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        微米級PZT驅(qū)動(dòng)器尺度相關(guān)的自由振動(dòng)分析

        2020-05-10 04:28:28鄭世杰田志昌楊志軍
        壓電與聲光 2020年2期
        關(guān)鍵詞:晶片理論

        陳 明, 鄭世杰 ,田志昌,楊志軍,馮 鑫

        (1.內(nèi)蒙古科技大學(xué) 土木工程學(xué)院, 內(nèi)蒙古 包頭 014010;2. 南京航天航空大學(xué) 機(jī)械結(jié)構(gòu)力學(xué)及控制國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,江蘇 南京 210016)

        0 引言

        鋯鈦酸鉛(PbZrTiO3,PZT)壓電陶瓷擁有優(yōu)良的壓電特性,廣泛應(yīng)用于微機(jī)電系統(tǒng)中,結(jié)構(gòu)的特征尺度達(dá)到微米量級。微納米結(jié)構(gòu)力學(xué)行為的尺度相關(guān)性已在實(shí)驗(yàn)室得到證實(shí)[1-2]。經(jīng)典的連續(xù)介質(zhì)理論不能準(zhǔn)確描述微納米尺度構(gòu)件的力學(xué)行為。

        2002年,Yang等[3]在偶應(yīng)力理論基礎(chǔ)上提出,修正偶應(yīng)力理論僅包含一個(gè)尺度相關(guān)的材料內(nèi)稟尺寸參數(shù),被廣泛應(yīng)用于分析微納米尺度力學(xué)結(jié)構(gòu)。2011 年,Gao等[4]通過修正偶應(yīng)力理論建立微米級Mindlin板模型,分析了簡支結(jié)構(gòu)板的靜態(tài)彎曲和自由振動(dòng)的尺寸相關(guān)性。2014年,Mesut等[5]將修正偶應(yīng)力理論應(yīng)用到非線性微米梁靜態(tài)撓度、固有頻率的尺寸效應(yīng)分析。2015年,Mesut等[6]應(yīng)用Kirchhoff-Love板理論結(jié)合修正偶應(yīng)力理論分析了移動(dòng)載荷作用下微米板的振動(dòng)問題。除單一材料組成的微米梁板結(jié)構(gòu),在復(fù)合材料及功能梯度材料方面有較多研究開展。2011年,Chen等[7]基于修正偶應(yīng)力理論,建立了考慮剪切變形的復(fù)合材料層合梁模型,分析模型的尺寸效應(yīng);并對比分析了歐拉-伯努利梁和鐵木辛柯梁的解。2011年,Ke等[8]運(yùn)用鐵木辛柯梁理論結(jié)合修正偶應(yīng)力理論分析了功能梯度梁動(dòng)力學(xué)穩(wěn)定性的尺寸效應(yīng)。2015年,Li等[9]將修正偶應(yīng)力理論應(yīng)用于分析功能梯度壓電板的靜態(tài)彎曲和自由振動(dòng)的尺寸相關(guān)性問題。2014年,Ansari等[10]在考慮電場引起應(yīng)力變化情況下分析了微米級純壓電梁的振動(dòng)特性。

        上述研究主要集中在微米梁、板結(jié)構(gòu),關(guān)于壓電層合微米梁結(jié)構(gòu)的研究較少。2016年,Zheng等[11]考慮力電的耦合作用,研究了對微米級PZT壓電層合驅(qū)動(dòng)裝置的靜態(tài)力學(xué)行為進(jìn)行了分析。本文在Zheng等[11]研究的基礎(chǔ)上,進(jìn)一步對微米級PZT層合驅(qū)動(dòng)裝置動(dòng)態(tài)力學(xué)行為的尺寸效應(yīng)進(jìn)行分析。

        1 微米級PZT驅(qū)動(dòng)器的運(yùn)動(dòng)控制方程

        PZT壓電驅(qū)動(dòng)器由壓電片與基體組合而成。根據(jù)組合方式的不同可分為非均質(zhì)和均質(zhì)PZT雙晶片驅(qū)動(dòng)器,如圖1所示。圖中,hp為PZT層厚度,he為金屬墊層厚度。

        圖1 微米級PZT驅(qū)動(dòng)器

        下面根據(jù)修正偶應(yīng)力理論和經(jīng)典的層合梁理論,推導(dǎo)在力-電耦合作用下的微米PZT層合梁結(jié)構(gòu)智能驅(qū)動(dòng)器的運(yùn)動(dòng)控制方程。

        修正偶應(yīng)力理論本構(gòu)關(guān)系[3]為

        σij=λδijεkk+2μεij

        (1)

        mij=2l2μχij

        (2)

        幾何關(guān)系為

        εij=(ui,j+uj,i)/2

        (3)

        (4)

        (5)

        根據(jù)歐拉-伯努利梁理論,微米級PZT智能驅(qū)動(dòng)器的本構(gòu)方程如下:

        對于PZT層有:

        σx=Exεx-d31ExEz

        (6)

        (7)

        Dz=d31σx+κ3Ez

        (8)

        對于基體彈性層有:

