折昌美， 李 璟

(中國科學(xué)院 微電子研究所， 北京 100029)

目前，中國作為全球最大芯片進口國，芯片年進口額高達3 000億美元，位居進口產(chǎn)品份額榜首，遠超石油進口，貿(mào)易逆差巨大。近期中美貿(mào)易摩擦不斷升級，為集成電路相關(guān)產(chǎn)品或設(shè)備的進出口帶來了極大的不確定性和風(fēng)險。高端光刻設(shè)備已被技術(shù)封鎖，對相應(yīng)的國產(chǎn)高端芯片制造產(chǎn)線形成了直接戰(zhàn)略壓制和經(jīng)濟鉗制。目前高端光刻設(shè)備制造已被列入“卡脖子”清單和國家重點支持的高新技術(shù)領(lǐng)域。2014年我國將大力發(fā)展集成電路產(chǎn)業(yè)首次寫入政府工作報告[1]，2018年政府工作報告將集成電路產(chǎn)業(yè)排在實體經(jīng)濟首位[2]，國產(chǎn)光刻設(shè)備制造發(fā)展勢頭強勁，與國外先進水平的差距正在逐步縮小。

2019年11月5日，習(xí)近平在第二屆中國國際進口博覽會開幕式上發(fā)表主旨演講[3]指出：“為了更好運用知識的創(chuàng)造以造福人類，我們應(yīng)該共同加強知識產(chǎn)權(quán)保護，而不是搞知識封鎖，制造甚至擴大科技鴻溝。中國將營造尊重知識價值的環(huán)境，完善知識產(chǎn)權(quán)保護法律體系，大力強化相關(guān)執(zhí)法，增強知識產(chǎn)權(quán)民事和刑事司法保護力度?！痹谑袌鰧呻娐樊a(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展的迫切需求和國家政策的推動扶持下，國產(chǎn)光刻設(shè)備研發(fā)創(chuàng)新能力不斷提高，同時知識產(chǎn)權(quán)布局也逐漸展開，但還需進一步形成有力的支撐體系。本文從荷蘭ASML公司和日本Nikon公司的專利訴訟案例出發(fā)，分析國際專利訴訟中常見的專利策略和工具，借鑒其訴訟經(jīng)驗和結(jié)果產(chǎn)生的影響，歸納總結(jié)對國產(chǎn)光刻設(shè)備知識產(chǎn)權(quán)建設(shè)的啟示。

1 案例概況

1.1 公司背景介紹

ASML總部位于荷蘭費爾德霍芬，是全球最大的半導(dǎo)體設(shè)備制造商之一，主要業(yè)務(wù)是為芯片制造商提供綜合性關(guān)鍵光刻設(shè)備[4]。1984年由電子業(yè)巨頭飛利浦和半導(dǎo)體設(shè)備制造商ASMI(Advanced Semiconductor Materials International)聯(lián)合創(chuàng)建，80年代末產(chǎn)品逐漸面向全球市場，90年代初初具規(guī)模，之后市場份額穩(wěn)步上升，1997年超過Canon，2000年逼近Nikon，形成三足鼎立全球格局。2007年極紫外(Extreme Ultraviolet，EUV)光刻機的成功研制，使其成為高端光刻機市場的絕對壟斷者。ASML逐漸探索形成了一種全球供應(yīng)鏈完備、技術(shù)合作和商業(yè)合作并行、核心技術(shù)自主研發(fā)、專注客戶需求和系統(tǒng)集成的創(chuàng)新發(fā)展模式。

作為光學(xué)儀器制造商的Nikon，60年代中期開始涉足半導(dǎo)體制造，1980年加入光刻設(shè)備制造行列，90年代中后期位居全球分步投影光刻機市場龍頭[5]，1996年全球市場份額高達60%左右。之后設(shè)備性能、制程等指標與ASML相比差距逐漸拉大，市場份額直線下滑。

