孟慶華 胡云飛 黃軍委 劉洋 時(shí)立新 黃宇亭

摘要：隨著企業(yè)對(duì)專利的認(rèn)識(shí)不斷加深和專利質(zhì)量的不斷提升，企業(yè)更加重視授權(quán)專利的權(quán)利要求質(zhì)量，包括權(quán)利要求項(xiàng)數(shù)以及獨(dú)權(quán)數(shù)量。基于企業(yè)專利工作的實(shí)際進(jìn)行歸納總結(jié)，對(duì)專利的權(quán)利要求書中獨(dú)立權(quán)利及從屬權(quán)利的層級(jí)結(jié)構(gòu)與引用關(guān)系構(gòu)建出一項(xiàng)獨(dú)立權(quán)利的基本結(jié)構(gòu)模型、基礎(chǔ)拓展結(jié)構(gòu)和多獨(dú)立權(quán)利及多引用關(guān)系的模型;借助于實(shí)際案例對(duì)建立的結(jié)構(gòu)模型進(jìn)行實(shí)證和簡(jiǎn)析，有助于理解專利的保護(hù)范圍及專利相關(guān)的技術(shù)點(diǎn)的邏輯關(guān)系，有助于企業(yè)專利質(zhì)量的提升。

關(guān)鍵詞：權(quán)利要求;結(jié)構(gòu)模型;獨(dú)立權(quán)利;從屬權(quán)利;引用關(guān)系

中圖分類號(hào)：D923.42 文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼：A文章編號(hào)：1003-5168（2020）12-0067-07

權(quán)利要求書，體現(xiàn)著專利技術(shù)的價(jià)值，凝聚了技術(shù)或產(chǎn)品創(chuàng)新點(diǎn)，代表著企業(yè)及代理機(jī)構(gòu)的專業(yè)技術(shù)水平和管理水平;專利授權(quán)后，權(quán)利要求書的保護(hù)范圍則直接影響到專利的實(shí)施轉(zhuǎn)化和應(yīng)用。基于提升專利質(zhì)量的需求，企業(yè)注重發(fā)明專利授權(quán)率[1]的同時(shí)，也越來越重視專利申請(qǐng)時(shí)及授權(quán)時(shí)的“權(quán)利要求項(xiàng)”情況。

1 權(quán)利要求

《專利法》第五十六條規(guī)定：“發(fā)明或者實(shí)用新型專利權(quán)的保護(hù)范圍以其權(quán)利要求的內(nèi)容為準(zhǔn)。說明書及其附圖可以用于解釋權(quán)利要求?！币虼?，權(quán)利要求書是用于確定發(fā)明或?qū)嵱眯滦蛯＠麢?quán)保護(hù)范圍的法律文件。

一份專利申請(qǐng)的主題是否屬于能夠授予專利權(quán)的范圍，所要求保護(hù)的發(fā)明創(chuàng)造是否具備新穎性、創(chuàng)造性和實(shí)用性，專利申請(qǐng)是否符合單一性的規(guī)定，他人的實(shí)施行為是否侵犯了專利權(quán)，都取決于權(quán)利要求書的內(nèi)容，或者與權(quán)利要求的內(nèi)容有直接的關(guān)聯(lián)，因此，權(quán)利要求書是發(fā)明和實(shí)用新型專利申請(qǐng)文件中最重要的文件。

1.1 權(quán)利要求：代理機(jī)構(gòu)基礎(chǔ)業(yè)務(wù)能力

權(quán)利要求的重要性體現(xiàn)在專利申報(bào)前、審查過程中及專利授權(quán)后各環(huán)節(jié)。

1.1.1 申報(bào)文本質(zhì)量。權(quán)利要求書撰寫的質(zhì)量取決于幾個(gè)方面，一是專利素材的新穎性和創(chuàng)造性程度，二是技術(shù)人員與專利管理人員和/或代理師對(duì)專利技術(shù)方案的認(rèn)知程度、歸納水平和分析水平，三是技術(shù)人員與專利管理人員和/或代理師的思維邏輯，

