柳鈺 徐忠鋒 王興 胡鵬飛 張小安
1) (咸陽(yáng)師范學(xué)院與中國(guó)科學(xué)院近代物理研究所聯(lián)合共建: 離子束與光物理實(shí)驗(yàn)室, 咸陽(yáng) 712000)
2) (西安交通大學(xué)理學(xué)院, 西安 710049)
(2019 年12 月26日收到; 2020 年4 月9日收到修改稿)
采用中心能量為13.1 keV (最大能量小于30 keV)的軔致輻射光子碰撞Au靶, 在130°—170°的探測(cè)角度范圍內(nèi)以 10°為間隔, 測(cè)量了碰撞產(chǎn)生的特征 X 射線 Lι, Lα, Lβ 和 Lγ1 的光譜. 根據(jù)實(shí)驗(yàn)測(cè)得的能譜結(jié)果, 綜合考慮探測(cè)器的探測(cè)效率及靶材的吸收校準(zhǔn)后, 計(jì)算了不同探測(cè)角度下特征X射線Lα與Lγ1及Lι與Lγ1的相對(duì)強(qiáng)度比; 而且, 還基于不同探測(cè)角度下X射線強(qiáng)度比值, 分析了特征X射線的角分布情況. 實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明特征X射線Lα和Lι為各向異性發(fā)射. 此外, 計(jì)算了特征X射線Lι的各向異性參數(shù)為0.25, 并據(jù)此推斷出L3支殼層的定向度A20為0.577 ± 0.081; 分析認(rèn)為L(zhǎng)3支殼層的定向度A20由該支殼層本身的物理特性決定,但該支殼層的各向異性參數(shù)β會(huì)受到Coster-Kronig躍遷的影響而發(fā)生改變.
總角動(dòng)量為J> 1/2的原子內(nèi)殼層空穴態(tài), 可由光子、電子或高速離子電離原子產(chǎn)生. 該空穴態(tài)的定向行為, 從實(shí)驗(yàn)中通過(guò)熒光輻射的線性極化程度、X射線或俄歇電子的角分布可以推斷出來(lái). 目前很多領(lǐng)域都迫切需要精確的原子內(nèi)殼層電離截面數(shù)據(jù), 例如材料元素分析中的X射線熒光光譜技術(shù)[1,2]、俄歇電子譜儀[3]、X 射線成像技術(shù)[4-6]. 然而原子內(nèi)殼層電離截面的測(cè)量必須考慮特征輻射(如X射線)是否為各向同性. 雖然已經(jīng)開(kāi)展了大量的實(shí)驗(yàn)研究, 通過(guò)測(cè)量發(fā)射X射線的角分布或極化程度來(lái)研究?jī)?nèi)殼層空穴態(tài)的排列, 然而對(duì)于低能光子撞擊對(duì)原子內(nèi)殼層電離角分布的研究, 到目前為止還不是很清楚. Flügge等[7]首次預(yù)測(cè)了光電離過(guò)程中產(chǎn)生空穴的定向分布. 隨后許多科學(xué)家在理論和實(shí)驗(yàn)上[8-14]支持了Flügge等的觀點(diǎn), 即電離過(guò)程中L3支殼層空穴在其退激過(guò)程中, 所發(fā)射特征X射線輻射為各向異性; 然而在有的研究工作[15-21]中卻得到了與Flügge等相反的觀點(diǎn), 即電離過(guò)程中L3支殼層所產(chǎn)生特征X射線為各向同性分布. 可見(jiàn), 關(guān)于空穴態(tài)定向行為的實(shí)驗(yàn)研究仍沒(méi)有定論.