1.2 專利布局情況

ASML和Nikon從研發(fā)伊始均非常注重知識產(chǎn)權(quán)保護，形成了嚴密的全球布局。從圖1可以看出，2003年起ASML光刻領(lǐng)域?qū)＠暾埩块_始超越Nikon，與全球市場銷售份額變化趨勢相同，且在2004年達到了申請峰值，該年度ASML實現(xiàn)了全世界第一臺193 nm雙臺浸沒式光刻機的量產(chǎn)交付[6]。此后除2007年申請量略低于Nikon外，ASML專利年申請量均高于Nikon。從2009年起，ASML專利年申請量均高于Nikon 2～3倍，形成絕對優(yōu)勢。

圖1 ASML和Nikon光刻領(lǐng)域近20年專利申請量(1)數(shù)據(jù)來源于德溫特專利創(chuàng)新索引數(shù)據(jù)庫(Derwent Innovations Index, DII)，時間范圍為2000年1月1日-2020年3月31日(圖1-圖6、表1-表2同)。

Nikon公司在失去高端光刻機市場競爭優(yōu)勢的情況下，仍然持續(xù)進行光刻機相關(guān)專利技術(shù)輸出，每年提交專利申請300項左右。這也使得即使在ASML公司已形成市場絕對壟斷地位的前提下，Nikon公司仍對其造成了一定的威脅，為后續(xù)的知識產(chǎn)權(quán)紛爭留下了隱患。

從表1、圖2和圖3可以看出，ASML和Nikon的全球?qū)＠季种蟹植紨?shù)量最多的國家均是美國、日本和韓國。不同的是，ASML在美國的專利申請占比達22.548%，與其在日本的專利數(shù)相比高5%左右；而Nikon在日本的專利申請占比達36.996%，與其在美國的專利數(shù)相比高15%左右。ASML側(cè)重于全球均勻布局，而Nikon在優(yōu)先本國申請的基礎(chǔ)上，在其他國家進行分散式布局，這也為兩家公司的交叉許可可能提供了強大的專利組合基礎(chǔ)。

表1 ASML和Nikon光刻領(lǐng)域近20年專利申請地域分布總覽

圖2 ASML光刻領(lǐng)域近20年專利申請地域分布

圖3 Nikon光刻領(lǐng)域近20年專利申請地域分布

從表2和圖4可以看出，ASML和Nikon在曝光設(shè)備、掩模、零部件、計量設(shè)備、照明裝置等方面存在大量交叉布局專利。除此之外，ASML公司在X射線產(chǎn)生設(shè)備、計算機輔助設(shè)備、薄膜等方面布局較多，而Nikon公司更側(cè)重于在折反射系統(tǒng)、光學(xué)測試、聚光鏡等方面部署。

表2 ASML和Nikon光刻領(lǐng)域近20年專利主分類號(IPC)分布總覽

圖4 ASML(左)和Nikon(右)光刻領(lǐng)域近20年專利主分類號(IPC)分布情況

聚焦至EUV光刻領(lǐng)域來看，ASML和Nikon近20年的專利申請趨勢如圖5所示，2002年起ASML公司申請量超過Nikon，且在2004年達到峰值，與整體專利申請量變化趨勢相仿。此后，ASML關(guān)于EUV領(lǐng)域的年均專利申請量持續(xù)在150項以上，甚至高達250項，并在2009年和2016年再次達到申請高峰，該時間點與EUV光刻機的原型樣機交付[7]和市場供貨[8]相契合。而Nikon關(guān)于EUV領(lǐng)域的專利申請量持續(xù)走低，從圖6也可以看出，自2000年起Nikon公司光刻設(shè)備領(lǐng)域的專利申請中，EUV相關(guān)技術(shù)的占比逐年走低，2006年和2009年占比曾達到15%左右，與其公布擁有清晰的EUV技術(shù)發(fā)展路線[9]和兩套第一代EUV設(shè)備EUV1[10]分別供貨至日本芯片研發(fā)機構(gòu)Selete和供Intel使用有關(guān)。近年來，其在EUV領(lǐng)域鮮有動作，售賣低端光刻設(shè)備的同時，僅能利用浸沒式光刻專利組合對ASML公司發(fā)起訴訟，正逐步失去EUV高端光刻設(shè)備市場份額。