1.1.2 答復(fù)過程。在答復(fù)審查員的實(shí)審意見或復(fù)審意見時(shí)，針對(duì)意見所及的內(nèi)容進(jìn)行陳述，一是權(quán)利要求項(xiàng)能夠得到說明書的充分支持，二是對(duì)技術(shù)方案及創(chuàng)新點(diǎn)進(jìn)行說明或提供必要的證明。因?yàn)閿?shù)據(jù)資源或檢索渠道、檢索方式的差別，使得專利申報(bào)前檢索及分析不充分、不完整、不準(zhǔn)確，導(dǎo)致申請(qǐng)人和/或代理師對(duì)發(fā)明專利授權(quán)前景判斷出現(xiàn)偏差，可能需要權(quán)利要求項(xiàng)的合并刪減。

1.1.3 授權(quán)文本質(zhì)量。主要取決于專利授權(quán)時(shí)獨(dú)立權(quán)利的保護(hù)范圍及權(quán)利要求項(xiàng)數(shù)。

1.1.4 權(quán)利穩(wěn)定性。實(shí)用新型或外觀設(shè)計(jì)專利，授權(quán)后其權(quán)利穩(wěn)定性性對(duì)較差，在應(yīng)對(duì)無效宣告時(shí)，可能會(huì)部分或全部權(quán)利要求無效。發(fā)明專利經(jīng)過實(shí)質(zhì)性審查，授權(quán)后其權(quán)利穩(wěn)定性相對(duì)較高，在應(yīng)對(duì)無效宣告時(shí)，也可能會(huì)部分權(quán)利要求無效。

1.1.5 專利實(shí)施。高質(zhì)量、高穩(wěn)定性的授權(quán)專利，攻防兼?zhèn)洌鋬r(jià)值和收益體現(xiàn)在實(shí)施轉(zhuǎn)化運(yùn)用運(yùn)營(yíng)環(huán)節(jié)。

企業(yè)專利運(yùn)營(yíng)的基礎(chǔ)是權(quán)利要求，而權(quán)利要求基本上都在申請(qǐng)人（發(fā)明人）與代理機(jī)構(gòu)反復(fù)交流和修改后確定的。因此，權(quán)利要求的撰寫質(zhì)量是基礎(chǔ)。

1.2 權(quán)利要求的結(jié)構(gòu)

《專利法實(shí)施細(xì)則》第二十條：“權(quán)利要求書應(yīng)當(dāng)有獨(dú)立權(quán)利要求，也可以有從屬權(quán)利要求”“從屬權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)用附加的技術(shù)特征，對(duì)引用的權(quán)利要求作進(jìn)一步限定”。申請(qǐng)人或代理機(jī)構(gòu)基于授權(quán)、避免無效、轉(zhuǎn)化運(yùn)營(yíng)等目標(biāo)，專利申請(qǐng)時(shí)的權(quán)利要求通常包括了獨(dú)立權(quán)利要求和若干項(xiàng)從屬權(quán)利要求。

1.2.1 獨(dú)權(quán)與從權(quán)。獨(dú)立權(quán)利要求應(yīng)從整體上反映發(fā)明創(chuàng)造的主要技術(shù)內(nèi)容，包括全部的必要技術(shù)特征。從屬權(quán)利要求是引用獨(dú)立權(quán)利要求或引用包括獨(dú)立權(quán)利要求在內(nèi)的幾項(xiàng)權(quán)利要求的全部技術(shù)特征，又含有若干新的技術(shù)特征的權(quán)利要求，從屬權(quán)利要求必須依從于獨(dú)立權(quán)利要求或者在前的從屬權(quán)利要求。

1.2.2 獨(dú)權(quán)結(jié)構(gòu)與從權(quán)結(jié)構(gòu)。獨(dú)立權(quán)利要求分前序部分和特征部分，而從屬權(quán)利要求分引用部分和限定部分。有學(xué)者針對(duì)獨(dú)立權(quán)利的獨(dú)立權(quán)利要求的關(guān)聯(lián)關(guān)系，提出了從屬權(quán)利要求的布局[2]。

1.2.3 并列獨(dú)權(quán)、特殊權(quán)利要求、多引用關(guān)系的權(quán)利要求。部分專利有多項(xiàng)獨(dú)立權(quán)利，除第一項(xiàng)外稱為并列獨(dú)立權(quán)利[3]。還可能有特殊形式的權(quán)利要求（形式上為從屬、實(shí)質(zhì)為獨(dú)立的權(quán)利）。同時(shí)，權(quán)利要求項(xiàng)中可能有引用關(guān)系超過2項(xiàng)的情況。

