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        不同表面層鐵電薄膜的相變理論研究

        2020-10-20 11:39:34楊煥銀郭紅力孫紅娟彭同江
        人工晶體學(xué)報(bào) 2020年9期
        關(guān)鍵詞:系統(tǒng)

        楊煥銀,郭紅力,孫紅娟,彭同江

        (1.長(zhǎng)江師范學(xué)院,涪陵 408100;2.西南科技大學(xué),固體廢物處理與資源化教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,綿陽(yáng) 621010)

        0 引 言

        鐵電材料因具有好的電學(xué)性質(zhì),有望應(yīng)用于動(dòng)態(tài)隨機(jī)存儲(chǔ)器、電容器、超聲探測(cè)器、變頻器、表面聲波器件,以及薄膜型壓電馬達(dá)等領(lǐng)域,尤其作為高容量存儲(chǔ)器和非制冷紅外探測(cè)器的理想材料[1-4],鐵電薄膜長(zhǎng)期以來受到各國(guó)學(xué)者的極大關(guān)注。隨著金屬和功能薄膜制備技術(shù)的不斷創(chuàng)新和進(jìn)步,鐵電薄膜及鐵電集成器件逐步走向?qū)嵱没彤a(chǎn)業(yè)化,為鐵電薄膜的大規(guī)模應(yīng)用提供了條件。PbZrTiO3(鋯鈦酸鉛)等一批功能鐵電薄膜具有介電常數(shù)高、電致伸縮效應(yīng)大、疲勞特性佳、響應(yīng)快、驅(qū)動(dòng)功率小、熱穩(wěn)定性好,及低膨脹等特性得到了大規(guī)模的推廣。塊體材料的薄膜化是信息技術(shù)發(fā)展的必然趨勢(shì),手機(jī)、電腦等集成電路芯片將越來越靠近1納米量級(jí)。由于鐵電薄膜的巨大運(yùn)用價(jià)值和應(yīng)用范圍,對(duì)鐵電薄膜研究顯的更為重要。但是在塊體材料薄膜化的過程中出現(xiàn)了一系列問題,如高的漏電流、低的電學(xué)性能,以及低的相純度等,塊體材料的薄膜化從某種程度上降低了材料的性能。薄膜的制備技術(shù)也有很多,比如脈沖激光沉積(PLD)、射頻磁控濺射(RF magnetron sputtering)、溶膠-凝膠(sol-gel)、金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積(MOCVD)等方法[5-10]。通常,研究鐵電材料物理性質(zhì)的理論方法分為兩種:宏觀的朗道熱力學(xué)唯象理論和微觀的橫場(chǎng)伊辛模型。國(guó)際上,主要從微觀方面研究鐵電薄膜的性質(zhì)。由de Genne[11]首先引入橫場(chǎng)伊辛模型,建立體系的哈密頓量H,并逐漸發(fā)展起來的贗自旋理論,極大地推動(dòng)了對(duì)相變臨界現(xiàn)象及量子磁性、量子糾纏和許多其他基本物理問題的研究,并被廣泛用來解釋實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象,解釋鐵電薄膜相變和電荷極化的性質(zhì),并且得到了許多很好的結(jié)果。國(guó)內(nèi),滕保華、王春雷、曲保東等[12-18]基于平均場(chǎng)理論運(yùn)用自旋為1/2的四個(gè)自旋相互作用伊辛模型討論了鐵電體的一級(jí)有序無序相變,通過觀察序參量隨溫度的變化分別發(fā)現(xiàn)了決定順電相和鐵電相極限溫度的條件,證明自旋平均微觀理論分析的結(jié)果與宏觀的朗道(Landau)理論在臨界點(diǎn)附近的自由能完全一致。由于薄膜尺寸效應(yīng)和表面效應(yīng)的存在使得理論研究中出現(xiàn)了很大的困難,許多科學(xué)工作者也投入了大量的精力對(duì)其進(jìn)行研究,希望通過理論上的研究為實(shí)驗(yàn)突破鐵電薄膜在尺寸上的限制給予方向性的指導(dǎo)。本文將基于橫場(chǎng)伊辛模型,采用平均場(chǎng)理論研究單、雙表面層不同層數(shù)的鐵電薄膜鐵電相變與各參量的依賴關(guān)系。