圖5 ASML和Nikon極紫外光刻領(lǐng)域近20年專利申請量

圖6 Nikon極紫外光刻領(lǐng)域?qū)＠暾埩空急茸兓厔?/p>

1.3 訴訟過程概述

ASML與Nikon的專利糾葛長達19年之久，主要分為兩個階段。2001-2004年，Nikon對ASML提起訴訟，最終雙方協(xié)議和解，Nikon獲得高額授權(quán)金。2016-2019年，上一階段授權(quán)協(xié)議到期后，雙方調(diào)解未成，隨即Nikon在多地分別對ASML和Carl Zeiss提起訴訟，4天后ASML和Carl Zeiss立馬提起對Nikon的反訴，且涉案專利除光刻設(shè)備相關(guān)外，還包含應(yīng)用于數(shù)碼相機、顯示器的多項專利。最終，經(jīng)過多輪多地訴訟，ASML、Carl Zeiss與Nikon達成全面和解。

1.3.1 第一階段：2001年-2004年

2001年，Nikon向美國國際貿(mào)易委員會(United States International Trade Commission，ITC)提起ASML侵權(quán)指控[9,11]，訴訟提及3項光刻技術(shù)專利。2002年4月5日，ASML向美國加利福尼亞北區(qū)聯(lián)邦地區(qū)法院提起反訴[9,11]。2003年，ITC認為ASML并未侵權(quán)，就全部指控，判決ASML勝訴。

2004年，ASML和Nikon通過交叉授權(quán)協(xié)議和解[12]，部分專利獲得永久授權(quán)，其余專利的授權(quán)日期截止到2009年12月31日。此外，雙方同意互不采取法律行動的過渡期至2014年12月31日，同時ASML和Carl Zeiss需向Nikon支付14 500萬美元的授權(quán)金[9,11]。

此時作為光刻機領(lǐng)域領(lǐng)頭羊的Nikon公司的專利組合與ASML和CarlZeiss公司相比，更為廣泛，且其市場份額超過50%，牢牢占據(jù)了三足鼎立市場格局一席之地。

1.3.2 第二階段：2016年-2019年

2016年，ASML在浸沒式光刻機市場商用領(lǐng)先的同時，實現(xiàn)了極紫外光刻機下游客戶的供貨，高端光刻機市場份額達到90%，逐漸形成了13.5nm及以下節(jié)點高端光刻機市場的壟斷格局。2016年11月，ASML收購Carl Zeiss 24.9%的股權(quán)[13]，以強化雙方在半導(dǎo)體光刻技術(shù)領(lǐng)域的合作，并著力發(fā)展下一代EUV光刻技術(shù)。而失去Intel等大客戶的Nikon光刻設(shè)備銷售量顯著下滑，數(shù)碼相機相關(guān)業(yè)務(wù)急劇萎縮，半導(dǎo)體光刻業(yè)務(wù)2016年度虧損達到70億日元[14]，公司亦陷入全球戰(zhàn)略重組計劃中。與此同時，ASML與Nikon間的專利交叉許可和過渡期結(jié)束。

直到2016年底，雙方協(xié)商延長交叉許可協(xié)議調(diào)解仍未達成一致。2017年4月24日，Nikon就浸沒式光刻相關(guān)11項歐洲專利和2項日本專利分別在荷蘭海牙、德國曼海姆和日本東京對ASML和Carl Zeiss提起侵權(quán)訴訟，涉案專利及訴訟基本信息[12]如表3所示。Nikon的國際訴訟團隊[15]不僅包括Hogan Lovells律所(Ruud van der Velden律師等[16])、Freshfields律所(Ruben Laddé律師等[17])、Arnold Siedsma律所(Arjen Hooiveld律師等[18])，還包括Morrison & Foerster舊金山團隊合伙人Jack Londen[19]和日本的大型內(nèi)部法律團隊。

表3 Nikon起訴ASML和Carl Zeiss專利侵權(quán)案件基本信息

如圖7所示，涉案專利群中除兩項分別針對硅片臺和環(huán)控系統(tǒng)外，其余專利技術(shù)方案均針對曝光裝置或曝光方法。且11項歐洲專利同族專利數(shù)量均在45項以上，部分專利同族數(shù)量高達176項，平均同族專利數(shù)量達89.6項，可認為是Nikon的核心專利群之一。