2 權(quán)利要求書結(jié)構(gòu)模型

根據(jù)企業(yè)專利管理的體會(huì)，隨著對(duì)專利的權(quán)利要求書的結(jié)構(gòu)分析和認(rèn)識(shí)加深，專利管理人員對(duì)專利素材或技術(shù)交底書時(shí)應(yīng)該初步規(guī)劃其權(quán)利要求結(jié)構(gòu)。隨著專利質(zhì)量的不斷提升，權(quán)利要求的結(jié)構(gòu)也有簡(jiǎn)單到復(fù)雜，權(quán)利要求項(xiàng)也有少增多;當(dāng)然，具體的權(quán)利要求的規(guī)劃一定和專利技術(shù)方案一致，同時(shí)權(quán)利要求的結(jié)構(gòu)也必定根據(jù)專利的實(shí)際需要而設(shè)計(jì)的。

從權(quán)利要求層級(jí)關(guān)系和引用關(guān)系等角度分析專利權(quán)利要求項(xiàng)的結(jié)構(gòu)，有助于理解專利的保護(hù)范圍及專利相關(guān)的技術(shù)點(diǎn)的邏輯關(guān)系。文中所及案例均為中國(guó)煙草總公司鄭州煙草研究院和國(guó)家煙草質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)中心的授權(quán)專利。

2.1 一項(xiàng)獨(dú)立權(quán)利模型

一般情況下，專利的權(quán)利要求書至少有1項(xiàng)獨(dú)立權(quán)利和數(shù)項(xiàng)從屬權(quán)利組成。

2.2 基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)

2.2.1 結(jié)構(gòu)1（P01）。“1獨(dú)權(quán)+若干級(jí)從權(quán)”，用于對(duì)上一級(jí)權(quán)利要求中部分特征的遞進(jìn)式描述。如某些設(shè)備裝置專利，從模塊（單元）、部件到零件細(xì)節(jié);如某些工藝方法專利中，對(duì)某些工序條件的優(yōu)化方案到最佳方案的遞進(jìn)。P01結(jié)構(gòu)見圖1。

2.2.2 結(jié)構(gòu)2（P02）?！?獨(dú)權(quán)+若干并列從權(quán)”，用于對(duì)獨(dú)立權(quán)利要求中部分特征的分布式描述。如某些工藝方法專利中，某些工序（流程步驟）的替代方案或優(yōu)化方案;設(shè)備裝置專利中，某些零部件（器件）的替換方案或優(yōu)化方案。P02結(jié)構(gòu)見圖2。

案例1：CN201920045333.4（一種陣列式火焰加熱器加熱的非燃燒煙草制品）[4]共有10項(xiàng)權(quán)利要求：權(quán)1為陣列式火焰加熱器加熱的非燃燒煙草制品及結(jié)構(gòu)，權(quán)2為導(dǎo)熱卷煙紙中所采用金屬箔，權(quán)3為鋁箔，權(quán)4為三段式濾嘴復(fù)合結(jié)構(gòu)，權(quán)5為三段結(jié)構(gòu)的具體構(gòu)成，權(quán)6為陣列式火焰加熱器的加熱腔結(jié)構(gòu)，權(quán)7為加熱器的火焰噴頭，權(quán)8為導(dǎo)熱孔，權(quán)9為導(dǎo)熱孔形狀，權(quán)10為導(dǎo)熱式卷煙產(chǎn)品。其中權(quán)1為獨(dú)立權(quán)利要求。

該案例中，構(gòu)成P01結(jié)構(gòu)的共有4組：權(quán)1、權(quán)2、權(quán)3為一組;權(quán)1、權(quán)4、權(quán)5為一組;權(quán)1、權(quán)6、權(quán)7為一組;權(quán)1、權(quán)8、權(quán)9為一組。

該案例中，權(quán)1、權(quán)4、權(quán)6、權(quán)8、權(quán)10構(gòu)成一組P02結(jié)構(gòu)。

2.2.3 結(jié)構(gòu)3（P03）?！?獨(dú)權(quán)+從權(quán)引用”，用于對(duì)兩項(xiàng)從權(quán)的共性特征的歸納式描述。如某些從權(quán)可能共同使用一個(gè)特定工序或流程，或者共同使用一個(gè)特定裝置或該裝置的特定工藝條件，或者具有某些共性特征。P03結(jié)構(gòu)見圖3。

