王喬毅,蘇珊珊
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大型合成氨工廠,通常采用低溫液氮洗裝置脫除來自低溫甲醇洗裝置工藝氣中的CO氣體,以避免合成氣中的氧原子超標造成合成氨催化劑中毒。工藝氣在液氮洗冷箱內通過液氮洗滌過程去除CO,通過配氮過程實現(xiàn)氫氮原子比為3∶1,達到氨合成裝置的進氣要求。由此,液氮洗裝置在合成氨工廠中的應用較為廣泛。盧煥章、肖久高[1-2]等人曾指出PR方程可用于低溫含氫物系的模擬計算。由于氫氣形態(tài)上存在正氫與仲氫[3],因此軟件計算物性需考察以確定模擬計算數(shù)據(jù)的準確度。近年來,很多學者借助Aspen Plus對低溫液氮洗裝置進行模擬計算,文獻[4-5]應用RK-Aspen方程進行液氮洗工藝過程的計算,文獻[6]應用PR-BM方程進行液氮洗工藝過程的模擬計算。然而,針對液氮洗物系的熱力學性質模擬計算的具體研究尚很少見。彭定宇[7]采用PR方程計算N2、CH4的熱力學性質模擬計算,結果與文獻比較吻合。本文在此基礎上進一步考察液氮洗裝置所涉及組分的純組分物性,二元組分相平衡數(shù)據(jù)、三元組分相平衡數(shù)據(jù)。通過模擬數(shù)據(jù)與文獻數(shù)據(jù)對比以確定Aspen Plus中的PR方程能否用于液氮洗裝置的模擬計算。
彭定宇[7]等人提出了PR方程。PR方程在計算飽和蒸氣壓、飽和液體密度等方面有較好的精度,是工程相平衡計算中最常用的方程之一[8]。
Aspen Plus針對PR方程計算物性方法的過程中進行了如下改進:
(1) 采用標準PR方程對于所有的熱力學性質的計算,除了液相摩爾體積。
(2)真實組分的摩爾體積采用Rackett方法[9]予以計算。
由于許多狀態(tài)方程能較好地說明氣體的熱力學性質,應用到液相區(qū)時會產生較大的偏差[9],上述改進提高了PR方程對液相pVT數(shù)據(jù)計算的準確度。
PR方程如下:
(1)
式中:p為體系壓力,V為摩爾體積,T為絕對溫度,R為氣體常數(shù),a和b為狀態(tài)方程參數(shù)。
純組分pVT計算時:
(2)
(3)
(4)
(5)
(6)
式(4)中Tr=T/Tc,Tc為臨界溫度,pc為臨界壓力,ω為偏心因子。
混合物系pVT計算時,采用如下混合規(guī)則:
肖久高[2]曾指出由于低溫下存在仲氫與正氫的轉化及低溫量子效應。在物性使用PR方程進行物性計算的過程中引入量子修正,以改善二元組分泡點的計算。文獻[3]指出,正氫與仲氫的轉化是自發(fā)且緩慢的,在無催化劑的作用下甚至需數(shù)月才可完成轉化。當H2溫度降低至接近液化溫度時,量子效應較為明顯。液氮洗裝置操作溫度最低約為75K,高于H2的臨界溫度(38.35K),且裝置的H2來自煤炭高溫氣化,由此建議H2的熱力學性質與普通氫(正氫含量75%mol,仲氫25%mol)的熱力學性質更為接近。
針對流程模擬過程中常用的純組分熱力學性質進行了模擬計算比對,具體包括:飽和蒸氣壓、汽化熱、定壓比熱容cp。
圖1 H2飽和蒸氣壓模擬結果對比
圖2 N2飽和蒸氣壓模擬結果對比
圖3 CO飽和蒸氣壓模擬結果對比
圖4 AR飽和蒸氣壓模擬結果對比
圖5 CH4飽和蒸氣壓模擬結果對比
由于操作溫度高于H2的臨界溫度,因此不存在H2液化的現(xiàn)象,考察的組分不包括H2。
圖6 N2氣化潛熱模擬結果對比
圖7 CO氣化潛熱模擬結果對比
圖8 AR氣化潛熱模擬結果對比
圖9 CH4氣化潛熱模擬結果對比
從圖1~圖9可以看出,PR方程用于飽和蒸氣壓和氣化潛熱的模擬結果與文獻數(shù)據(jù)吻合良好。
圖10 H2定壓比熱容回歸結果對比
研究發(fā)現(xiàn),采用PR方程計算的過程中,H2的定壓比熱cp在低溫下存在較大的偏差。當采用RK-ASPEN、PR-BM熱力學方程進行模擬計算,結果顯示具有相同的偏差。這是由于理想氣體定壓比熱偏大導致的,采用Aspen Plus的Data Regression功能對H2的理想氣體定壓比熱容進行回歸計算。
理想氣體熱容公式如下:
(11)
式(11)中的為理想氣體定壓比熱,C1i~ C6i為多項式系數(shù)。
從表1中可以看出,經過數(shù)據(jù)回歸后的定壓比熱與文獻數(shù)據(jù)比較接近,可以用于指導工程設計。
表1 H2比熱容的回歸 p=0.1MPa
圖11 N2定壓比熱容模擬結果對比
圖12 CO定壓比熱容模擬結果對比
圖13 AR定壓比熱容模擬結果對比
圖14 CH4定壓比熱容模擬結果對比
圖15 N2-CO相平衡數(shù)據(jù)對比(T=83.82K)
從圖15中可見,低壓下CO-N2組成模擬結果與文獻數(shù)據(jù)有一定的偏離。回歸所得二元交互參數(shù)如下。
表2 回歸運算對比結果
圖16 N2-CH4相平衡數(shù)據(jù)對比(T=90.67K)
圖17 N2-AR相平衡數(shù)據(jù)對比(T=83.82K)
從表2可看出,模擬計算得到的壓力比文獻數(shù)據(jù)稍低,對于相同的液相組成,模擬計算得到的氣相組成則稍高,可以滿足工程設計的需要。
表3 H2與N2的氣液平衡模擬結果對比表
借助Aspen Plus中的flash模塊可以完成三元相平衡數(shù)據(jù)的研究。設定Flash模塊的溫度壓力為固定值,調整進料組成,根據(jù)相率可以得到組成恒定的氣液相平衡組成。依據(jù)此得到的三元相平衡數(shù)據(jù)與文獻數(shù)據(jù)對比。
圖18 H2-N2-CO的三組元相平衡數(shù)據(jù)(T=83.15K,p=3.45MPa)
本文借助Aspen Plus對PR方程用于液氮洗工藝中相關組分的物性方法進行模擬計算。通過對H2的定壓比熱回歸運算以及N2-CO的相平衡數(shù)據(jù)回歸修正相關物性參數(shù)。經過修正后的PR方程在計算液氮洗物系的三元相平衡數(shù)據(jù)上具有良好的吻合度,工程上可用修正過的PR方程進行低溫液氮洗工藝過程模擬研究。