(zhì)均用甲醇溶解后用于后續(xù)實驗。鄰苯二胺購于Adamas中國(上海)有限公司;HAuCl4、CuSO4購于國藥上海化學(xué)試劑公司。所用試劑均為分析純,所有溶液都由高純水配制。

        甲硝唑片(每片含甲硝唑0.2 g)在當?shù)厮幍曩徺I。

        1.2 實驗方法

        1.2.1 AuCu NPs/GCE的制備將GCE在鹿皮上,分別用1.0、0.3和0.05 μm的Al2O3粉末拋光至光亮的鏡面后,在超聲波清洗儀中分別用HNO3(1+1)、無水乙醇和高純水超聲清洗3 min,清洗好的電極在5 mmol/L的K3[Fe(CN)6]溶液中掃描,直到獲得穩(wěn)定的CV曲線。將電極用氮氣吹干后備用。將干燥潔凈的電極置于10 mmol/L HAuCl4、5 mmol/L CuSO4與0.5 mol/L H2SO4的混合溶液中進行恒電流沉積。沉積電流為-0.6 mA,沉積時間為900 s,沉積過程中用磁子不斷攪拌。隨后,在烘箱中烘干,即制得AuCu NPs/GCE。

        1.2.2 AuCu NPs/MNZ/GCE的制備將AuCu NPs/GCE放入含0.2 mol/L MNZ和0.4 mol/L鄰苯二胺的混合溶液中,在0~0.8 V電位范圍內(nèi)采用CV法,在掃速50 mV/s下掃描40圈進行電聚合,隨著掃描的進行,電極表面會鍍上一層弱電性MNZ分子印跡聚合物膜,電聚合完成后將電極置于0.3 mol/L的H2SO4溶液中,在100 mV/s的掃速下,于-1~1 V電位范圍內(nèi)用CV法掃描進行洗脫,直到在4.0×10-3mol/L K3[Fe(CN)6]和0.1 mol/L KCl的混合溶液進行掃描至氧化還原峰且峰值大小不變,說明MNZ已經(jīng)從分子印跡膜中洗脫下來。用氮氣吹干,備用。

        2 結(jié)果與討論

        2.1 AuCuNPS/GCE的電化學(xué)表征

        圖1為AuCu NPs/GCE的電化學(xué)表征,由于CV曲線峰值電流差距過大,放在同一圖中難以分辨最小峰電流的曲線,我們將表征分為A圖和B圖。圖1A為裸GCE與修飾Au NPs后的電極在K3[Fe(CN)6] 溶液中的CV曲線,圖1B為鍍Au NPs與鍍AuCu NPs的電極在K3[Fe(CN)6]溶液中的循環(huán)伏安曲線。由圖1A可知,Au NPs可以在一定范圍內(nèi)增加傳感器的響應(yīng)電流值。由圖1B電流大小可知,納米合金相比于單一的納米粒子電流響應(yīng)更大,因此傳感器的靈敏度更高。圖1中鍍Au NPs電極的制備與制備AuCu NPs電極類似,只是將10 mmol/L HAuCl4、5 mmol/L CuSO4與0.5 mol/L H2SO4的混合溶液中的CuSO4去掉,其余制備方法均相同。

        圖1 不同電極在5 mmol/L的K3[Fe(CN)6]溶液中的循環(huán)伏安圖Fig.1 Cyclic voltammograms curves of different electrodes in 5 mmol/L K3[Fe(CN)6] solution A:Bare electrode (a) and electrode after plating nano-gold (b);B:Electrode after plating nano-gold (b) and nano-gold-copper alloy(c).

        2.2 MNZ甲硝唑在AuCu NPS/GCE上的電化學(xué)行為

        將制備好的AuCu NPs/MNZ/GCE放入1.0×10-9mol/L的MNZ溶液中孵育10 min后,放入5 mmol/L的K3[Fe(CN)6]溶液中進行DPV掃描,記錄其峰值電流。探討MNZ在修飾電極上的電化學(xué)行為,原理是洗脫后帶有MNZ分子空穴的分子印跡膜在孵育后被MNZ分子占據(jù),使得電極表面的有效電子轉(zhuǎn)移數(shù)目減少,所以電流會減小。通過實驗得到結(jié)論,MNZ未孵育時和孵育后在裸GCE上的電流相比雖有減小,但減小很微弱,與AuCu NPs/GCE修飾電極相比出現(xiàn)了明顯減小的峰值。這可能是因為AuCu NPs/GCE具有良好的導(dǎo)電性、較高的比表面、良好的穩(wěn)定性,使電極對MNZ的檢測更靈敏,所以與裸電極相比,AuCu NPs/GCE修飾電極占據(jù)MNZ空穴能力更強,使得電流減小更加明顯。