案例2：CN201420768013.9（卷狀膜料平整度檢測(cè)裝置）[5]共8項(xiàng)權(quán)利要求：權(quán)1為檢測(cè)裝置及構(gòu)成，權(quán)2為膜卷支架機(jī)構(gòu)，權(quán)3為裝夾裝置，權(quán)4為支撐桿及構(gòu)成，權(quán)5為平臺(tái)及減振機(jī)構(gòu)，權(quán)6為夾持機(jī)構(gòu)和配重塊，權(quán)7為測(cè)量尺，權(quán)8為微距測(cè)量。其中權(quán)1為獨(dú)權(quán)，權(quán)“4。根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的……”，該案例中的權(quán)2、權(quán)3和權(quán)4形成了P03結(jié)構(gòu)。

2.3 基礎(chǔ)拓展結(jié)構(gòu)

2.3.1 結(jié)構(gòu)4（P04）。“1獨(dú)權(quán)+若干并列從權(quán)+某一從權(quán)的若干級(jí)從權(quán)”即（P01+P02）。見圖4。

2.3.2 結(jié)構(gòu)5（P05）?！?獨(dú)權(quán)+若干項(xiàng)從權(quán)+從權(quán)引用”即（P03+P01或P03+P02或P03+P04）。見圖5。

2.3.3 結(jié)構(gòu)6（P06）。另外，還有一種“從權(quán)+若干并列從權(quán)”結(jié)構(gòu)。見圖6。

如案例1中有4組從權(quán)為2級(jí)構(gòu)成：權(quán)2、權(quán)3;權(quán)4、權(quán)5;權(quán)6、權(quán)7;權(quán)8、權(quán)9。權(quán)1到權(quán)10共同形成P04結(jié)構(gòu)。

如案例2中的權(quán)1到權(quán)8形成了P05結(jié)構(gòu)。

案例3：CN201520261351.8（一種并行式蚜蟲飼養(yǎng)和轉(zhuǎn)移裝置）[6]有10項(xiàng)權(quán)利要求。權(quán)1為獨(dú)立權(quán)利，權(quán)2為箱體底板結(jié)構(gòu)，權(quán)3為箱體的四個(gè)側(cè)板中至少有一個(gè)側(cè)板為固定側(cè)板且滑動(dòng)側(cè)板與固定側(cè)板的數(shù)量和為四個(gè)，權(quán)4為圓柱形彈性網(wǎng)口，權(quán)5為蚜蟲收集網(wǎng)入口束口繩，權(quán)6為連接套筒結(jié)構(gòu)，權(quán)7為連通裝置的結(jié)構(gòu)構(gòu)成，權(quán)8為紗網(wǎng)連接管有風(fēng)口，權(quán)9為收集網(wǎng)結(jié)構(gòu)，權(quán)10為光電裝置。其中，從權(quán)4和從權(quán)6共同引用了從權(quán)3，則從權(quán)3、從權(quán)4、從權(quán)6形成了P06結(jié)構(gòu)。

2.4 結(jié)構(gòu)分析及模型建立

2.4.1 結(jié)構(gòu)1（P01）、結(jié)構(gòu)2（P02）為基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)，在此基礎(chǔ)上可增加權(quán)項(xiàng)或?qū)蛹?jí)。

2.4.2 結(jié)構(gòu)3（P03）為基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)的特殊情況，可用結(jié)構(gòu)1（P01）形式重復(fù)兩次實(shí)現(xiàn)。

2.4.3 結(jié)構(gòu)4（P04）為基礎(chǔ)拓展結(jié)構(gòu)，包含結(jié)構(gòu)1（P01）和結(jié)構(gòu)2（P02）的各種組合。

2.4.4 結(jié)構(gòu)5（P05）為基礎(chǔ)拓展結(jié)構(gòu)，包含結(jié)構(gòu)3（P03）和結(jié)構(gòu)4（P04）。

2.4.5 結(jié)構(gòu)6（P06）為若干并列從權(quán)共同引用上一級(jí)從權(quán)。

在企業(yè)專利工作實(shí)踐中，結(jié)構(gòu)1（P01）、結(jié)構(gòu)2（P02）、結(jié)構(gòu)4（P04）、結(jié)構(gòu)6（P06）為常見形式，而結(jié)構(gòu)3（P03）、結(jié)構(gòu)5（P05）形式相對(duì)較少。一般情形下，結(jié)構(gòu)3、結(jié)構(gòu)5可能會(huì)出現(xiàn)在申報(bào)專利前的權(quán)利要求限定不超過10項(xiàng)時(shí)的一種特殊處理方式。