了解原子物理學(xué)中的L殼層空穴態(tài)的定向分布, 需要了解L殼層X(jué)射線的相對(duì)強(qiáng)度. 對(duì)于由準(zhǔn)直非極化光子產(chǎn)生的空穴衰變而產(chǎn)生的偶極型X 射線, Berezhko 和 Kabachnik[22]在 1977 年, 初次給出了電離原子退激過(guò)程中, 不同出射角θ發(fā)射特征X射線的微分強(qiáng)度理論公式:
(1)式描述了不同出射角度與該出射角度上X射線強(qiáng)度的關(guān)系, 文獻(xiàn)[22]對(duì)(1a)式和(1b)式中各參數(shù)的物理意義已進(jìn)行了詳細(xì)描述, (1)式對(duì)于獲得4π立體角內(nèi)總的X射線發(fā)射強(qiáng)度具有重要意義. 對(duì)應(yīng)支殼層空穴態(tài)的定向度A20, 由各磁亞態(tài)μn中的集居截面決定. 例如對(duì)于L殼層中, 能級(jí)為J= 3/2的L3支殼層, 定向度可以被表示為[22]A20= [σ(3/2, ±3/2) —σ(3/2, ±1/2)]/[σ(3/2, ±3/2)+σ(3/2, ±1/2)], 其中σ(2p3/2,μn)表示磁亞態(tài)μn中的集居截面.
A20對(duì)磁亞態(tài)電離截面的依賴使得它是一個(gè)非常重要的量, 而且這個(gè)量不能從L3殼層總的電離截面中測(cè)量得到. 同時(shí), 定向參數(shù)的信息對(duì)于總的截面測(cè)量是非常重要的. 從(1)式可知, 從不同探測(cè)角度下特征X射線的強(qiáng)度分布, 可以得出對(duì)應(yīng)支殼層的各向異性參數(shù).
L3支殼層發(fā)射的特征X射線Lι和Lα, 其與空穴初態(tài)和終態(tài)總角動(dòng)量相關(guān)的動(dòng)力學(xué)因子α值分別為0.5和0.05[22]. 也就是說(shuō)特征X射線Lι的各向異性參數(shù)β值是特征X射線Lα的10倍, 那么實(shí)驗(yàn)結(jié)果中特征X射線Lι的各向異性發(fā)射將更容易被觀察到. 即使兩種相對(duì)立的論斷[7,15], 也都認(rèn)為從L1和L2支殼層(J= 1/2)產(chǎn)生的X射線為各向同性發(fā)射. 基于上述內(nèi)容, 本文認(rèn)為從L2支殼層發(fā)射的X射線Lβ1和Lγ1為各向同性發(fā)射. 實(shí)驗(yàn)中可以采用同一探測(cè)角度下探測(cè)到的光譜中X射線 Lι與 Lγ1的強(qiáng)度比, 來(lái)測(cè)量特征 X射線Lι的各向異性參數(shù). 對(duì)于同一光譜中X射線強(qiáng)度比, 只有譜線計(jì)數(shù)統(tǒng)計(jì)帶來(lái)的計(jì)數(shù)誤差, 會(huì)影響各向異性參數(shù)β的不確定度.
本文使用中心能量為13.1 keV的軔致輻射對(duì)純厚Au靶進(jìn)行轟擊, 并在發(fā)射角為130°—170°范圍內(nèi)以10°為間隔, 測(cè)量了靶的特征L系X射線光譜; 報(bào)道了X射線Lι與Lγ1的強(qiáng)度比的角依賴關(guān)系, 并由此獲得特征X射線Lι的各向異性參數(shù)以及L3支殼層的定向度, 完善了對(duì)空穴態(tài)定向行為的論斷.
