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        多晶硅還原爐制造工藝技術(shù)探討

        2020-06-12 09:46:28楊美昆
        化工設(shè)備與管道 2020年2期
        關(guān)鍵詞:設(shè)備

        楊美昆

        (西安核設(shè)備有限公司,西安 710021)

        多晶硅是單質(zhì)硅的一種形態(tài),密度2.32~2.34 g/cm3,熔點(diǎn)1 410 ℃,沸點(diǎn)2 355 ℃。溶于氫氟酸和硝酸的混酸中,不溶于水、硝酸和鹽酸;硬度介于鍺和石英之間,室溫下質(zhì)脆,切割時(shí)易碎裂;加熱至800 ℃以上具有延展性,至1 300 ℃時(shí)顯出變形;常溫下不活潑,高溫下與氧、氮、硫等反應(yīng);高溫熔融狀態(tài)下,具有較大的活潑性,能與大多數(shù)材料作用;是極為重要的優(yōu)良半導(dǎo)體材料[1]。同時(shí),多晶硅是生產(chǎn)單晶硅的直接原料。

        1 設(shè)備簡介

        某光伏項(xiàng)目中,多晶硅還原爐為多晶硅生產(chǎn)線上關(guān)鍵設(shè)備,是Ⅱ類壓力容器,內(nèi)徑φ1 800 mm,壁厚24/14 mm,總高度:5 200 mm,硅芯棒規(guī)格φ150 mm×2 800 mm,數(shù)量為36 對,屬中型多晶硅設(shè)備。它主要由殼體組件、底部組件、裙座組件以及啟動電極組件、硅芯電極組件等組成。殼體組件包括內(nèi)殼體、夾套殼體,分別有不同規(guī)格的蝶形封頭、筒體、容器法蘭、視鏡法蘭等,用于建立閉環(huán)式反應(yīng)空間;底部組件包括各混合氣進(jìn)、出水管、啟動電極座、閥組件等其他附屬部件組成,主要用來安裝電極和硅芯。與其他同類多晶硅還原爐設(shè)備不同的是,設(shè)備殼體組件和底部組件通過平墊密封和44 個(gè)快拆壓緊螺栓聯(lián)結(jié)而不是設(shè)備螺栓,便于設(shè)備操作和硅芯的裝卸,形成完整的反應(yīng)密閉空間。設(shè)備外表面用厚度為100 mm 的泡沫玻璃進(jìn)行保溫,結(jié)構(gòu)如圖1 所示,技術(shù)特征如表1 所示。

        圖1 多晶硅還原爐結(jié)構(gòu)簡圖Fig.1 Structure of polycrystalline silicon reducation

        多晶硅還原爐設(shè)備結(jié)構(gòu)較復(fù)雜,外聯(lián)附件各管路、電路較多,制造加工形位公差要求高,包括:

        (1)爐筒容器法蘭與爐筒中心線的垂直度公差為0.1 mm;爐筒頂部等離子法蘭的密封面與爐底容器法蘭的平行度為0.1 mm,上封頭凸緣法蘭、視鏡法蘭及容器法蘭的密封面平面度為0.1 mm;

        表1 設(shè)備技術(shù)參數(shù)Table 1 Technical parameters of equipment

        (2)爐筒夾套內(nèi)螺旋導(dǎo)流板與外夾套內(nèi)壁的間隙≤1 mm;

        (3)容器內(nèi)表面全部拋光至0.4 μm。

        根據(jù)同類夾套設(shè)備制造經(jīng)驗(yàn),通過合理、規(guī)范的工藝方法,嚴(yán)格控制操作過程,順利地解決了上述制造的難點(diǎn)。