圖7 Nikon起訴ASML和Carl Zeiss侵權(quán)專利技術(shù)分布

僅4天后，2017年4月28日，ASML聯(lián)合Carl Zeiss在美國和日本針對Nikon在半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備、平面顯示器和數(shù)碼相機生產(chǎn)設(shè)備等多款產(chǎn)品上存在專利侵權(quán)一事提起訴訟，11項涉案美國專利及訴訟基本信息[20]如表4所示。涉案專利技術(shù)分布如圖8所示，主要集中于圖像傳感器、圖像采集和圖像處理方法。同日，ASML就案號2:17-cv-03225涉及的7項美國專利向ITC提出337立案申請，并于5月17日補充了立案申請內(nèi)容，主張Nikon及其子公司對美進出口和在美銷售的特定數(shù)碼相機及其圖像處理軟件、圖像傳感器等配件侵犯其專利權(quán)，請求ITC對其發(fā)布有限排除令和禁止令。

表4 ASML和Carl Zeiss起訴Nikon專利侵權(quán)案件基本信息

圖8 ASML和Carl Zeiss起訴Nikon侵權(quán)專利技術(shù)分布

不難發(fā)現(xiàn)，ASML起訴Nikon侵權(quán)的11項專利最初專利權(quán)人(2)專利所有權(quán)人及變更信息來源于soopat數(shù)據(jù)庫。大多為個人，經(jīng)過多次轉(zhuǎn)讓后于2016年12月13日從荷蘭Tarsium公司轉(zhuǎn)讓至ASML和Carl Zeiss共同持有。一般情況下發(fā)明專利期滿終止日為自最早申請日起20年(受是否有法定延期影響)。11項涉案專利中5項專利申請日處于1999-2000年，從2016年年底收購時剩余的專利有效期限不足4年來看，ASML并不打算長期利用這些專利的技術(shù)價值。

此外，11項專利中4項專利的上一級所有權(quán)人為Intellectual Ventures，5項專利的上一級所有權(quán)人為HP(Hewlett Packard)。Intellectual Ventures公司(3)Intellectual Ventures公司官網(wǎng)：https://www.intellectualventures.com/。是典型的非專利實施實體公司(non-practicing entities, NPE)，其擁有的專利組合在美國排名第5，全球排名15，全部采用市場化運營模式進行運作，曾以專利侵權(quán)為由，對摩托羅拉、戴爾、宏碁、金士頓、海力士、爾必達、Check Point Software、McAfee、Adata Technology等公司發(fā)起過訴訟。

可以判斷，在雙方延長交叉許可的談判之際，ASML已經(jīng)做好訴訟的策略性準備，著手收購CMOS圖像傳感器、圖像采集和圖像檢測等方面的專利，以增加訴訟及談判籌碼。

2017年底至2018年初，Nikon就ASML提出指控的11項美國專利中的4項向美國專利審查與上訴委員會(PTAB)提出了多方復(fù)審程序，試圖訴其無效。2019年初，德國地方法院出具了針對該糾紛的第一項重要判決，基本上以平局告終。隨后Nikon在德國曼海姆法院提起附加訴訟。

2019年1月23日，Nikon與Carl Zeiss、ASML就全部光刻技術(shù)侵權(quán)爭議簽署諒解備忘錄[21]，Carl Zeiss、ASML兩家公司同意向Nikon支付1.5億歐元賠償金和未來10年內(nèi)浸沒式光刻系統(tǒng)銷售額0.8%的專利特許使用費。至此，ASML和Nikon間的專利糾葛暫時落幕。

2 專利策略分析

從上述訴訟過程中可以看出，除伴隨研發(fā)過程中的自主申請和全球知識產(chǎn)權(quán)布局外，ASML和Nikon均采取了多種專利策略，構(gòu)建自身防御能力，以應(yīng)對許可談判、侵權(quán)訴訟等潛在風(fēng)險。

2.1 荷蘭ASML公司

2.1.1 收購專利

ASML公司通過收購競爭對手在其自主技術(shù)領(lǐng)域的專利來增加自身談判籌碼，甚至必要時通過對NPE公司的專利收購實現(xiàn)了自身專利的訴訟策略性組合，擴大了訴訟打擊范圍，提高了對手應(yīng)訴成本。