在從權(quán)數(shù)量較多情況下，各從權(quán)及其關(guān)系可能會(huì)衍生出更多的形式，但基本上以P01、P02、P03、P04、P05、P06結(jié)構(gòu)為基礎(chǔ)。因此，將P01、P02、P03、P04、P05、P06合稱為P0基礎(chǔ)模型。

2.5 多項(xiàng)獨(dú)立權(quán)利模型

通常，專利的技術(shù)方案不是唯一的。在專利技術(shù)研發(fā)前及過程中，從原規(guī)劃方案、備選方案、改進(jìn)優(yōu)化方案到最終方案，每個(gè)環(huán)節(jié)都可能有創(chuàng)新點(diǎn)。因此，專利權(quán)利要求應(yīng)該盡可能覆蓋所有的技術(shù)特征和創(chuàng)新點(diǎn)。

隨著專利相關(guān)研究的深入開展和持續(xù)的實(shí)施，專利質(zhì)量則更加重要。在符合單一性前提下，權(quán)利要求書可能會(huì)有多項(xiàng)獨(dú)權(quán)，即獨(dú)立權(quán)利外還可能有并列獨(dú)立權(quán)利或特殊權(quán)利，同時(shí)權(quán)項(xiàng)及引用關(guān)系逐漸復(fù)雜。

根據(jù)工作實(shí)踐和體會(huì)，按照獨(dú)立權(quán)利的引用關(guān)系，歸納了幾種模型。

2.6 簡(jiǎn)單疊加模型P1：P1=P1+P2

即兩個(gè)基礎(chǔ)模型的簡(jiǎn)單疊加，權(quán)利要求項(xiàng)之間無交叉引用。作為簡(jiǎn)單疊加模型，也可以是兩個(gè)以上基礎(chǔ)模型的集合，即P1=Σ（P1+P2+…+Pi），

其中：Pi為基礎(chǔ)模型P0的任一種基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)或基礎(chǔ)拓展結(jié)構(gòu)形式。

P1模型屬于比較常見的權(quán)利要求模式。該模型下，可能會(huì)出現(xiàn)P01、P02、P03、P04、P05、P06自身簡(jiǎn)單疊加，也可能會(huì)出現(xiàn)P01、P02、P03、P04、P05、P06的兩種或兩種以上的相加。

P1模型其特點(diǎn)是：各獨(dú)立權(quán)利及所屬各從屬權(quán)利自成體系，與其他獨(dú)立權(quán)利及從屬權(quán)利在邏輯上沒有直接的關(guān)聯(lián)性。部分情況下，盡管在邏輯上沒有直接關(guān)聯(lián)性，各獨(dú)權(quán)下的某個(gè)或某些權(quán)利要求項(xiàng)的文字表達(dá)或技術(shù)特征是相似或相同的。在P1模型中，一般不可能出現(xiàn)特殊權(quán)利要求項(xiàng)。

2.7 獨(dú)權(quán)引用模型P2：P2=P1+Q1

在P1基礎(chǔ)上增加了Q1項(xiàng)內(nèi)容，Q1=Σ（Q0+Q1+Q2+…）;Q0、Q1、Q2…為引用兩個(gè)獨(dú)權(quán)而形成的新的權(quán)利要求以及由該權(quán)利要求繼續(xù)形成的新的從權(quán)組成的集合。

P2模型的特點(diǎn)是：獨(dú)權(quán)之間存在引用關(guān)系。P2模型與基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)P03的應(yīng)用情形相似。在P2模型中，可能出現(xiàn)特殊權(quán)利要求項(xiàng)。

2.8 復(fù)雜引用模型P3：P3=P1+M1或者P2+M1

在P2基礎(chǔ)上增加M1項(xiàng)內(nèi)容，M1=Σ（M0+M1+M 2+…）;M0、M1、M2…是引用一項(xiàng)獨(dú)權(quán)和獨(dú)權(quán)的從權(quán)而形成的新的權(quán)利要求，或者引用一項(xiàng)獨(dú)權(quán)和另一個(gè)獨(dú)權(quán)的從權(quán)形成新的權(quán)利要求，或者引用不同獨(dú)權(quán)的從權(quán)而形成的新的權(quán)利要求，以及由該權(quán)利要求繼續(xù)形成的新的從權(quán)組成的集合。在P3模型中，出現(xiàn)特殊權(quán)利要求項(xiàng)可能性大。