        2 材料

        多晶硅還原爐材料結(jié)構(gòu)為板-鍛結(jié)構(gòu),主體材料:00Cr17Ni14Mo2,材料標(biāo)準(zhǔn):GB/T 20878—2007《不銹鋼和耐熱鋼牌號及化學(xué)成分》,含碳量≤0.030%,屬超低碳奧氏體不銹鋼板,因添加Mo 元素,材料具有良好的耐腐蝕性、高溫抗氧化性和耐低溫性能。材料機(jī)械性能屈服強(qiáng)度σ0.2≥180 MPa、抗拉強(qiáng)度σb≥490 MPa、延伸率A ≥40%、面縮率ψ ≥60%,熱塑性好,過熱敏感性低,固熔狀態(tài)無磁性,可進(jìn)行冷加工成型,主要應(yīng)用于石油化工、核電、化纖、航空航天等領(lǐng)域核心設(shè)備的制造。

        多晶硅還原爐設(shè)備內(nèi)筒體、蝶形封頭、夾套筒體、夾套封頭、導(dǎo)流板等件均采用00Cr17Ni14Mo2板材材料。容器法蘭、視鏡法蘭、凸緣法蘭等材料為00Cr17Ni14Mo2 Ⅱ鍛件(JB 4728—2000《壓力容器不銹鋼鍛件》);啟動電極、閥體組件、硅芯電極等部件,由于使用中對耐磨性、耐腐蝕性、導(dǎo)電性等要求,零件多采用紫銅、黃銅材料[2]。主體材料經(jīng)復(fù)驗(yàn)合格后用于設(shè)備制造[3]。

        3 工藝方法

        由于設(shè)備外形尺寸較大,焊接過程中存在焊接應(yīng)力導(dǎo)致外型尺寸變形,無法通過焊接過程質(zhì)量控制來控制外形公差要求。為保證設(shè)備外形形位公差和裝配尺寸公差的要求,只有通過合理、規(guī)范的工藝方法和設(shè)備的保證,對所要求公差零部件法蘭均采用焊前留工藝余量、焊后精加工的工藝方法,完全達(dá)到設(shè)備整體形位公差要求和導(dǎo)流板裝配公差的關(guān)鍵尺寸公差要求。

        3.1 形位公差

        設(shè)備形位公差主要是各法蘭密封面與設(shè)備中心線的平行度、垂直度,要求±0.1 mm。內(nèi)殼體是設(shè)備的核心關(guān)鍵部件,也是各形位公差的基準(zhǔn),按照工藝要求通過大型機(jī)加工設(shè)備立車、鏜床加工的方式保證各視鏡、容器法蘭密封面與設(shè)備中心線平行度和垂直度要求。加工設(shè)備:立車(型號:C5263/2)。裝夾方式:將內(nèi)殼體倒置,在內(nèi)筒體高度2 800 位置側(cè)面0°、90°、180°、270°不同方位焊接30 mm×50 mm×150 mm 工藝壓板,用專用胎具定位、壓板夾緊的定位方式,防止水平方向、垂直方向移動;加工過程低速低進(jìn)給,車床轉(zhuǎn)速20 ~ 30 r/ min,進(jìn)給量0.10 ~ 0.20 mm/r,保證密封表面粗糙度Ra ≤6.3 μm。

        工步如下:① 用百分表以設(shè)備外圓基準(zhǔn)找平,內(nèi)孔找正,控制公差誤差在±0.1 mm 范圍內(nèi),并用90°硬質(zhì)合金YG8 車刀加工容器法蘭端面。用車床橫梁拖動百分表檢查垂直度是否符合要求;合格后加工上端凸緣法蘭外圓,作為后續(xù)垂直度加工基準(zhǔn)。② 采用相同的工藝方法后加工導(dǎo)流板外圓,尺寸與夾套配作,保證裝配公差±0.1 mm 的要求。③ 在鏜床(型號:T250)加工下端凸緣法蘭密封面,以已加工上端凸緣法蘭外圓為基準(zhǔn)用百分表找正,嚴(yán)格控制公差在±0.1 mm 范圍內(nèi),加工密封面和螺栓孔并進(jìn)行自檢。其余各管口法蘭密封面、視鏡法蘭上的螺紋底均在鏜床上完成加工和檢驗(yàn)工作,確保加工后與設(shè)備中心線平行度的要求。