        σx=Exεx

        (9)

        (10)

        式中:Ex為材料的彈性模量;d31為材料的壓電常數(shù);Ez為z方向電場強(qiáng)度;Dz為z方向電位移;κ3為介電常數(shù)。

        非均質(zhì)/均質(zhì)PZT雙晶片驅(qū)動(dòng)器在線彈性階段,電場與力場耦合下的總勢能為

        (11)

        式中V為體積。

        假定梁結(jié)構(gòu)在橫向分布力q(x,t)作用下,不考慮體力和體力偶的作用,則有

        (12)

        忽略軸向位移對動(dòng)能(T)的影響,則T可表示為

        (13)

        式中:ρk為第k層梁的密度;Ak為第k層梁的橫截面積,k為驅(qū)動(dòng)器層數(shù)。根據(jù)哈密頓原理有

        (14)

        將式(11)~(13)代入式(14),得到微米級層合梁的運(yùn)動(dòng)控制方程:

        q(x,t)

        (15)

        式中0

        (16)

        (17)

        (18)

        式中:D+R為彎曲剛度;Gk為第k層材料的剪切彈性模量。

        若不考慮壓電效應(yīng),令hp=0,則式(15)、(16)與Kong等[12]給出的微米級歐拉-伯努利梁的振動(dòng)控制方程一致。若令he=0,僅考慮單層壓電結(jié)構(gòu);同時(shí),Ansari等[10]取壓電效應(yīng)引起應(yīng)力沿厚度均勻分布,并忽略泊松比影響,則與式(16)一致。

        對于一端固定、一端自由,尺寸相關(guān)的非均質(zhì)/均質(zhì)PZT雙晶片驅(qū)動(dòng)器,應(yīng)用分離變量法,假設(shè)方程的通解為

        w(x,t)=[C1sin(βx)+C2cos(βx)+

        C3sinh(βx)+C4cosh(βx)]·

        sin(ωt+φ)

        (19)

        根據(jù)式(19)可得頻率方程為

        cos(βL)cosh(βL)=-1

        (20)

        式(20)的正根為βiL=1.875, 4.694, 7.855, 10.996, …, (i=1, 2, 3, 4, …)。

        懸臂結(jié)構(gòu)非均質(zhì)/均質(zhì)PZT雙晶片驅(qū)動(dòng)器的自由振動(dòng)方程為

        [sin(βix)-sinh(βix)]}

        (21)

        對于非均質(zhì)PZT雙晶片驅(qū)動(dòng)器,固有頻率為

        (22)

        式中Ee、Ep、Ge、Gp分別表示彈性層和壓電層的彈性模量和剪切彈性模量;z0為中性層到底部壓電層中面的距離(見圖1),且

        (23)

        (24)

        (25)

        若將尺寸參數(shù)設(shè)為0,則式(22)退化為經(jīng)典懸臂結(jié)構(gòu)非均質(zhì)PZT雙晶片的固有頻率為

        (26)

        利用方程(22)、(26),可得非均質(zhì)PZT雙晶片歸一化固有頻率為

        (27)

        對于均質(zhì)PZT雙晶片驅(qū)動(dòng)器,固有頻率為

        (28)

        (29)

        利用式(28)、(29)得到均質(zhì)PZT雙晶片歸一化固有頻率為

        (30)

        2 算例分析

        表1 PZT驅(qū)動(dòng)器相關(guān)材料參數(shù)

        圖3 不同基體厚度的非均質(zhì)PZT雙晶片的

        圖4 不同基體厚度均質(zhì)PZT雙晶片的

        圖5 不同基體材料均質(zhì)PZT雙晶片的

        3 結(jié)論

        本文采用修正偶應(yīng)力理論結(jié)合哈密頓原理,推導(dǎo)了微米尺度均質(zhì)、非均質(zhì)PZT雙晶片驅(qū)動(dòng)器的運(yùn)動(dòng)控制方程和自由振動(dòng)方程,給出了兩種結(jié)構(gòu)的固有頻率。理論模型通過引入的內(nèi)稟尺寸特征參數(shù)成功捕獲了微米尺度結(jié)構(gòu)的尺度效應(yīng),并獲得模型隨結(jié)構(gòu)尺寸、基體材料屬性等的變化規(guī)律,具體如下:

        1) 不同基體材料對于均質(zhì)/非均質(zhì)PZT雙晶片驅(qū)動(dòng)器歸一化固有頻率的影響有限,對均質(zhì)PZT雙晶片驅(qū)動(dòng)器的影響更明顯。

        2) 隨著結(jié)構(gòu)橫、縱向及厚度尺寸的增加,無論均質(zhì)還是非均質(zhì)PZT雙晶片驅(qū)動(dòng)器,歸一化固有頻率均變小,并趨近于1;在結(jié)構(gòu)特征尺寸達(dá)到尺寸參數(shù)5倍時(shí),歸一化固有頻率接近1。

        3) 隨著內(nèi)稟尺寸特征參數(shù)增大,結(jié)構(gòu)的抗彎剛度增加,歸一化固有頻率變大。

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