本文采用的實(shí)驗(yàn)儀器分別為美國(guó)AMPTEK公司生產(chǎn)的Mini-X射線管、XR-100SDD探測(cè)器、PX5多道脈沖處理器、電腦終端以及與上述硬件設(shè)施配套的軟件部分. 本實(shí)驗(yàn)在大氣中進(jìn)行, 實(shí)驗(yàn)裝置示意圖如圖1所示, Mini-X射線管在距靶材中心位置16 cm處, 向厚度為40 μm的Au靶發(fā)出垂直于靶面正中心的X射線. 探測(cè)器位于距離入射束與靶材交點(diǎn)15 cm處, 實(shí)驗(yàn)過(guò)程中Mini-X射線管與靶材相對(duì)位置保持不變. 用X射線探測(cè)器在 130°—170°的范圍內(nèi)以 10°為間隔, 對(duì) Au 靶的特征 X 射線 Lι, Lα1, Lα2, Lβ1, Lβ2和 Lγ1進(jìn)行測(cè)量.AMPTEK公司生產(chǎn)的Mini-X射線管可快速、高效、穩(wěn)定地輸出不同能量和流強(qiáng)的光子. 通過(guò)改變管電流和管電壓的方式來(lái)控制出射光子的能量和流強(qiáng); 管電流的可調(diào)控范圍為5—200 μA, 實(shí)驗(yàn)中設(shè)置為90 μA. 管電壓的可調(diào)控范圍為10—50 keV,實(shí)驗(yàn)中將其設(shè)置為30 keV. Mini-X射線管在無(wú)準(zhǔn)直的情況下輸出光束發(fā)散角為120°. 實(shí)驗(yàn)過(guò)程中,在X射線出口處加2 mm的準(zhǔn)直, 出射X射線的發(fā)散角約為5°. 在探測(cè)器25 mm2的探測(cè)面上, 裝有一個(gè)用于避光和真空封裝的, 厚度為12.5 μm的薄鈹窗以便于探測(cè)軟X射線, 其分辨率可達(dá)到在5.9 keV峰處具有125 eV的峰值半高全寬. 所以對(duì) Au 的特征 X 射線 Lα1和 Lα2(Lα1和 Lα2的能量差是 85 eV)不能分辨, 統(tǒng)一記做Lα; 對(duì)于Au的特征 X 射線 Lβ1和 Lβ2(Lβ1和 Lβ2的能量差是133 eV)譜沒(méi)有完全區(qū)分清楚, 也統(tǒng)一記作Lβ. 探測(cè)器在此條件下對(duì)特征 X 射線 Lι, Lα, Lβ和 Lγ1的探測(cè)效率分別為0.989, 0.97, 0.88和0.75.
圖 1 實(shí)驗(yàn)裝置示意圖Fig. 1. Experimental setup.
圖2給出了當(dāng)X射線垂直入射Au靶時(shí), 在140°的探測(cè)角度上所探測(cè)到的特征X射線能譜圖.由圖 2 可知, Lι, Lα, Lβ和 Lγ1這 4 個(gè)特征 X 射線峰區(qū)分得非常好. 采用origin軟件中高斯函數(shù)擬合的功能, 可以準(zhǔn)確地求解 Lι, Lα, Lβ和 Lγ1特征X射線特征的峰面積. 實(shí)驗(yàn)中特定發(fā)射角度下,X射線強(qiáng)度比I(Li)/I(Lj)為
其中N(Li)/N(Lj)表示譜線中不同特征X射線經(jīng)高斯擬合所得面積的比值,ε(Lj)/ε(Li)是探測(cè)器對(duì)不同特征X射線的探測(cè)效率之比,λ(Lj)/λ(Li)表示靶材對(duì)特征X射線的吸收校準(zhǔn)因子之比, 其中i=α或ι,j=γ1. 特征 X 射線 Lj和 Li的自吸收校正因子λθ(Lj)和λθ(Li)[23]具有相同的表述形式, 可表示為
其中μinc表示入射光子(入射中心能量為13.1 keV的軔致輻射光子)的質(zhì)量吸收系數(shù),μemt表示出射光子(出射特征X射線Li, Lj)的質(zhì)量吸收系數(shù), 其數(shù)值由Storm和Israel[24]報(bào)道的靶材對(duì)不同能量光子的吸收系數(shù)得到. 入射束和出射束與靶平面法向的夾角由θ1和θ2分別表示, Au靶的質(zhì)量厚度t為 77.2 mg·cm—2.
圖 2 探測(cè)角度為140°時(shí)、中心能量為13.1 keV軔致輻射入射Au靶產(chǎn)生L系特征X射線能譜圖Fig. 2. Fitted L X-ray spectrum of Au induced by impact with bremsstrahlung with central energy of 13.1 keV and measured at the emission angle of 140°.