        2.3 實驗條件的優(yōu)化

        2.3.1 電沉積電流的優(yōu)化采用DPV法研究了GCE在-0.8~0.3 mA恒電流下沉積AuCu NPs的效果。結(jié)果表明,在-0.6~-0.3 mA范圍內(nèi)峰電流隨沉積電流的增加而增大;當沉積電流達到-0.6 mA時,峰電流達到最大,說明沉積效果最好。

        2.3.2 電沉積時間的優(yōu)化采用DPV法研究了GCE修飾AuCu NPs在200~1 200 s之間的效果,得到結(jié)果在200~900 s峰電流隨著沉積時間的增加而增大,超過900 s后,峰電流隨著時間增加而減小,說明900 s時電沉積已經(jīng)達到飽和。

        2.3.3 模板分子與功能單體比例的優(yōu)化改變模板分子和功能單體比例并對DPV法的峰電流進行檢測。結(jié)果發(fā)現(xiàn)當模板分子與功能單體比例低于1∶2時,響應(yīng)電流隨著比例增加而增大,當模板分子與功能單體比例高于1∶2時,響應(yīng)電流開始減小。原因可能是模板分子數(shù)量變少,功能單體過多,過多的功能單體占據(jù)了電極表面,導(dǎo)致形成的分子印跡膜太厚,洗脫不完全,所以結(jié)合位點減少,響應(yīng)電流下降。

        2.3.4 電聚合圈數(shù)的優(yōu)化在電聚合時可以通過控制聚合圈數(shù)來控制分子印跡膜的厚度,實驗結(jié)果表明,當電聚合圈數(shù)少于40圈時,聚合圈數(shù)和響應(yīng)電流成正比,當電聚合圈數(shù)大于40圈時,響應(yīng)電流開始減少。原因可能是聚合膜厚度增加,模板分子很難洗脫完全,所以響應(yīng)電流下降。

        2.3.5 洗脫液和洗脫液濃度的優(yōu)化在電極表面電聚合分子印跡聚合物之后,必須進行洗脫實驗,才能得到具有模板分子空穴的分子印跡傳感器。因此,適當?shù)南疵搫┦浅晒χ频梅肿佑≯E膜的關(guān)鍵??晒┻x擇的洗脫劑,包括NaOH、H2SO4、磷酸鹽緩沖溶液(PBS,pH=7)和KCl。對這些洗脫劑我們逐一進行了實驗,記錄他們的DPV響應(yīng)電流,結(jié)果表明H2SO4具有最佳的洗脫效果(圖2A)。此外,我們對H2SO4的濃度也進行了優(yōu)化(圖2B),由圖我們可以看出,在0.1~0.3 mol/L范圍內(nèi),電流響應(yīng)峰值逐漸變大,當H2SO4濃度高于0.3 mol/L時,電流響應(yīng)開始下降,所以,最佳的洗脫劑是濃度為0.3 mol/L的H2SO4溶液。

        圖2 AuCu NPs/MNZ/GCE的DPV峰電流與洗脫劑種類(A)和洗脫劑濃度(B)關(guān)系曲線Fig.2 Curves of the DPV peak current of AuCu NPs/MNZ/GCE as a function of the eluent species(A) and eluent concentration(B)

        圖3 AuCu NPs/MNZ/GCE的DPV峰電流與洗脫圈數(shù)關(guān)系曲線Fig.3 Curve of DPV peak current as a function of the elution cycles of AuCu NPs/MNZ/GCE

        2.3.6 洗脫時間的優(yōu)化由圖3中可以看出,洗脫圈數(shù)在15~30圈時,響應(yīng)電流隨著洗脫圈數(shù)增加而增大,但洗脫圈數(shù)繼續(xù)增加時,響應(yīng)電流就會減小。這可能是由于洗脫過度,分子印跡膜被破壞導(dǎo)致電流降低。

        2.4 標準曲線與檢出限

        在優(yōu)化后的實驗條件下,將AuCu NPs/GCE置于不同濃度MNZ溶液中孵育10 min后,放入4.0 mmol/L K3[Fe(CN)6]和0.1 mol/L KCl混合溶液中進行DPV掃描,記錄峰值電流,結(jié)果如圖4(A)所示。隨著MNZ濃度增大,DPV響應(yīng)電流減小,并且DPV響應(yīng)在4.0×10-10~8.0×10-7mol/L濃度范圍內(nèi)成良好的線性關(guān)系(圖4(B)),線性方程為:IP=-3.85119lgc-24.70427(IP:10-5A,c:mol/L),線性相關(guān)系數(shù)R2=0.99438。當信噪比(S/N)為3時,檢出限為3.25×10-12mol/L。

        圖4 (A)分子印跡電化學(xué)傳感器在不同濃度的MNZ溶液中孵育10 min后的DPV曲線;(B)MNZ濃度與峰電流的關(guān)系擬合曲線Fig.4 (A)DPV curves of molecularly imprinted electrochemical sensor after incubation for 10 min in different concentrations of MNZ solution(a:4.0×10-10,b:4.0×10-9,c:8.0×10-9,d:4.0×10-8,e:8.0×10-8,f:4.0×10-7,g:8.0×10-7 mol/L);(B)Fitting curve of relationship between MNZ concentration and peak current