2.1.2 收購供應(yīng)商

ASML通過對關(guān)鍵技術(shù)供應(yīng)商的收購來增強自身組合防御能力。2016年11月，ASML對Carl Zeiss股份的收購，使得Carl Zeiss保有的專利和專利申請也列入ASML的全球?qū)＠季址秶?，形成了光學(xué)鏡組關(guān)鍵技術(shù)專利壁壘。在應(yīng)對Nikon的專利訴訟時，與Carl Zeiss共同發(fā)起聯(lián)合訴訟，進一步提升了談判優(yōu)勢。

2.1.3 發(fā)起“337調(diào)查”

ASML積極利用美國“337調(diào)查”來主張對手專利侵權(quán)?！?37調(diào)查”[22]是ITC根據(jù)美國《1930年關(guān)稅法》第337節(jié)及其修正案進行的調(diào)查，主要針對對象為不公平競爭行為、向美國出口產(chǎn)品侵犯美國知識產(chǎn)權(quán)行為或其他不公平貿(mào)易行為?！?37調(diào)查”具有審理效率高、針對性強、懲罰力度大等優(yōu)點，一旦涉案方被判定侵權(quán)，即認定其對美國國內(nèi)產(chǎn)業(yè)產(chǎn)生實質(zhì)性損害，進而可申請產(chǎn)品禁令和排除令等救濟措施，從而形成對競爭對手的威懾，使其被迫降低產(chǎn)品價格，甚至失去市場份額，直接沖擊行業(yè)和國家產(chǎn)業(yè)鏈的可持續(xù)發(fā)展。

2.1.4 提起反訴

強大的自身專利組合為遭受競爭對手侵權(quán)訴訟時，提供了反訴的可能。為避免一味地被對手牽著鼻子走，反訴是權(quán)益爭取的必要手段和應(yīng)訴的積極手段之一。ASML公司在應(yīng)對Nikon提起的訴訟時，4天后立即提起多地反訴，有效擺脫了被動局面，避免自身陷入劣勢。

2.2 日本Nikon公司

2.2.1 主動攻擊

2016年在ASML公司實現(xiàn)EUV光刻機的市場供貨并占據(jù)絕對領(lǐng)先市場份額，且雙方延長交叉許可調(diào)解未成時，Nikon主動在多地針對性地提起法律訴訟，占據(jù)先機。選取合適的時機提起訴訟可借機打壓對方的市場競爭優(yōu)勢，擾亂其正常的市場擴張策略，增加其潛在經(jīng)營成本；同時可能獲得高額賠償，并通過輿論提升市場認知度，進而贏得自身競爭優(yōu)勢。另外，Nikon從自身權(quán)益最大化角度出發(fā)選擇訴訟管轄地域，針對不同的訴訟對象選擇其產(chǎn)品制造地或銷售地作為起訴地點。并聘用多國多領(lǐng)域的國際訴訟團隊聯(lián)合開展相關(guān)事務(wù)。

2.2.2 無效訴訟

Nikon公司曾就多項涉案專利向美國專利審查與上訴委員會(PTAB)提起復(fù)審，試圖使其所有權(quán)無效。專利復(fù)審和無效請求審查是專利行政授權(quán)和確權(quán)程序的重要組成部分之一。專利權(quán)取得后任何第三方均可隨時提出無效請求，復(fù)審委員會將重新進行專利權(quán)的確定。一經(jīng)復(fù)審認定專利訴訟標的物無效，專利訴訟則穩(wěn)操勝券。美國專利復(fù)審程序從立案到判決一般持續(xù)一年左右，因此可利用專利無效訴訟來拖延整體訴訟時間，以對涉案技術(shù)進行充分分析，尋找更多有利證據(jù)。

3 訴訟結(jié)果

一般情況下，從研發(fā)型企業(yè)自身業(yè)務(wù)經(jīng)營和長遠戰(zhàn)略發(fā)展來看，長時間的訴訟不利于自身的商業(yè)價值最大化。2010年至2019年美國專利訴訟審結(jié)案件中[23]，約75%以和解結(jié)案。專利訴訟進程中各方均應(yīng)盡量尋找合適時機與對方展開談判，以達成和解，主要原因分為以下幾點：

