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        助劑Ga對V2O5-MoO3/TiO2催化劑脫硝性能的影響

        2020-04-25 04:59:36縱宇浩常崢峰
        化工環(huán)保 2020年2期
        關(guān)鍵詞:還原性峰峰拉曼

        黃 力,王 虎,縱宇浩,常崢峰,2,張 鑫

        (1. 大唐南京環(huán)??萍加邢挢熑喂?,江蘇 南京 211111;2. 南京理工大學 化工學院,江蘇 南京 210094)

        為有效降低燃煤電廠煙氣中氮氧化物(NOx)的排放,自2010年起,我國開始推進燃煤電廠脫硝工程的建設(shè)。在各類脫硝技術(shù)中,選擇性催化還原(SCR)因其脫硝效率高、占地面積小等優(yōu)點,得到廣泛應用[1]。工業(yè)SCR脫硝催化劑以釩鈦系為主。近年來,隨著我國對環(huán)境保護的重視,采用有效手段進一步提升SCR脫硝催化劑活性、拓寬催化劑活性溫度窗口,成為環(huán)保領(lǐng)域研究的熱點。

        向釩鈦系脫硝催化劑中引入稀土金屬、過渡金屬等金屬元素助劑,是提升催化劑性能的有效手段。CHEN等[2]和崔晶等[3]分別制備了V2O5-WO3-CeO2/TiO2催化劑,發(fā)現(xiàn)Ce的引入可以明顯提升催化劑的脫硝活性。竇生平等[4]采用溶膠凝膠法和浸漬法制備了Nd摻雜的V2O5/TiO2催化劑,發(fā)現(xiàn)Nd的摻雜提高了催化劑的低溫活性。董國君等[5]的研究表明,Cu,Mn,Ce的添加可改善V2O5-WO3/TiO2催化劑的表面酸性和還原性能,從而拓寬催化劑的活性溫度窗口。目前,如何提升V2O5-MoO3/TiO2催化劑的脫硝性能,鮮見報道。

        本工作使用Ga作為助劑,采用分步浸漬法制備了一系列V2O5-MoO3-Ga2O3/TiO2脫硝催化劑,探討了Ga的引入對V2O5-MoO3/TiO2脫硝催化劑物理化學性質(zhì)的影響,通過對比催化劑的脫硝性能優(yōu)化了Ga的添加量,為工業(yè)化應用提供參考數(shù)據(jù)。

        1 實驗部分

        1.1 材料和試劑

        銳鈦礦型TiO2、硝酸鎵、偏釩酸銨、七鉬酸銨、檸檬酸均為分析純。實驗用氣體采用鋼瓶氣,其中:N2,O2純度均為99.999%;NO體積分數(shù)為2%,N2為平衡氣;NH3體積分數(shù)為2%,N2為平衡氣。

        1.2 催化劑的制備

        稱取10 g銳鈦礦型TiO2置于一定質(zhì)量濃度的硝酸鎵水溶液中,80 ℃水浴攪拌2 h,烘干后,于600℃焙燒4 h,制得不同Ga2O3負載量的Ga2O3/TiO2。將制得的Ga2O3/TiO2浸漬于偏釩酸銨和七鉬酸銨的檸檬酸溶液中,80 ℃水浴攪拌2 h,再經(jīng)烘干,550℃焙燒2 h后,制得V2O5-MoO3-Ga2O3/TiO2系列催化劑。所制備的催化劑中,V2O5負載的質(zhì)量分數(shù)為1.5%,MoO3的質(zhì)量分數(shù)為2.5%,Ga2O3的質(zhì)量分數(shù)為x(x分別為0,0.2%,0.4%,0.6%,0.8%),催化劑分別以VMo/Ti、VMoGa(0.2)/Ti、VMoGa(0.4)/Ti、VMoGa(0.6)/Ti和VMoGa(0.8)/Ti表示。