        1 理論模型及公式推導(dǎo)

        本文建立了具有半無限橫向贗自旋-1/2自由表面的伊辛模型系統(tǒng),用來描述一個(gè)半無限鐵電系統(tǒng),如圖1所示。由于尺寸效應(yīng),若要在討論鐵電薄膜層數(shù)或者厚度影響因素時(shí)系統(tǒng)仍然具有鐵電性,需要假設(shè)橫向邊界條件是無限長(zhǎng),縱向邊界條件是有限長(zhǎng)。模型結(jié)構(gòu)由具有(001)取向的簡(jiǎn)立方晶格組成,占據(jù)每個(gè)晶格點(diǎn)的表面由贗自旋-1/2原子組成。鐵電薄膜由l個(gè)表面層、n-2l個(gè)內(nèi)層構(gòu)成的一個(gè)簡(jiǎn)立方結(jié)構(gòu),l和n可以是任意值。每一個(gè)鐵電薄膜層都被定義在x-y平面內(nèi),贗自旋-1/2原子處于平面內(nèi)的簡(jiǎn)立方晶格中。該系統(tǒng)的哈密頓量為:

        (1)

        圖1 鐵電薄膜的結(jié)構(gòu)示意圖Fig.1 Structure diagram of the ferroelectric thin films

        考慮到在同一層內(nèi)的格點(diǎn)的近鄰環(huán)境是相同的,所以假設(shè)同一層內(nèi)的贗自旋具有相同的平均值。根據(jù)平均場(chǎng)理論,第i層的贗自旋在z方向分量的平均值可表示為:

        (2)

        其中

        當(dāng)溫度接近居里溫度時(shí),贗自旋平均值趨近于0,于是由公式(2)可以得到

        XiSi=4Ji,iSi+Ji,i+1Si+1+Ji,i-1Si-1

        (3)

        其中,Xi=2Ωicoth(Ωi/2kBT)

        對(duì)于鐵電薄膜的兩個(gè)表面層,有

        τsS1=4jsS1+jsS2

        (4)

        τsS2=4jsS2+jsS1+jaS3

        (5)

        對(duì)于鐵電薄膜內(nèi)層

        τSi=4jSi+Si-1+Si+1

        (6)

        其中

        公式(4)~(6)構(gòu)成一組自洽方程組,由于Si不等于零,因此其系數(shù)行列式等于零。求解系數(shù)久期方程,可以得到不同表面層、不同層數(shù)的鐵電薄膜鐵電相變與溫度、橫場(chǎng)等各參量的依賴關(guān)系。

        2 結(jié)果與討論

        本文考慮了單層和雙層表面層對(duì)鐵電薄膜的相變影響,對(duì)比了不同層數(shù)(3~7 層)鐵電薄膜的交換相互作用、表面和內(nèi)部橫場(chǎng)等參量對(duì)鐵電-順電相變的作用關(guān)系。文中沿用滕保華[15]對(duì)鐵電相圖(FPD)和順電相圖(PPD)的定義。FPD是指當(dāng)溫度低于某一極限值時(shí),無論表面交換相互作用Js如何變化,系統(tǒng)都將處于鐵電相。類似地,PPD是指表面交換相互作用Js小于某一極限值時(shí),無論溫度如何變化,系統(tǒng)都將處于順電相。