2.9 復(fù)雜疊加模型P4：P4=P3+P2+P1

在P4模型中，一般會(huì)出現(xiàn)特殊權(quán)利要求項(xiàng)。P3、P2、P1模型是P4模型在不同的條件下的特例。

3 權(quán)利要求模型的實(shí)證及分析

2006年起，中國(guó)煙草總公司鄭州煙草研究院專利工作進(jìn)入快速發(fā)展期。2015年，提出知識(shí)產(chǎn)權(quán)工作“穩(wěn)定數(shù)量，提升質(zhì)量，加速轉(zhuǎn)化，促進(jìn)應(yīng)用，規(guī)范管理”的指導(dǎo)方針，在專利代理機(jī)構(gòu)招標(biāo)活動(dòng)中，以“發(fā)明專利授權(quán)率”為專利代理結(jié)構(gòu)公開招標(biāo)的主要指標(biāo)，并對(duì)代理機(jī)構(gòu)撰寫權(quán)利要求、專利組群規(guī)劃及分案設(shè)計(jì)等提出了具體要求。實(shí)際業(yè)務(wù)中，企業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)管理人員及各專利代理機(jī)構(gòu)在專利權(quán)利要求項(xiàng)的規(guī)劃設(shè)計(jì)方面進(jìn)行了有益的嘗試和探索。

3.1 “1獨(dú)權(quán)+多項(xiàng)從權(quán)”案例

案例1：CN201210015656.1（一種用于測(cè)定新鮮煙葉中揮發(fā)、半揮發(fā)次生代謝物的方法）[7]有4項(xiàng)權(quán)利要求：權(quán)1為測(cè)定方法與步驟，權(quán)2為預(yù)處理過程，權(quán)3為萃取溶液配備，權(quán)4為濃縮方式。權(quán)1為獨(dú)立權(quán)利，其權(quán)利要求結(jié)構(gòu)見圖7。

案例2：CN201510718905.7（一種煙草制絲線滾筒加工過程筒內(nèi)漏風(fēng)量的檢測(cè)方法）[8]有5項(xiàng)權(quán)利要求：權(quán)1為檢測(cè)方法，權(quán)2為檢測(cè)步驟，權(quán)3為檢測(cè)系統(tǒng)部件，權(quán)4為檢測(cè)條件設(shè)定，權(quán)5為環(huán)境溫濕度的數(shù)值獲取方式。權(quán)1為獨(dú)立權(quán)利，其權(quán)利要求結(jié)構(gòu)見圖8。

3.2 多引用從權(quán)及特殊權(quán)利要求案例

案例3：CN201710247460.8（選擇性降低卷煙主流煙氣中巴豆醛的氨基酸離子液體的制備方法及其應(yīng)用）[9]有5項(xiàng)權(quán)利要求：權(quán)1為制備方法和工藝條件，權(quán)2為氨基酸的種類，權(quán)3為四烷基氫氧化銨的種類，權(quán)4為具體應(yīng)用，權(quán)5為施用量。其中權(quán)1為獨(dú)立權(quán)利，權(quán)4為特殊權(quán)利要求。其權(quán)利要求結(jié)構(gòu)見圖9。

案例4：CN201611028924.8（一種高香氣煙草提取物、制備方法及其應(yīng)用）[10]有5項(xiàng)權(quán)利要求：權(quán)1為提取流程方法，權(quán)2、權(quán)3為工序的特殊條件，權(quán)4為提取物，權(quán)5為提取物用途。其中權(quán)1為獨(dú)立權(quán)利，其中權(quán)4為多引用權(quán)利，權(quán)4、權(quán)5為特殊權(quán)利要求。其權(quán)利要求結(jié)構(gòu)見圖10。

案例5：CN201710557631.7（用于鑒定烤煙南江3號(hào)的引物組合及試劑盒、應(yīng)用及檢測(cè)方法）[11]共10項(xiàng)權(quán)利要求。權(quán)1為引物組合，權(quán)2為12個(gè)特異性SNP位點(diǎn)的引物序列，權(quán)3為鑒定試劑盒，權(quán)4為應(yīng)用范圍，權(quán)5為鑒定方法，權(quán)6為鑒定步驟和流程，權(quán)7為多重PCR擴(kuò)增反應(yīng)，權(quán)8為SAP酶反應(yīng)，權(quán)9為單堿基延伸反應(yīng)，權(quán)10為預(yù)處理過程。其中權(quán)1為獨(dú)立權(quán)利，權(quán)3、權(quán)4為多引用權(quán)利，權(quán)3、權(quán)4、權(quán)6為特殊權(quán)利要求。其權(quán)利要求的結(jié)構(gòu)見圖11。