        將制得的傳感器與已知的其他檢測MNZ的傳感器進行比。由表1可以看出,與其他檢測MNZ的電極相比,AuCu NPs/MNZ/GCE具有更寬的線性范圍和更低的檢出限,可以看出納米合金復(fù)合物與其他單一修飾材料相比更有優(yōu)勢。

        表1 AuCu NPs/MNZ/GCE電極與已報道其他電極檢測MNZ的比較Table 1 Comparison of AuCu NPs/MNZ/GCE with other electrodes reported for MNZ

        圖5 (A)AuCu NPs/MNZ/GCE在不同溶液中的DPV曲線;(B)AuCu NPs/MNZ/GCE在連續(xù)5 d的DPV峰電流曲線Fig.5 (A) DPV curves of AuCu NPs/MNZ/GCE in different solutions(a:blank solution,b:4-nitroimidazole,c:ronidazole;d:dimetridazole,e:metronidazole);(B) Peak current of DPV of AuCu NPs/MNZ/GCE for five consecutive days

        2.5 識別特異性和重復(fù)性

        用制得的MIPs/AuCu NPs分子印跡傳感器檢測與MNZ結(jié)構(gòu)相似的物質(zhì)(羅硝唑、4-硝基咪唑、二甲基咪唑)來確定所制備傳感器的識別性。如圖5(A)所示,曲線a為洗脫后未經(jīng)孵育電極的DPV響應(yīng)曲線,曲線b~e分別為在4-硝基咪唑、羅硝唑、二甲基咪唑和MNZ的溶液中孵育10 min后的DPV響應(yīng)曲線。檢測原理與前面提到的檢測MNZ在修飾電極上的電化學(xué)行為原理相同,與未孵育電極相比電流響應(yīng)差值越大,識別性越好。從圖中可以看出,與未孵育相比,傳感器在MNZ溶液中孵育10 min,峰值電流差值Δ1遠大于其他差值Δ2、Δ3、Δ4,這說明MNZ可以被傳感器的空穴很好地識別,而將傳感器放入其他三種溶液中,峰值電流幾乎不發(fā)生變化,表明制得的傳感器有良好的識別性。

        用制得的傳感器連續(xù)5 d利用DPV法掃描測定相同濃度的MNZ,得到圖5(B),結(jié)果電流響應(yīng)沒有明顯的變化,相對標準偏差(RSD)<3%,說明所制備的傳感器具有良好的穩(wěn)定性。

        圖6 AuCu NPs/MNZ/GCE在1.0×10-9 mol/L的MNZ中(a)和1.0×10-9 mol/L的MNZ與1.0×10-7 mol/L的其他物質(zhì)混合后的溶液中(b)的DPV曲線Fig.6 DPV curve of AuCu NPs/MNZ/GCE in 1.0×10-9 mol/L MNZ(a) and 1.0×10-9 mol/L MNZ mixed with 1.0×10-7 mol/L other substances(b)

        2.6 抗干擾性

        采用AuCu NPs/GCE進一步考察在實際樣品中主要干擾物質(zhì)的電流響應(yīng),來探究所制備傳感器的抗干擾能力。由于我們選用的實際樣品(甲硝唑片)中淀粉、葡萄糖、蔗糖和MNZ為主要共存物質(zhì),因此配制1.0×10-9mol/L MNZ溶液,加入100倍濃度的淀粉、葡萄糖、蔗糖混合后進行DPV掃描,結(jié)果見圖6。結(jié)果表明,與單獨檢測MNZ溶液(a)相比,混合溶液(b)電流響應(yīng)幾乎沒有改變。說明AuCu NPs/GCE在實際樣品檢測中有良好的抗干擾能力。

        2.7 實際樣品分析

        以甲硝唑片(每片含0.2 g甲硝唑)作為樣品,考察制備的傳感器實際可用性。取10片樣品研磨后用pH=6.6的PBS逐步稀釋成50 mL濃度為2.0×10-9mol/L的樣品溶液,之后分別取10 mL樣品溶液加入一定量的MNZ標準溶液進行加標回收率測定,結(jié)果如表2。經(jīng)計算,回收率為96%~107%。表明該分子印跡傳感器具有良好的實際樣品檢測能力,可以對復(fù)雜樣品中的甲硝唑進行定量分析。

        表2 實際樣品中甲硝唑回收率測定結(jié)果Table 2 Recovery of metronidazole in actual samples

        3 結(jié)論

        通過電沉積在電極表面修飾了Au-Cu納米合金,制備了能夠特異性識別甲硝唑的分子印跡電化學(xué)傳感器,與裸電極進行比較,修飾Au-Cu納米的傳感器具有明顯的電催化作用。該傳感器具有良好的靈敏度、選擇性和穩(wěn)定性。實驗結(jié)果表明該方法可以應(yīng)用于實際樣品中甲硝唑的測定。

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