3.1 昂貴的訴訟成本(法律風(fēng)險)

專利訴訟存在取證難、耗時長、訴訟地域管轄結(jié)果傾向、花費高等問題，需訴訟律師與技術(shù)、商務(wù)、市場人員密切配合，針對特定技術(shù)領(lǐng)域進行充分調(diào)研。一旦進入循環(huán)訴訟，當事雙方不得不在各地提起連續(xù)訴訟，包括無效訴訟、復(fù)審等，將耗費大量人力物力財力。

3.2 原告方風(fēng)險(法律風(fēng)險、市場風(fēng)險、技術(shù)風(fēng)險)

專利所有權(quán)并非授權(quán)即永久擁有。弱專利可能有被無效的風(fēng)險，強專利可能存在限制競爭的嫌疑。如果專利權(quán)較弱，被告方提出無效請求，該專利所有權(quán)將面臨被取消的風(fēng)險，原告方甚至可能因此喪失市場；反之，強專利所有權(quán)行使行為一旦被依法認定為非法壟斷行為，國家可給予他人實施強制許可，進而阻礙原告自身的專利實施計劃。

3.3 被告方風(fēng)險(法律風(fēng)險、市場風(fēng)險)

被告方若侵權(quán)抗辯結(jié)果不理想，無效訴訟失敗，將面臨大量時間虛耗、高額訴訟費用和賠償金，甚至可能失去一定市場份額。

4 對國產(chǎn)光刻設(shè)備知識產(chǎn)權(quán)建設(shè)的啟發(fā)

4.1 國產(chǎn)光刻設(shè)備知識產(chǎn)權(quán)現(xiàn)狀

我國芯片光刻工藝研究起步稍晚于美國，與日本近乎同時，與韓國、中國臺灣相比更是早10年之久。1956年我國制定半導(dǎo)體科技發(fā)展規(guī)劃[24]，之后接觸式光刻機、半自動接觸式光刻機等相繼面世。80年代中后期，電子工業(yè)自主攻關(guān)進展放緩，集成電路設(shè)備基本依賴進口。直到2002年193 nm ArF光刻機項目啟動，相關(guān)技術(shù)研發(fā)才逐步復(fù)蘇。知識產(chǎn)權(quán)方面，1985年開始零星布局，2000年前年申請量均不足50件，2006年02專項《極大規(guī)模集成電路制造技術(shù)及成套工藝》啟動后，專利申請量迎來了持續(xù)高速增長。

近年來，集成電路和通信領(lǐng)域發(fā)生了一系列高科技公司國際訴訟案例：中興、華為、中微半導(dǎo)體、中芯國際、晉華等。此類案件中國產(chǎn)企業(yè)大多為被起訴對象，而非主動攻擊方。另外，中國成為遭受美企“337調(diào)查”請求最多的國家已連續(xù)多年[25]，2019年涉及中國企業(yè)的“337調(diào)查”高達28起，占全年案件的59.6%，創(chuàng)十九年來新高。其中專利侵權(quán)的訴由占比超過85%，涉及電子工業(yè)的請求占比超過三分之一。

隨著中國在集成電路產(chǎn)業(yè)投資力度的加大和技術(shù)積累的不斷加深，相關(guān)產(chǎn)業(yè)集群正逐步由低端向高端轉(zhuǎn)移，光刻設(shè)備研制逐漸由后道向前道轉(zhuǎn)移?，F(xiàn)階段國際局勢的復(fù)雜性和不確定性對國產(chǎn)光刻設(shè)備知識產(chǎn)權(quán)國際化、市場化、戰(zhàn)略化布局都提出了挑戰(zhàn)和迫切要求。因此相關(guān)科技工作人員應(yīng)持續(xù)加深對知識產(chǎn)權(quán)的認識，并形成技術(shù)、法律、商務(wù)多維度協(xié)同合作，借鑒國際高科技企業(yè)布局策略和訴訟經(jīng)驗，做好充分準備。