經(jīng)過(guò)(2)式和(3)式的計(jì)算, 在圖3中完整展示了 Au的 L殼層 X射線 Lι與 Lγ1及 Lα與 Lγ1的強(qiáng)度比和P2(cosθ)之間的關(guān)系. 采用最小二乘法對(duì)不同探測(cè)角度下得到的強(qiáng)度比I(Lι)/I(Lγ1)進(jìn)行擬合, 擬合曲線的斜率, 即為特征 X射線Lι的各向異性參數(shù). 本文數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)過(guò)程中, X射線強(qiáng)度比的誤差主要來(lái)自于5%的高斯擬合誤差、3%的統(tǒng)計(jì)誤差、6%的背景誤差和6%的探測(cè)器立體角誤差, 系統(tǒng)總體誤差大約為14%.
圖 3 Au 靶特征 X 射線強(qiáng)度比 I(Lα)/I(Lγ1)和 I(Lι)/I(Lγ1)與 P2(cosθ)的關(guān)系Fig. 3. Intensity ratios of I(Lα)/I(Lγ1) and I(Lι)/I(Lγ1) as a function of P2(cosθ) for Au.
從圖 3 可以看出, 強(qiáng)度比I(Lι)/I(Lγ1)與探測(cè)角度有明顯的相關(guān)性. 通過(guò)確定L3支殼層的空穴態(tài)產(chǎn)生過(guò)程, 可以更好地研究L3支殼層的定向性行為. 原子受激并在L3支殼層產(chǎn)生空穴的過(guò)程中,原子處于不穩(wěn)定狀態(tài), 更高殼層的一個(gè)電子就會(huì)通過(guò)輻射或無(wú)輻射的方式向L殼層躍遷. 當(dāng)采用輻射方式躍遷時(shí), 可以通過(guò)輻射X射線的形式釋放多余的能量; 也可以通過(guò)發(fā)射俄歇電子或Coster-Kronig (CK)躍遷、超級(jí)CK躍遷的方式實(shí)現(xiàn)無(wú)輻射躍遷過(guò)程.
碰撞過(guò)程中, L3支殼層的空穴不單可以由直接電離的方式在L3支殼層中產(chǎn)生, 也可從K殼層、L2或L1支殼層轉(zhuǎn)移而來(lái). L3支殼層電離截面σ3計(jì)算公式為[25]
Au的L殼層X(jué)射線電離截面依賴于熒光產(chǎn)額和CK躍遷系數(shù). K殼層和L支殼層光電離截面由 (4)式中σK,,和來(lái)表示.fij是從Li支殼層到Lj支殼層的CK躍遷概率, 是發(fā)生在同一主殼層的躍遷.是從K殼層到Li支殼層通過(guò)輻射躍遷轉(zhuǎn)移和無(wú)輻射躍遷轉(zhuǎn)移的空穴數(shù). 在本次測(cè)量中入射光子的能量最大為30 keV, 而Au靶的K吸收限是80 keV, 所以當(dāng)入射能量低于K吸收限時(shí), K殼層電子不能被激發(fā)出來(lái), 也就是說(shuō)L3支殼層的空穴轉(zhuǎn)移只能由直接電離和L1和L2支殼層轉(zhuǎn)移獲得. 在這種情況下, (4)式中包含的項(xiàng)均可被消掉, L3支殼層的電離截面可以寫成:
Au的CK躍遷概率fij可以由文獻(xiàn)[25]獲得,如表1所列. 從圖2和表1可以推斷出L3支殼層的電離截面σ3, 顯著地由L1和L2支殼層的空穴態(tài)影響. 空穴從L殼層中較低的支殼層向較高的支殼層轉(zhuǎn)移, 這一行為很可能改變角動(dòng)量量子數(shù)J> 1/2時(shí)空穴態(tài)的定向行為. CK躍遷矯正因子k可以表示為
表 1 Au元素的L支殼層CK躍遷概率fij數(shù)據(jù)[25]Table 1. L-subshell CK yields fij for Au[25].