        圖2顯示了單層鐵電薄膜總層數(shù)n=3的外部橫場(chǎng)Ωs與相圖的關(guān)系曲線。從圖中可以發(fā)現(xiàn),鐵電薄膜的相變與外部橫場(chǎng)關(guān)系敏感。從圖2(a)~2(c)來看,相圖由鐵電相變化到順電相過程存在一條內(nèi)部橫場(chǎng)過渡曲線,對(duì)應(yīng)一個(gè)過渡值Ωc/J,其值大小隨著外部橫場(chǎng)Ωs/J逐漸增大而減小。內(nèi)部橫場(chǎng)過渡曲線上的每一點(diǎn)對(duì)應(yīng)的相變溫度就是居里溫度。隨著溫度增加,系統(tǒng)相圖就從鐵電相變化到順電相。同時(shí),當(dāng)內(nèi)部橫場(chǎng)(Ω/J=4)大于內(nèi)部橫場(chǎng)過渡值時(shí),系統(tǒng)處于PPD,順電相占據(jù)大部分區(qū)域,順電相決定相圖;內(nèi)部橫場(chǎng)(Ω/J=2)小于內(nèi)部橫場(chǎng)過渡值時(shí),情況正好相反,鐵電相區(qū)域較大,系統(tǒng)處于FPD,鐵電相決定相圖。此外,圖2中揭示了表面橫場(chǎng)Ωs對(duì)內(nèi)部橫場(chǎng)臨界值的影響,即隨著外部橫場(chǎng)Ωs/J增大,系統(tǒng)的內(nèi)部橫場(chǎng)過渡值Ωc減小(從2.5減小到2.25,再到2.168)。這表明,隨著外部橫場(chǎng)增大,系統(tǒng)從鐵電相到順電相轉(zhuǎn)變的難度將降低。

        圖2 單表面層鐵電薄膜外部橫場(chǎng)對(duì)相變的影響關(guān)系曲線Fig.2 Curves of different external transverse field on the phase transition for a single surface layered ferroelectric thin films

        圖3顯示了單層鐵電薄膜總層數(shù)n=7時(shí),外部橫場(chǎng)Ωs與相圖的關(guān)系曲線。對(duì)比圖2可以發(fā)現(xiàn),7層薄膜相變與外部橫場(chǎng)的關(guān)系與3層相似,鐵電到順電相變都存在內(nèi)部橫場(chǎng)過渡曲線和過渡值Ωc/J。且隨著外部橫場(chǎng)Ωs/J增大,系統(tǒng)內(nèi)部橫場(chǎng)過渡值Ωc也逐漸減小,但減小幅度較小。同時(shí),對(duì)比圖2,圖3發(fā)現(xiàn),隨著薄膜總層數(shù)增加,在實(shí)施相同的外部橫場(chǎng)下,內(nèi)部橫場(chǎng)過渡值Ωc/J明顯增大(從2.5增加到3.872),表明隨著薄膜層數(shù)增加,薄膜原子間贗自旋的交換相互作用增強(qiáng),系統(tǒng)相變溫度升高,鐵電區(qū)范圍增大,需要較大的交換相互作用才能實(shí)現(xiàn)鐵電相到順電相轉(zhuǎn)變,系統(tǒng)相變難度升高。這與其他層數(shù)(3、5、7)鐵電薄膜的相變(見圖4)得到的結(jié)論一致。

        圖3 單表面層鐵電薄膜不同外部橫場(chǎng)對(duì)相變的影響關(guān)系曲線Fig.3 Curves of different external transverse field on the phase transition for a single surface layered ferroelectric thin films

        從圖4中可見,對(duì)于設(shè)定的參數(shù)來說(Ω/J<3),低溫時(shí)系統(tǒng)始終屬于鐵電相。隨著薄膜層數(shù)n的增加,薄膜原子間贗自旋的交換相互作用增強(qiáng),系統(tǒng)相變溫度升高,鐵電相的區(qū)域范圍逐漸增大。當(dāng)然,當(dāng)相變溫度T足夠高時(shí),相圖將不再依賴于薄膜的層數(shù)??梢?,有限尺寸下,隨著薄膜總層數(shù)n增大,薄膜尺寸和厚度增加,系統(tǒng)內(nèi)部橫場(chǎng)起主要作用,導(dǎo)致薄膜自發(fā)極化強(qiáng)度和相變溫度提高,有助于增大鐵電功能薄膜的工作溫度區(qū)間,改善功能器件的工作環(huán)境,提高場(chǎng)致極化強(qiáng)度。同時(shí),相變溫度的提高也導(dǎo)致了薄膜的介電峰、熱釋電峰向高溫度移動(dòng),薄膜介電常數(shù)介電、熱釋電器件穩(wěn)定工作的溫度區(qū)間也增大了。