4.2 跨國企業(yè)專利訴訟啟示

4.2.1 專利方案

國產(chǎn)光刻設(shè)備應(yīng)建立自身知識產(chǎn)權(quán)管理體系，并對自身現(xiàn)有專利方案及進展、競爭對手專利布局及狀態(tài)進行充分檢索分析，以尋找技術(shù)空白點，形成自身技術(shù)路線規(guī)劃；同時對國際知識產(chǎn)權(quán)轉(zhuǎn)移轉(zhuǎn)化、許可買賣、談判定價、潛在侵權(quán)風(fēng)險及法律處理等進行充分調(diào)研，為全球?qū)＠季忠?guī)劃和專利池構(gòu)建奠定基礎(chǔ)，形成知識產(chǎn)權(quán)牢固保護部署。

4.2.2 專利布局

專利類型包括基礎(chǔ)專利、外圍專利、儲備專利、防衛(wèi)專利等。國產(chǎn)光刻設(shè)備研發(fā)屬于該領(lǐng)域的后入者，在大多基礎(chǔ)專利已被行業(yè)巨頭牢牢掌握的情形下，應(yīng)盡可能多的申請外圍專利，采用更先進的技術(shù)方案對基礎(chǔ)專利進行改進、延伸，以形成核心專利的包圍圈，進而對基礎(chǔ)專利所有者的技術(shù)轉(zhuǎn)移轉(zhuǎn)化造成一定威脅，從而更易于在交叉許可談判中達成一致，甚至獲得核心技術(shù)的使用權(quán)。

從ASML和Nikon的專利布局中可以看出，專利申請地域應(yīng)從產(chǎn)地、客戶所在地、競爭對手所在地三方面來考慮。對于國產(chǎn)光刻設(shè)備，一般技術(shù)方案實際制造使用地為中國，屬于專利首選申請地；客戶所在地即產(chǎn)品實際用戶所在地，也是最容易發(fā)現(xiàn)產(chǎn)品侵權(quán)的地方；競爭對手所在地即相同技術(shù)領(lǐng)域研發(fā)競爭者所在地，屬于技術(shù)方案使用易侵權(quán)地區(qū)，例如：歐洲、美國等，競爭對手所在地反向布局的改進型專利可對基礎(chǔ)專利所有方的實施形成有效制約。

必要時，可借鑒2.1.1和2.1.2中ASML公司的做法，通過對部件供應(yīng)商的收購或?qū)＠徺I來快速擴充自身專利組合，增強綜合實力。

4.2.3 積極行使訴訟權(quán)利

當企業(yè)遭到侵權(quán)訴訟時，為實現(xiàn)損失最小化，應(yīng)聘用具備相關(guān)訴訟經(jīng)驗的國際律師團隊，與自身技術(shù)人員、市場營銷專員、產(chǎn)品經(jīng)理密切配合，對涉案專利來源及其法律事件、侵權(quán)內(nèi)容、侵權(quán)范圍和侵權(quán)程度進行充分評估，并對訴訟企業(yè)股權(quán)結(jié)構(gòu)、產(chǎn)品市場戰(zhàn)略、過往訴訟歷史及結(jié)果進行充分了解，進而明確對手實際意圖，制定應(yīng)對策略。

針對實體企業(yè)，根據(jù)2.1.4和2.2.2的經(jīng)驗，可在對自身專利組合方案和對手專利組合充分評估的基礎(chǔ)上，提前判斷對手可能侵權(quán)的專利，選擇有利于自身的訴訟管轄地提起反訴；在對對手專利穩(wěn)定性充分分析的基礎(chǔ)上，提起無效訴訟。充分利用反訴和無效訴訟工具，可為雙方和解談判提供有利的時機，進而取得交叉許可或展開商業(yè)合作。

目前，我國政府和司法系統(tǒng)關(guān)于知識產(chǎn)權(quán)的改革效果顯著，專利訴訟和無效程序都設(shè)有審限，且賠償額度大幅增加。特別在北上廣地區(qū)，設(shè)立有專門的知識產(chǎn)權(quán)法院，不失為有利于各企業(yè)的訴訟發(fā)起地。

針對NPE公司，應(yīng)根據(jù)前期調(diào)研盡早啟動談判，同時盡可能與其他企業(yè)合作構(gòu)建知識產(chǎn)權(quán)聯(lián)盟，共筑專利池，以取得有利的談判條件。