表2列出了基于相對(duì)論Hatree-Fock-Slater模型得到的 L1, L2, L3支殼層電離截面值[26]. 從表中可以看出, 當(dāng)入射光子能量分別大于12, 13.8,14.4 keV 時(shí), 可以使得 L3, L2, L1支殼層發(fā)生電離;當(dāng)入射光子能量小于13.76 keV時(shí), L1和L2支殼層都沒(méi)有發(fā)生電離,k值為1; 當(dāng)入射光子能量增加到 13.8 keV時(shí), L3和 L2支殼層都發(fā)生電離,k值為0.92. 在入射光子能量增大至30 keV的過(guò)程中, CK躍遷過(guò)程逐漸增強(qiáng),k值逐漸減小. 由于L1, L2支殼層產(chǎn)生的特征X射線為各向同性發(fā)射,那么CK躍遷的發(fā)生, 將會(huì)改變L3支殼層產(chǎn)生X射線的定向度A20. 本實(shí)驗(yàn)選用的光源中心能量為13.1 keV, 最大能量為30 keV. 當(dāng)中心能量為13.1 keV的光子入射時(shí), 不會(huì)在目標(biāo)靶材中產(chǎn)生CK躍遷過(guò)程. 當(dāng)能量為13.8—30 keV之間的光子入射時(shí), 將會(huì)在目標(biāo)靶材中產(chǎn)生越來(lái)越強(qiáng)的CK躍遷過(guò)程. 但是X射線管發(fā)射的13.8—30 keV之間的軔致輻射譜強(qiáng)度, 隨著出射能量的增大而減小.13.8—14.4 keV之間的光子數(shù)約占有效入射光子數(shù)的5%, 14.4—20 keV之間的光子數(shù)約占有效入射光子數(shù)的45%, 20—30 keV之間的X射線強(qiáng)度幾乎為零, 所以總的來(lái)說(shuō)本實(shí)驗(yàn)中CK躍遷過(guò)程較弱.
表 2 不同入射能量下L支殼層電離截面[26]及CK躍遷矯正因子k值Table 2. Ionization cross-sections (in barn) for L subshells[26] and CK correction factor k at different energies.
特征 X 射線 Lι的定向度β, 由圖 3 中 Lι/Lγ1曲線的斜率可知為0.25. 考慮到特征X射線Lι的動(dòng)力學(xué)因子α值為 0.5, 由β=αkA20可得 L3支殼層的定向度A20的值為0.577 ± 0.08.
本文用X射線探測(cè)器在130°—170°范圍內(nèi)以10°為間隔, 測(cè)量了中心能量為13.1 keV的軔致輻射入射 Au 靶時(shí), 所產(chǎn)生特征 X 射線 Lι, Lα, Lβ和Lγ1的光譜. 基于特征X射線Lι與Lγ1的強(qiáng)度比的角分布結(jié)果, 分析了L3支殼層空穴態(tài)的定向性行為. 實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明: L3支殼層發(fā)射的特征X射線Lι, Lα表現(xiàn)出明顯的各向異性發(fā)射. 同時(shí), 空穴從較低的L支殼層向較高的支殼層轉(zhuǎn)移, 這一CK躍遷過(guò)程對(duì)角動(dòng)量量子數(shù)J> 1/2時(shí)的空穴態(tài)的定向行為發(fā)生改變. 并由實(shí)驗(yàn)結(jié)果計(jì)算出L3支殼層的定向度A20的值為0.557 ± 0.081.
本實(shí)驗(yàn)結(jié)果與文獻(xiàn)[8-14]的實(shí)驗(yàn)或理論結(jié)果一致, 然而卻與文獻(xiàn)[15-20]的結(jié)果不同, 他們認(rèn)為電離過(guò)程中L系譜線均為各向同性發(fā)射. 所以在將來(lái), 很有必要在原有的實(shí)驗(yàn)基礎(chǔ)上, 開(kāi)展更多的電子、光子、離子入射靶材的實(shí)驗(yàn), 進(jìn)一步研究L殼層產(chǎn)生空穴態(tài)的定向分布問(wèn)題.