        圖4 不同層數(shù)鐵電薄膜表面交換相互作用js 與溫度T的關(guān)系曲線(Ωs/J=3, Ω/J=2)Fig.4 Curves of surface exchange interaction js on the temperature for different layered ferroelectric thin films (Ωs/J=3, Ω/J=2)

        圖5 不同表面層數(shù)的鐵電薄膜相變曲線(n=5, Ωs/J=3)Fig.5 Phase transition curves for different surface layered ferroelectric thin films(n=5, Ωs/J=3)

        圖5為不同表面層數(shù)與鐵電薄膜相變的關(guān)系曲線。其中虛線為單表面層相變曲線,實(shí)線為雙表面層的相變曲線。從圖5中可以看出,對(duì)于同樣5層鐵電薄膜來說,單表面層與雙表面層鐵電薄膜的js-T特性曲線趨勢(shì)基本一致,單表面層、雙表面層薄膜的相圖也都比較敏感的依賴于內(nèi)部橫場(chǎng)。隨著內(nèi)部橫場(chǎng)增大,單表面層、雙表面層薄膜相圖中的鐵電相區(qū)變小,順電相區(qū)變大。但是單表面層、雙表面層時(shí)的相圖以及相圖中的鐵電相區(qū)和順電相區(qū)大小是截然不同的,表現(xiàn)在雙表面層鐵電薄膜的臨界內(nèi)部橫場(chǎng)過渡值(Ωc/J=2.166)小于單表面層橫場(chǎng)過渡值(Ωc/J=2.75),單表面層時(shí)的鐵電相區(qū)小于雙表面層時(shí)的鐵電相區(qū)。這說明,由于表面層數(shù)和界面的增多,薄膜相變溫度會(huì)提高。同時(shí),薄膜表面修正后,將有利于增強(qiáng)薄膜表面原子和內(nèi)部原子的應(yīng)力作用,有助于鐵電和介電性能的提高。

        圖6為單層鐵電薄膜表面交換相互作用js對(duì)鐵電薄膜相變影響曲線。當(dāng)內(nèi)部橫場(chǎng)恒定時(shí),外部橫場(chǎng)Ωs/J隨表面交換相互作用js大小不同變化非常敏感。當(dāng)js從1.0增大到2.0時(shí),鐵電區(qū)域變大,系統(tǒng)相變溫度升高,這一結(jié)果與鐵電薄膜實(shí)驗(yàn)的表面效應(yīng)研究[19]是一致的。

        圖6 單表面層薄膜表面交換相互作用js對(duì)鐵電薄膜相變曲線(n=5, Ω/J=2)Fig.6 Curves of the surface exchange interaction js on phase transition for single surface layered ferroelectric thin films(n=5, Ω/J=2)

        3 結(jié) 論

        本文基于橫場(chǎng)伊辛模型,利用平均場(chǎng)近似理論,研究了不同總層數(shù)鐵電薄膜隨表面交換相互作用、表面橫場(chǎng)、內(nèi)部橫場(chǎng)等參量和單雙表面修正對(duì)鐵電-順電相變的影響。通過理論研究,對(duì)比了不同參量對(duì)鐵電薄膜相變溫度、系統(tǒng)相圖等的變化趨勢(shì)以及參量之間的依賴關(guān)系。平均場(chǎng)近似理論計(jì)算的結(jié)果雖然低估了橫場(chǎng)伊辛模型中的遂穿作用,夸大了鐵電薄膜相圖中的鐵電性,但在一定程度上可以有助于鐵電薄膜性能設(shè)計(jì)調(diào)節(jié)和改進(jìn)。

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