案例6：CN201920562930.4（超臨界二氧化碳中固態(tài)樣品溶解度的測(cè)量系統(tǒng)）[12]共10項(xiàng)權(quán)利要求。權(quán)1為測(cè)量系統(tǒng)構(gòu)成，權(quán)2、權(quán)3、權(quán)4為測(cè)量系統(tǒng)的某些特殊結(jié)構(gòu)，權(quán)5為測(cè)量系統(tǒng)，權(quán)6為測(cè)量系統(tǒng)的部件及關(guān)聯(lián)關(guān)系，權(quán)7為活塞和電機(jī)，權(quán)8為電機(jī)驅(qū)動(dòng)活塞的形式，權(quán)9為光電探測(cè)器和處理單元，權(quán)10為信號(hào)處理系統(tǒng)。其中權(quán)1為獨(dú)立權(quán)利，權(quán)5為特殊權(quán)利要求。其權(quán)利要求的結(jié)構(gòu)見圖12。

案例7：CN201820609708.0（一種細(xì)胞共培養(yǎng)單元）[13]共有19項(xiàng)權(quán)利要求：權(quán)1為細(xì)胞共培養(yǎng)單元結(jié)構(gòu)，權(quán)2為上下培養(yǎng)皿的口沿結(jié)構(gòu)，權(quán)3為上培養(yǎng)皿搭接結(jié)構(gòu)，權(quán)4為頂蓋和最下層的搭接結(jié)構(gòu)，權(quán)5為限位結(jié)構(gòu)，權(quán)6為上培養(yǎng)皿的支撐體結(jié)構(gòu)，權(quán)7為培養(yǎng)皿層級(jí)，權(quán)8為頂部培養(yǎng)皿的上搭接結(jié)構(gòu)，權(quán)9為中間培養(yǎng)皿的中間支撐結(jié)構(gòu)，權(quán)10為底部培養(yǎng)皿下支撐擋板，權(quán)11為支撐環(huán)套及限位配合，權(quán)12為支撐柱及限位配合，權(quán)13為移液槍插入上培養(yǎng)皿結(jié)構(gòu)，權(quán)14為上擋板連接孔布局，權(quán)15為上培養(yǎng)皿底壁的內(nèi)滲流通道，權(quán)16為滲透膜構(gòu)成，權(quán)17為助貼壁層，權(quán)18為外流通管路連通的出入口，權(quán)19為出入口設(shè)置位置。其中權(quán)1為獨(dú)立權(quán)利，權(quán)11和權(quán)12引用了權(quán)6、權(quán)7、權(quán)8、權(quán)9、權(quán)10，權(quán)13引用權(quán)3、權(quán)4、權(quán)5，權(quán)15、權(quán)17、權(quán)18引用了權(quán)1—權(quán)10。該專利的權(quán)利要求的結(jié)構(gòu)見圖13。

3.3 多獨(dú)權(quán)案例

案例8：CN201621444590.8（煙用薄膜熱收縮率測(cè)量裝置及其測(cè)量夾具）[14]有10項(xiàng)權(quán)利要求。該專利為煙用薄膜熱收縮率測(cè)量裝置及其測(cè)量夾具，兩個(gè)保護(hù)主題的權(quán)1“測(cè)量裝置”為獨(dú)權(quán)，權(quán)6“測(cè)量夾具”為并列獨(dú)權(quán)。權(quán)2為測(cè)量裝置的上下夾持機(jī)構(gòu)，權(quán)3為測(cè)量裝置驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，權(quán)4為測(cè)量裝置傳動(dòng)機(jī)構(gòu)和力傳感器，權(quán)5為測(cè)量裝置位移傳感器;權(quán)7為測(cè)量夾具的上下夾持機(jī)構(gòu)，權(quán)8為測(cè)量夾具的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，權(quán)9為測(cè)量夾具的傳動(dòng)機(jī)構(gòu)和力傳感器，權(quán)10為測(cè)量夾具的位移傳感器。其中權(quán)3、權(quán)8為多引用權(quán)利。其權(quán)利要求的結(jié)構(gòu)見圖14。