        3.2 焊接

        設(shè)備焊接主要是殼體組件內(nèi)殼體、夾套殼體焊接、視鏡法蘭的焊接及底部組件各接管、支座等焊接。筒體材料為00Cr17Ni14Mo2,厚度24 mm、14 mm,殼體較薄,視鏡法蘭采用不銹鋼鍛件,外型尺寸較大,因此為保證強(qiáng)度要求,均采用單邊全焊透結(jié)構(gòu)。

        材料含碳量低,有良好的耐腐蝕性能,屬超低碳奧氏體不銹鋼組織,鉻、鎳含量較高,有較大的熱裂紋傾向,特別在焊縫冷凝時(shí),鋼中的S、P 等有害雜質(zhì)形成液態(tài)夾層和易溶夾層,積聚在熔池的中心區(qū)域,在接頭應(yīng)力作用下開裂,冷卻后形成熱裂紋。因此,焊接過程中焊縫容易產(chǎn)生熱裂紋;同時(shí),材料本身導(dǎo)熱性差,線膨脹系數(shù)大,焊縫冷卻后殘余應(yīng)力較大,在裂紋端部產(chǎn)生應(yīng)力集中,使裂紋擴(kuò)張加速,導(dǎo)致焊縫產(chǎn)生脆性斷裂[4]。因此,設(shè)備在焊接過程中嚴(yán)格根據(jù)焊接工藝評定確定的焊接結(jié)構(gòu)和技術(shù)參數(shù)進(jìn)行操作,如圖2 所示,技術(shù)參數(shù)如表2 所示,以保證焊接質(zhì)量。

        焊材標(biāo)準(zhǔn)按照YB/T 5092—2016,材料ER316L,規(guī)格φ4 mm、配用不銹鋼堿性燒結(jié)焊劑:SJ601,烘干要求:350 ~ 400 ℃×2 h,熔敷金屬具有良好的抗點(diǎn)蝕能力、抗晶間腐蝕性能,焊縫抗裂性較好,并且具有良好的工藝性能和物理性能。

        設(shè)備焊接過程采用小電流、快速焊接的方法,對層間溫度用紅外線測溫儀進(jìn)行有效的監(jiān)控,確?!?00 ℃。根據(jù)材料和焊接工藝評定確定焊接工步如下:① 清理坡口表面及兩側(cè)各25 mm 范圍的水、銹、油污、積渣及其他有害等雜物;② 用手工電弧焊點(diǎn)固,埋弧焊施焊序1、2;③ 反面碳弧氣刨清根并砂輪打磨坡口見光;④ 埋弧焊施焊序3 焊滿;⑤ 注意道間焊渣及表面飛濺的清理干凈。

        圖2 內(nèi)殼體對接焊縫結(jié)構(gòu)Fig.2 Welding structure of upward head and cylinder

        表2 焊接技術(shù)參數(shù)Table 2 Welding technical parameters

        3.3 表面處理

        設(shè) 備 介 質(zhì) 為H2、SiHCl3、SiCl4、 SiH2Cl2、HCl,具有腐蝕、易燃易爆的特性。根據(jù)設(shè)計(jì)和工況要求,容器內(nèi)表面粗糙度0.4 μm,屬鏡面范圍,要求較高,普通加工方法和工藝技術(shù)無法達(dá)到,通過電拋光方法可以滿足粗糙度的要求。

        4 結(jié)束語

        此項(xiàng)目多晶硅還原爐設(shè)備結(jié)構(gòu)典型。制造要求技術(shù)高、通過各項(xiàng)工藝試驗(yàn)和焊接工藝評定要求,確定規(guī)范、合理的工藝技術(shù)方法和焊接技術(shù)參數(shù),并成功地應(yīng)用于設(shè)備的制造過程中。設(shè)備水壓試驗(yàn)和各項(xiàng)試驗(yàn)檢查均一次性合格,順利完成多晶硅還原爐設(shè)備的制造任務(wù)。

        多晶硅還原爐設(shè)備投產(chǎn)使用至今運(yùn)行已6 年多,運(yùn)行穩(wěn)定,質(zhì)量可靠,未出現(xiàn)任何質(zhì)量、安全事故。為公司后續(xù)大型多晶硅還原爐的加工制造提供了技術(shù)支持和制造經(jīng)驗(yàn)。

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