        1.3 催化劑的表征

        采用X’Pert3 Powder型X射線粉末衍射儀(荷蘭帕納科公司)進行XRD表征;采用Micromeritics ASAP 2000型比表面積測定儀(美國麥克公司)進行N2-吸附脫附實驗;采用AutoChem Ⅱ2920全自動化學吸附儀(美國麥克公司)進行H2-TPR實驗;采用U-3900H型紫外分光光度計(日本日立公司)進行UV-vis分析;采用Renishaw inVia型顯微拉曼光譜儀(英國雷尼紹公司)進行拉曼光譜分析,激發(fā)波長768 nm;采用AutoChem Ⅱ2920型全自動化學吸附儀(美國麥克公司)進行NH3-TPD實驗。

        1.4 脫硝性能評價

        脫硝性能評價在固定床微型反應器(衢州市沃德儀器有限公司)上進行。催化劑裝填量0.5 mL,模擬煙氣中NO和NH3的體積分數(shù)均為5×10-4,O2體積分數(shù)5%,N2為平衡氣。煙氣流量1 L/min,體積空速(GHSV)為120 000 h-1。模擬煙氣中的NO,NO2的體積分數(shù)(φ)采用GA-21plus型煙氣分析儀(奧地利Madur公司)進行分析,并按下式計算脫硝效率:

        2 結(jié)果與討論

        2.1 催化劑的表征結(jié)果

        2.1.1 XRD

        圖1為催化劑的XRD譜圖。由圖1可見,5種催化劑均在2θ為25.5°、37.1°、48.3°、54.1°、55.3°、62.8°、70.3°和75.3°處出現(xiàn)了典型的銳鈦礦型TiO2的衍射峰[6],且衍射峰峰強差異不大,說明V2O5、MoO3和Ga2O3的負載沒有改變TiO2載體的晶型和結(jié)晶度。此外,圖中沒有出現(xiàn)V2O5、MoO3和Ga2O3的特征衍射峰,說明各金屬氧化物在TiO2載體上高度分散。

        圖1 催化劑的XRD譜圖

        表1列出了催化劑的孔結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù)。由表1可見:VMo/Ti催化劑具有最高的BET比表面積和孔體積;隨著Ga2O3質(zhì)量分數(shù)的增加,催化劑的BET比表面積和孔體積逐漸下降,平均孔徑逐漸增大。可見Ga的引入沒有引起TiO2載體晶型的改變,但Ga2O3質(zhì)量分數(shù)增加后堵塞了載體的部分微孔。LEE等[7]在制備Ce改性的Sb-V2O5/TiO2催化劑時,也發(fā)現(xiàn)了類似的現(xiàn)象。

        2.1.2 H2-TPR

        催化劑的H2-TPR譜圖見圖2。由圖2可見:VMo/Ti催化劑在420 ℃附近出現(xiàn)耗氫峰,歸屬于V2O5和MoO3的還原[8-9];VMoGa(0.2)/Ti催化劑在350~500 ℃之間出現(xiàn)了一個較寬的耗氫峰,歸屬于Ga2O3的還原,催化劑的耗氫峰峰頂溫度向低溫方向移動;繼續(xù)增加Ga2O3質(zhì)量分數(shù),耗氫峰峰頂溫度向低溫方向移動趨勢更加明顯,說明Ga的引入提升了催化劑的還原性能。

        表1 催化劑的孔結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù)

        圖2 催化劑的H2-TPR譜圖

        2.1.3 UV-vis和拉曼光譜

        圖3a為催化劑的UV-vis光譜。根據(jù)文獻[10]報道,釩鈦系脫硝催化劑的紫外吸收邊波長對VOx物種的結(jié)構(gòu)較為敏感,VOx物種聚合程度越高,紫外吸收邊波長越大。由圖3a可以看出:VMo/Ti催化劑在412 nm處出現(xiàn)紫外吸收邊;對于VMoGa/Ti催化劑,隨著Ga2O3質(zhì)量分數(shù)的增加,催化劑的紫外吸收邊由405 nm逐步降低至391 nm,表明Ga的引入抑制了催化劑上VOx物種的聚合。