案例9：CN201820812573.8（用于檢測(cè)抽吸口數(shù)及抽吸深度的濾棒、煙支及吸煙裝置）[15]共10項(xiàng)權(quán)利要求。該專利有3個(gè)保護(hù)主題，權(quán)1“檢測(cè)抽吸口數(shù)及抽吸深度的濾棒”為獨(dú)立權(quán)利，權(quán)5“檢測(cè)抽吸口數(shù)及抽吸深度的煙支”、權(quán)8“檢測(cè)抽吸口數(shù)及抽吸深度的吸煙裝置”為并列獨(dú)權(quán)。權(quán)2為濾棒中的傳感器，權(quán)3為濾棒中的爆珠及與傳感器位置關(guān)系，權(quán)4為濾棒中的通訊單元;權(quán)6為爆珠及爆珠與傳感器位置關(guān)系，權(quán)7為煙支結(jié)構(gòu)中的通訊單元;權(quán)9為吸煙裝置的傳感器，權(quán)10為吸煙裝置的通訊單元。其權(quán)利要求的結(jié)構(gòu)見圖15。

案例10：CN201820453861.9（一種固相微萃取裝置及其固相微萃取前處理組件）[16]共有26項(xiàng)權(quán)利要求：權(quán)1為固相微萃取前處理組件及結(jié)構(gòu)構(gòu)成，權(quán)2為萃取瓶與樣品瓶一體設(shè)置，權(quán)3為瓶口朝向、瓶底有連接孔，權(quán)4為連接孔數(shù)量及孔徑，權(quán)5為活塞，權(quán)6為密封結(jié)構(gòu)，權(quán)7為密封塞，權(quán)8為磨口結(jié)構(gòu)，權(quán)9為橡膠密封件，權(quán)10為橡膠密封墊，權(quán)11為頂蓋，權(quán)12為螺紋連接和穿孔，權(quán)13為階梯孔，權(quán)14為固相微萃取裝置及結(jié)構(gòu)構(gòu)成，權(quán)15為一體設(shè)置，權(quán)16為瓶口朝向和連接孔，權(quán)17為連接孔數(shù)量與孔徑，權(quán)18為活塞，權(quán)19為密封結(jié)構(gòu)，權(quán)20為密封塞，權(quán)21為磨口結(jié)構(gòu)，權(quán)22為橡膠密封件，權(quán)23為橡膠密封墊，權(quán)24為頂蓋，權(quán)25為頂蓋穿孔，權(quán)26為階梯孔。其中權(quán)1為獨(dú)權(quán)，權(quán)14為并列獨(dú)權(quán)，權(quán)5、權(quán)9、權(quán)18、權(quán)22為多引用權(quán)利。該專利的權(quán)利要求的結(jié)構(gòu)見圖16。

4 研究結(jié)論

專利源自于企業(yè)專利素材，經(jīng)過技術(shù)人員、專利管理人員、代理機(jī)構(gòu)及代理師的共同撰寫和確認(rèn)，再經(jīng)過專利答復(fù)甚至復(fù)審流程，確認(rèn)專利具有新穎性、創(chuàng)造性和實(shí)用性之后，才會(huì)授權(quán);而授權(quán)專利在之后的實(shí)施轉(zhuǎn)化和應(yīng)用時(shí)，專利的保護(hù)范圍以該專利的權(quán)利要求為依據(jù)。因此，在代理機(jī)構(gòu)的招標(biāo)、專利技術(shù)交底書的轉(zhuǎn)移、與代理師的溝通以及申報(bào)資料的核對(duì)與確認(rèn)、專利答復(fù)和復(fù)審等環(huán)節(jié)中，權(quán)利要求的規(guī)劃設(shè)計(jì)至關(guān)重要。

通過對(duì)企業(yè)專利權(quán)利要求書的結(jié)構(gòu)層級(jí)、引用關(guān)系的分析和實(shí)證探索，希望有助于企業(yè)及代理機(jī)構(gòu)深化相關(guān)研究，有助于企業(yè)技術(shù)人員、技術(shù)管理人員（含專利管理人員）、法務(wù)人員、生產(chǎn)經(jīng)營(yíng)人員和企業(yè)決策層把握專利的核心內(nèi)容，進(jìn)一步提升專利質(zhì)量。

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