        圖3b為催化劑的拉曼光譜圖。由圖3b可見:VMo/Ti催化劑分別在800,970,1 065 cm-1處出現(xiàn)拉曼吸收峰,其中,800 cm-1處的峰歸屬于MoO3[11],972 cm-1處的峰為聚合釩中V—O—V鍵的吸收峰[12],1 065 cm-1處的峰對應于單體釩中V=O鍵的振動[8];VMoGa/Ti催化劑在800 cm-1和1 065 cm-1處的拉曼吸收峰無明顯變化,而對應于聚合釩的拉曼吸收峰卻隨著Ga2O3質(zhì)量分數(shù)的增加,逐漸向低波數(shù)方向移動。說明負載Ga后,對催化劑上MoOx物種的影響不大,但降低了催化劑上VOx物種的聚合度。

        圖3 催化劑的UV-vis譜圖(a)和拉曼光譜圖(b)

        2.1.4 NH3-TPD

        圖4為催化劑的NH3-TPD譜圖。由圖4可見:5種催化劑均在300~500 ℃之間出現(xiàn)NH3脫附峰;對比VMo/Ti催化劑,VMoGa(0.2)/Ti催化劑的NH3脫附峰峰面積略有減?。浑S著Ga2O3質(zhì)量分數(shù)繼續(xù)增加,催化劑的NH3脫附峰峰面積進一步減小,說明Ga的添加減少了催化劑的酸性位。

        2.2 催化劑的脫硝性能

        催化劑的脫硝效率見圖5。由圖5可見:當溫度低于340 ℃時,VMo/Ti催化劑的脫硝效率較低,250 ℃時催化劑的脫硝效率僅為59.5%;VMoGa(0.2)/Ti催化劑在低溫段的脫硝效率有了大幅提升,脫硝活性溫度窗口拓寬;VMoGa(0.2)/Ti催化劑在250,280,310 ℃的脫硝效率分別達到81.8%、91.3%和97.9%;繼續(xù)提升Ga2O3質(zhì)量分數(shù),催化劑的脫硝效率開始降低;VMoGa(0.8)/Ti催化劑在中高溫段(>350 ℃)的脫硝效率也有了明顯的下降。研究表明,SCR反應遵循E-R機理:1) NH3吸附在催化劑表面的Br?nsted酸位上形成—NH4+;2)—NH4+被V5+=O氧化成為—NH3+,同時V5+=O被還原為H—O—V4+;3) —NH3+與氣相的NO反應生成N2和H2O;4) H—O—V4+被空氣中的O2重新氧化成為V5+=O[13-14]。脫硝催化劑的還原性能和酸性性能對脫硝反應都有重要作用,適量Ga(0.2%和0.4%)的添加,有效提升了催化劑的還原性能,有利于提升催化劑的脫硝效率;而過量的Ga(0.6%和0.8%)則顯著降低了催化劑的酸性性能,導致催化劑的脫硝效率下降。

        圖4 催化劑的NH3-TPD譜圖

        圖5 催化劑的脫硝效率

        3 結(jié)論

        a) 以Ga作為助劑,采用分步浸漬法制備了一系列不同Ga2O3質(zhì)量分數(shù)的V2O5-MoO3-Ga2O3/TiO2脫硝催化劑,表征結(jié)果顯示,Ga的添加可以提升催化劑的還原性能,對催化劑上MoOx物種的影響不大,但降低了催化劑上VOx物種的聚合度,Ga的添加還減少了催化劑的酸性位。

        b)當Ga2O3質(zhì)量分數(shù)為0.2%時,V2O5-MoO3-Ga2O3/TiO2催化劑的脫硝性能最佳。

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